IMPLANTOR ION DAN APLIKASINYA 

Laporan Kunjungan Mahasiswa Pascasarjana Pendidikan Fisika UAD ke PSTA BATAN Yogyakarta

Oleh: Arman La Aca (1807041016), Ngadinem (1807041004), M. Rizal 

Firdaus (1808041029), Ulfiana Prisdiansari (1708041041), Willi 
Anindita Wijanarka (1707041001). 

 
 

PROLOG 
Teknik implantasi ion adalah salah satu cara perlakuan permukaan material untuk mengubah
sifat fisis, mekanis maupun sifat ketahanan korosi material, misalnya kekerasan permukaan,
ketahanan aus, ketahanan korosi, ketahanan lelah. Dibanding dengan cara-cara yang biasa
dilakukan seperti karburasi, nitridasi, karbonitridasi dan dapur nyala api, implantasi ion memiliki
keunggulan yang tidak mengalami ​thermal stress​ dan perubahan dimensi (sioshani, 1989). 

CARA KERJA IMPLANTOR ION 

Komponen-komponen implantor ion adalah sebagai berikut: 

Sumber: PSTA BATAN Yogyakarta 

Keterangan : 
1. Sumber tegangan tinggi 
2. Sumber ion tipe penning 
3. Penyangga terisolasi 
4. Landasan 
5. Tabung Akselerator 

 
 

6. Lensa Kwadrupol 
7. Magnet analisator 
8. Penyapu berkas 
9. Pompa difusi 
10. Pompa rotasi 
  Implantor  ion  merupakan  salah  satu  jenis  akselerator  yang  mempercepat 
partikel  bermuatan  listrik  (ion).  Ion-ion  ini  dihasilkan  oleh  sumber ion yang 
dapat  berwujud  gas/uap  (misal  hidrogen,  fosfor,  boron,  nitrogen)  atau 
berupa  padatan  (misal  besi,  nikel,  aluminium  dan  lain-lain).  ​Ion-ion 
tersebut  dipercepat  menggunakan  sumber  tegangan  tinggi  di  dalam  tabung 
akselerator.  Kemudian  berkas  ion  difokuskan  menggunakan  lensa  kwadrupol. 
Implantor  ion  dilengkapi  dengan  pompa difusi dan pompa rotari yang berfungsi 
untuk  menghampakan  sistem  implantor  ion  agar  ion  dapat  mencapai 
sasaran  tanpa  mengalami  tumbukan  dengan  sisa  molekul  gas  dalam  sistem 
implantasi  ion.  Ion-ion  tertentu  kemudian  dicangkokkan  ke  permukaan  benda. 
Penyapu  berkas  terdiri  dari  dua  pasang  lempeng  alumunium  yang dipasang saling 
tegak  lurus  untuk  membantu  ion  tersebar  merata  pada  permukaan  target. 
Parameter  yang  berpengaruh  terhadap  hasil  akhir  adalah  jenis  ion  yang 
ditembakkan  ke  substrat,  energi,  dosis  ion,  dan  jenis  material  yang 
akan  dilapisi.  Selama  proses  implantasi  ion-ion  akan  berinteraksi  dan 
bertumbukan  dengan  elektron-elektron  dan  inti  material  yang  dilapisi, 
sehingga  ion-ion  akan  kehilangan  energi  dan  akhirnya  akan  berhenti 
pada jarak tertentu. 
 

Aplikasi Implantor Ion  

Aplikasi  implantor  ion  dapat  dibedakan  menjadi  tiga  bidang  yaitu 
bidang  sains  dasar,  bidang  pendidikan,  dan  bidang  industri.  Aplikasi 
implantor  ion  di  ​bidang  sains  dasar  ​adalah  sebagai  alat  pengukuran 
profil  distribusi  ion  dalam  bahan.  Dalam  ​bidang  pendidikan  implantor 
ion  di  BATAN  digunakan  untuk  penelitian  mahasiswa  S1,  S2,  dan  S3. 
Implantor  ion  banyak  diaplikasikan  dalam  bidang  industri.  Aplikasi 
dalam  ​bidang  industri  ​antara  lain  fabrikasi  komponen  elektronik  (ie: 

 
 

solar  cell,  transistor),  fabrikasi  lapisan  tipis  untuk  sensor  gas (CO, 

jamu,  tembakau,  aroma  buah  dan  bunga,  dll),  fabrikasi  lapisan  tipis 
untuk  sensor  medan  magnet  lemah  (sensor  otak),  surface  treatment 
(perlakuan  permukaan).  Perlakuan  permukaan  dilakukan  untuk  peningkatan 
kekerasan  suatu  logam,  peningkatan  ketahanan  aus,/gesek  suatu 
komponen,  peningkatan  kemampuan  suatu  komponen,  dan  peningkatan  sifat 
ketahanan  terhadap  korosi  atau  oksidasi  pada  suatu  logam. 

 
 

 
 

REFERENSI 
(1) Aip Saripudin. 2004. 
http://file.upi.edu/Direktori/FPTK/JUR._PEND._TEKNIK_ELEKTRO/197004182005011-
AIP_SARIPUDIN/Hibah_Bersaing/Materi_SIB_2004.pdf​ (diakses 25 Juli 2019). 

(2) Anonim. ​Mesin Implantasi Ion.​ Yogyakarta: PSTA BATAN Yogyakarta