SPIN COATING (1115100055) - PRAKTIKUM FISIKA LABORATORIUM 2017
Pembuatan Lapisan Tipis dari Larutan MMA
Menggunakan Metode Spin Coating
Puri Olyvia Swastika, Muhadha Shalatin, Annisa Nurul Aini, M. Zainuri
Departemen Fisika, Fakultas Ilmu Alam
Institut Teknologi Sepuluh Nopember (ITS)
Jl. Arief Rahman Hakim, Surabaya 60111 Indonesia
email: annisa@tantowi.com
Abstrak Telah dilakukan percobaan Pembuatan
Lapisan Tipis dari larutan MMA Menggunakan Metode Spin
Coating..Tujuan dari percobaan ini adalah untuk menbuat dan
memahami lapisan tipis pada larutan MMA). Prinsip yang
digunakan pantulan internal total, pandu gelombang dan
berdasarkan pada hukum pemantulan Snellius. Alat dan bahan
diantaranya adalah kaca preparat, kertas ampelas, mikroskop,
alkohol, spin coater, pipet tetes, hairdryer, software supereyes, dan
larutan MMA (Methyl Methacrylate). Percobaan dilakukan
dengan meneteskan larutan MMA pada kaca preparat,
kemudian diletakkan di spin coater dan spin coater diputar
selama 2 menit. Pengamatan lapisan tipis dilakukan
menggunakan mikroskop dan dishoot hasilnya menggunakan
aplikasi paint. Variasi yang digunakan pada percobaan ini adalah
variasi kecepatan putar spin coater yaitu 1000, 1500 dan 2000
rpm. Berdasarkan hasil percobaan dengan judul Pembuatan
Lapisan Tipis Larutan MMA dengan Metode Spin Coating
maka dapat dianalisa bahwa pada kaca dengan perputaran spin
coater 1000 rpm didapatkan hasil ketebalan 0,000456357 m, pada
kaca dengan perlakuan perputaran spin coater sebesar 1500 rpm
didapatkan hasil 0,000516659 m dan pada kaca dengan
perlakuan perputaran spin coater sebesar 2000 rpm didapatkan
hasil 0,000496277 m. Dapat diketahui hubungan ketebalan
lapisan tipis dan variasi kecepatan didapatkan bahwa semakin
besar kecepatannya, maka lapisan yang diperoleh akan sangat
tipis sehingga sifat optiknya lebih baik.
Kata Kunci Fiber Optik, Hukum Snellius, Konsentrasi,
Pemantulan, Rugi Daya.
I. PENDAHULUAN
alah satu tahapan penting dalam berbagai penelitian saat
S ini adalah pembentukan lapisan tipis. Lapisan tipis
berbasis polimer organik merupakan bagian yang sangat
penting dalam perkembangan teknologi fotonik seperti untuk
integrated optics, laser, LED, sel surya dan divais optik
nonlinier. Lapisan tipis untuk pandu gelombang planar harus
transparan, mempunyai indeks bias dan ketebalan yang
homogen, dan mempunyai permukaan yang halus.
Mendapatkan lapisan tipis yang berkualitas baik merupakan
kendala utama untuk aplikasi, sehingga banyak upaya yang
dilakukan berkaitan dengan hal tersebut. Ada beberapa teknik
yang biasa dipakai untuk pembuatan filmtipis dari bahan
organik antara lain vakum evaporasi, doctor-blading, spin-
coating dan dip-coating. Teknik Spin coating merupakan
suatu metode yang umum dan sederhana untuk pelapisan
material polimer pada wafer silikon. Spin coating dapat
digunakan untuk menumbuhkan film tipis dielektrik dengan
kualitas yang baik dan murah. Kualitas film tipis yang
ditumbuhkan dengan metode ini sangat peka terhadap
1
parameter fabrikasi yang digunakan, antara lain pelarut,
substrat dan temperatur annealing. Namun hasil sebaran
larutan film tipis sebagian tidak merata pada semua bagian
substrat sehingga ketebalannya juga berbeda-beda akibat dari
perputaran pada saat meneteskan cairan pada substrat. Oleh
karena itu perlu dicari kecepatan putaran () spin coating
untuk menghasilkan sebaran film tipis yang merata dengan
menggunakan larutan Polymethyl Methacrylate (PMMA).
Metode spin coating dapat diartikan sebagai sebuah metode
pembentukan lapisan tipis melalui proses pemutaran atau spin.
Bahan yang akan dibentuk lapisan tipis dibuat dalam bentuk
larutan atau gel, yang kemudian diteteskan diatas suatu
substrat (dalam hal ini adalah FTO) dan disimpan diatas
piringan, yang dapat berputar dengan kecepatan yang cukup
tinggi. Karena adanya gaya sentripetal ketika piringan tersebut
berputar maka bahan tersebut akan tertarik ke pinggir substrat
dan tersebar secara merata. Sketsa putaran dapat dilihat pada
gambar 1 dibawah ini [1].
Gambar 1 Piringan Berputar Spin Coating
Pada metode spin coating ini memiliki empat tahapan
dasar, yaitu tahap penetesan cairan (deposition), spin-up,
spin-off dan evaporasi. Pada tahap pertama, cairan (brupa gel)
dideposisikan di atas permukaan substrat. Pada tahap deposisi
substrat belum diputar. Kemudian pada spin-up, substrat mulai
diputar. Akibat gaya sentrifugal dan turbulensi cairan, cairan
menjadi tersebar secara radial keluar dari pusat putaran
menuju tepi piringan. Pada tahap ini substrat mengalami
percepatan. Sedangkan pada spin-off dan evaporasi, laju
putaran mulai konstan, dimana tidak ada percepatan sudut
pada substrat (d/dt=0). Pada tahap spin-off sebagian cairan
yang berlebih akan menuju ke tepi substrat dan akhirnya
terlepas dar substrat membentuk tetesan-tetesan. Semakin
menipis lapisan yang terbentuk semakin berkurang tetesan-
tetesan yang tebuang. Hal ini dipengaruhi oleh adanya
penambahan hambatan alir dan viskositas pada saat lapisan
semakin tipis. Tahap terakhir, evaporasi merupakan
mekanisme utama dari proses penipisan lapisan, yang mana
pada tahap ini terjadi penguapan larutan [2].
SPIN COATING (1115100055) - PRAKTIKUM FISIKA LABORATORIUM 2017
Gambar 2 Skema Tahapan Spin Coating
Pandu gelombang adalah alat untuk memandu gelombang
atau mengarahkan penjalaran gelombang pada arah dan pola
tertentu. Gelombang electromagnet umum yang tak
terpolarisasi bidang, dapat diarahakan penjalarannya ke arah
tertentu melalui rongga pandu gelombang (wave guide).
Bentuk rongga pandu gelombang yang umum digunakan
adalah segi empat panjang dan silinder dengan bahan dari
konduktor. Syarat pandu gelombang bahwa lapisan tipis yang
didapatkan ini harus transparan, mempunyai indeks bias,
ketebalan yang homogen, serta mempunyai permukaan yang
halus.
Cahaya akan dipandu ke dalam pandu gelombang dengan
prinsip pemantulan sempurna (total internal reflection). Dalam
piranti film tipis, papah disebut sebagai film, dan bahan bagian
atas dan bawah disebut pelindung (cover) dan substrat. Bahan
bagian dalam disebut core, sedangkan bagian luar disebut
selubung (cladding) dari pandu gelombang. Pada Sub-bab ini,
akan dibahas perambatan cahaya dalam pandu gelombang
planar dielektrik simetris terbuat dari suatu papah dengan
lebar d dan indeks bias n1 yang dikelilingi oleh suatu selubung
dengan indeks bias yang lebih kecil n2, sebagaimana
diilustrasikan dalam gambar 3. Semua bahan diasumsikan
tidak mempunyai koefisien absorpsi (losses)[3].
Gambar 3 Berkas-berkas cahaya membentuk suatu sudut < c = cos-1
(n2/n1) dipandu oleh pemantulan sempurna (total internal
reflection)
Sudut bias akan lebih besar dari sudut datang ketika cahaya
merambat dari bahan yang berindeks bias besar ke bahan
lainnya yang berindeks bias lebih kecil. Willebrord Snellius,
menemukan bahwa terdapat suatu hubungan matematis antara
indeks bias kedua bahan dengan nilai sinus dari sudut-sudut
sinar.
n1 sin 1 = n2 sin 2.(1) densitas 0.936 pada 20/4C , berupa cairan yang tak berwarna
Dimana n1 dan n2 secara berturut-turut adalah nilai indeks bias
bahan pertama dan bahan kedua, sedangkan 1 dan 2 secara
berturut-turut adalah sudut datang dan sudut bias.
2
Sudut perambatan sinar sinar cahaya akan bertambah jika
sinar memasuki sebuah bahan dengan indeks bias yang lebih
kecil. Jika sudut datang sinar (di dalam bahan pertama)
menuju bidang perbatasan terus diperbesar, akan tercapai
suatu titik dimana sudut bias menjadi bernilai 900 dan sinar
akan merambat sejajar dengan bidang perbatasan di dalam
bahan kedua. Sudut datang yang menyebabkan terjadinya hal
ini disebut sebagai sudut kritis. Kita dapat menghitung nilai
sudut kritis dengan mengambil nilai sudut bias sebesar 900.
Karena nilai sin 900 adalah 1, maka kita dapat menyusun
kembali persamaan di atas untuk mendapatkan sin 1 dan
kemudian nilai sudut 1 (yang dalam kasus ini adalah sudut
kritis yang kita bicarakan) [4].
kritis = arcsin n2/ n1 (2)
Jika cahaya merambat dengan sudut datang yang kurang dari
sudut kritis, maka cahaya akan dibiaskan keluar dari bahan
pertama sebagaimana telah kita ketahui dari penjelasan-
penjelasan sebelumnya. Akan tetapi, jika cahaya merambat
menuju bidang perbatasan dengan sudut datang yang lebih
besar dari sudut kritis, maka cahaya tersebut akan dipantulkan
kembali (oleh bidang perbatasan) ke dalam bahan pertama.
Dalam kasus ini, bidang perbatasan hanya berperan sebagai
sebuah bidang pantul (cermin). Efek semacam ini disebut
sebagai pemantulan internal sempurna[5].
Ketebalan lapisan yang terbentuk ditentukan oleh dua
parameter utama yaitu viskositas dan laju putaran disamping
parameter tersebut waktu dan kerapatan cairan atau larutan
juga termasuk parameter. Kecepatan putar merupakan salah
satu factor terpenting dalam proses spin coating. Kecepatan
putar pada substrat berpengaruh terhadap sudut gaya
sentrifugal yang mengenai cairan resin selain kecepatan dan
turbulensi udara diatasnya. Secara lebih spesifik tingkat
kecepaatan putar yang tinggi menentukan ketebalan yang
terbentuk.
Kecapatan pada spin coating sangatlah berpengaruh terhadap
larutan dari lapisan tipis yang dihasil dari metode spin coating
ini. Untuk mendapatkan kecapatan atau kelajuan dari spin
coating ini, persamaan yang digunakan adalah
Fsp = m2r..(3)
Dimana Fsp adalah gaya sentripetal dan adalah kecepatan
sudut pada spin coating[4].
Methyl Methacrylate adalah suatu substrat yang
digunakan pada percobaan ini, substrat ini dari bahan akrilik,
mengapa memakai bahan ini karena substrat dengan bahan ini
indeks biasnya tidak terlalu berbeda jauh dengan indeks bias
suatu lapisan tipis meskipun masih lebih kecil dari indeks
biasnya lapisan tipis, dengan menggunakan substrat ini
diharapkan pandu gelombang yang difabrikasi dapat memandu
gelombang dengan baik. Rumus molekul CH2CCH3COOCH3,
berat molekul 100.11, titik didih 100C, titik beku -42.2C ,
atau padatan tak berwarna, larut dalam air dan dapat terbakar,
beracun dan bahan iritant [6].
SPIN COATING (1115100055) - PRAKTIKUM FISIKA LABORATORIUM 2017 3

II. METODOLOGI PERCOBAAN Kemudia simpan gambar dan buka gambar melalu aplikasi
A. Alat dan Bahan paint. Untuk mencari titik pergeseran cari titik di antara
gambar 1 dan gambar 2 lbuka kedua gambar tersebut dengan
Alat dan bahan yang digunakan adalah beberapa kaca
preparat berfungsi sebagai substrat, kertas amplas untuk menggunakan aplikasi paint lalu ambillah sebuah titik yang
menghaluskan dan mengkilatkan kaca, mikroskop digunakan sama di antara gambar dan arahkan pada titik tersebut lalu
untuk melihat hasil lapisan tipis, pipet tetes untuk meneteskan catat titik x dan y yang muncul pada gambar 1 untuk pixel
larutan, hairdryer untuk mengeringkan kaca yang sudah awal dan nilai x y pada gambar dua untuk pixel akhir.
dicuci, software super eyes untuk melihat lapisan tipis yang Lakukan hal yang sama hingga gambar ke enam. Untuk
terbentuk,larutan MMA larutan yang digunakan pada proses mencari titik ketebalan buka gambar satu dan dua untuk
pembentukan lapisan, air untuk mencuci dan membersihkan kecepatan 1000rpm lalu arahkan kursor kebagian gambar
kaca dari proses penggosokan menggunakan amplas, alcohol substract yang muncul pada layar yang paling atas untuk titik
96% untuk mensterilkan kaca, spin coater digunakan untuk atas, bagian tengah untuk titik tengah dan bagian bawah untuk
membentuk lapisan tipis.
titik bawah lalu catat nilai x dan y pada gambar 1 untuk pixel
B. Metodologi awal dan xy pada gambar dua untuk pixel akhir. Di lakukan
hal yang sama untuk kecepatan 1500rpm dan 200rpm.
Pada percobaan ini digunakan 4 macam substrat. Dan
dilakukan empat perlakuan, yaitu percoaan dengan pemutaran A. Skema Alat
1000rpm, 1500rpm, 2000rpm, dan tanpa perlakuan apa apa.
Berikut adalah skema alat yang digunakan pada
Empat macam substrat dipersiapkan dengan cara tiap kaca percobaan spin coating :
preparat dipotong dengan panjang 2cm, lalu substrat yang
telah dipotong kemudian di amplas sisi sisinya hingga halus
dan tidak terlihat bagian yang mengkilap. Setelah itu substrat
disterilkan dengan cara disiram dengan alkohol. Setelah
substrat disterilkan, substrat ditandai dan diukur panjang sisi
sisinya. Setelah substrat siap, lakukan percobaan dengan
perlakuan pertama. Pertama tama substrat dimasukkan
kedalam mesin spin coater, lalu gas penghisap dinyalakan
hingga dapat dipastikan substrat menepel pada alat spin coater.
Setelah itu larutan MMA diteteskan diatas substrat sebanyak
dua tetes. Kemudian spin coater dinyalakan dengan kecepatan
1000rpm dalam waktu dua menit. Setelah substrat diputar
selama dua menit, alat dimatikan. Kemudian substrat
dibiarkan tanpa ada perlakuan. Setelah substrat dibiarkan, (a)
lakukan percobaan dengan perlakuan 1500 rpm dan 2000rpm.
Percobaan selanjutnya dilakukan dengan teknik khusus,
dimana ketika dilakukan percobaan 1500rpm atau 2000rpm ,
alat harus dinyalakan secara bertahap dari kecepatan putar
rendah menuju kecepatan putar tinggi. Dan juga ketika alat
dimatikan, alat harus dimatikan secara bertahap dari kecepatan
putar tinggi menuju kecepatan putar rendah. Kemudian
substrat diamati pada miksroskop, dari percobaan didapat
tebal lapisan tipis.
Untuk menganalisa karakteristik lapisan MMA yaitu
dengan cara mengamati hasil tadi dengan menggunakan
mikroskop optic caranya dengan menggeser-geser tombol (b)
fokus dan menggeser letak dari subtract yang akan di amati Gambar 4. Skema Alat Spin Coating Skema Kerja Percobaan
hingga mendapatkan bagian yang rapi dan halus tanpa adanya (a). Tahap Fabrikasi Lapisan Tipis (b). Tahap Karakteristik
Lapisan Tipis
lubang pada gambar, kemudia shoot gambar dan simpan
gambar. Lakukan percobaan ini sebanyak 6 kali dengan B. Flowchart
pergeseran 0,5 mm untuk mendapatkan gambar agar dapat Berikut ini di sajikan gambar 5 yang merupakan
mendapatkan nilai pixel, kemudian lakukan untuk substract flowchart pada percobaan spin coating yang telah di lakukan.
dengan kecepatan 1500 rpm dan 2000 rpm dengan perlakuan
yang sama akan tetapi hanya di lakukan sebanyak dua kali.
SPIN COATING (1115100055) - PRAKTIKUM FISIKA LABORATORIUM 2017 4

B. Perhitungan
Mulai
Setelah mendapatkan data, dilakukan sebuah perhitungan
seperti berikut:
1. Kalibrasi pada substrat terlapisi dengan kecepatan 1000rpm
Kaca preparat dipotong menjadi 4 buah Diketahui: pixel awal (x,y) = (659,409)
Pixel akhir (x,y) = (653,417)
Kaca preparat (substrat) diamplas pada bagian sisi Ditanya: Kalibrasi = rata-rata pixel ?
substrat yang panjang Jawab: pixel = ( )2 + ( )2
pixel = (659 653)2 + (409 417 )2
Substrat disterilkan dengan alkohol 96% = 1613,194
2. Nilai per 1pixel dalam meter
Substrat ditetesi larutan MMA dan dimasukkan Diketahui : pergeseran = 0.5mm = 0.0005 m
pada spin coater pixel rata-rata= 1613,194
Ditanya : Nilai per 1pixel dalam meter ?
pergeseran
Gas penghiasap diputar , spin coater dinyalakan Jawab : 1pixel =
Ratarata pixel
dan diputar dengan kecepatan yang ditentukan 0.0005
1pixel = = 3,09944 107 m
1508,527
= 0,30994415
Apakah sudah Belum 3. Nilai pixel tiap variasi
dilakukan variasi Nilai pixel tiap variasi putaran didapat dengan cara
kecepatan putar? menghitung di tiga titik pada lapisan tipis, yaitu titik atas,
tengah dan bawah, seperti contoh berikut:
Diketahui : data pixel awal dan akhir dari substrat
Ya
terlapisi yang diputar dengan kecepatan 1000rpm
Tebal lapisan diamati dengan mikroskop dan Pixel awal bagian atas (x,y) = (629,311)
softwarelogitechwebcam Pixel akhir bagian atas (x,y) = (613,323)
Ditanya : Nilai pixel tiap variasi ?
Pixel gambar awal dan pixel Jawab : pixel = ( )2 + ( )2
gambar pergeseran 0,5 mm pixel = (629 613 )2 + (311 323)2
= 1394,46
Pixel tebal lapisan atas, tengah dan Dilakukan perhitungan seperti diatas untuk bagian tengah dan
bawah bawah. Perhitungan ini dilakukan juga pada substrat variasi
yang lain yang hasilnya terdapat pada tabel

4. Nilai ketebalan lapisan tipis

Apakah substrat sudah Belum Nilai ketebalan lapisan tipis dihitung dengan cara
dikarakterisasi semua? berikut:
Diketahui: Rata-rata pixel substrat 2000rpm = 1601,181
1 pixel = 3,09944 107 m
Ya Ditanya: Nilai ketebalan lapisan tipis ?
Jawab: n = pixel 1pixel
Selesai = 1601,181 (3,09944 107 )
= 0,000496277 m
Ganbar 5. Flowchart pada percobaan Tabel 1
Data Hasil Perhitungan Kalibrasi Ketebalan Lapisan Tipis
II. HASIL DAN DISKUSI Pergeseran Pixel Awal Pixel Akhir pixel
x y x y
A. Analisa Data 1
659 409 653 417 1550,361
Berdasarkan percobaan Pembuatan Lapisan Tipis 2
Larutan MMA Dengan Menggunakan Teknik Spin Coating 653 417 701 399 1580,877
3
yang telah dilakukan, maka didapatkan data hasil percobaan 701 399 723 397 1631,377
perhitungan yaitu kalibrasi dan ketebalan lapisan tipis yang 4
723 397 715 403 1645,553
terbentuk. yang kemudian data-data yang dapat ditampilkan 5
di dalam tabel 1 untuk kalibrasi ketebalan, tabel 2, 3, dan 4 715 403 737 397 1657,801
Rata-rata 1613,194
untuk perhitungan pixel substrat dan tabel 5 untuk
perhitungan ketebalan lapisan tipis .
SPIN COATING (1115100055) - PRAKTIKUM FISIKA LABORATORIUM 2017 5

Tabel 2.
Data Hasil perhitungan pixel substrat 1000rpm
Titik Pixel Awal Pixel Akhir pixel
Grafik Hubungan
x y x y
Atas
629 311 613 323 1394,46
Kecepatan Putar terhadap
Tengah
645 355 635 379 1475,519 Tebal Lapisan
Bawah
659 405 653 415 1547,173 540.000
Rata-rata 1472,384 516.659
520.000

Tebal Lpaisan (m)

496.277
500.000
Tabel 3.
Data Hasil perhitungan pixel substrat 1500rpm 480.000
456.357
Titik Pixel Awal Pixel Akhir pixel 460.000
x y x y 440.000
Atas
749 271 767 267 1608,633
Tengah
420.000
763 321 777 317 1666,927 1000rpm 1500rpm 2000rpm
Bawah
773 361 793 363 1725,263 Kecepatan Putar (rpm)
Rata-rata 1666,941
Gambar 6. Grafik Hubungan Kecepatan Putar Terhadap Tebal
Lapisan
Tabel 4. hal ini dilakukan supaya ketika melakukan pegamatan dengan
Data Hasil perhitungan pixel substrat 2000rpm menggunakan mikroskop batas substrat dan lapisan tipis
Titik Pixel Awal Pixel Akhir pixel terlihat jelas. Setelah keempat substrat dihalusi sisi sisinya,
kemudian dilakukan pembersihan substrat dengan disiram
x y x y
Atas
dengan alkohol. Penggunaan alkohol bertujuan untuk
713 283 729 285 1549,835 membersihkan kaca substergunarat dan juga b untuk
Tengah menjernihkan kaca, karena kaca yang buram karena debu dan
725 321 743 321 1602,245
Bawah noda tangan akan tidak bersih jika hanya dibilas menggunakan
737 355 755 353 1651,462 air. Sehingga ketika menggunakan pembersihan dengan
Rata-rata 1601,181 alkohol akan menjernihkan kaca dan kaca yang jernih akan
mempengaruhi uji kualitas dari lapisan tipis, dimana lapisan
yang baik seharusnya homogen dan tidak tampak atau bening.
Tabel 5. Proses pengeringan subtrat setelah disterilkan dilakukan
Hasil perhitungan ketebalan lapisan tipis supaya pada saat melakukan proses spin coating, larutan yang
Variasi Kecepatan Putaran Ketebalan Lapisan Tipis (m) diteteskan tidak menggumpal dititik-titik tertentu yang masih
basah. Ketika proses pengamblan substrat pun tidak boleh
1000rpm 0,000456357 langsung mengukakan tangan kosong, melainkan
menggunakan pinset. Hal tersebut dilakukan supaya debu
1500rpm 0,000516659
yang menempel pada tangan tidak mengotori substrat. Pada
2000rpm 0,000496277 saat peletakkan substrat, knop penyedot substrat dibuka
kemudian ditutup kembali hingga substrap benar benar
menempel pada alat. Hal ini dilakukan supaya substrat tidak
C. Grafik terlempar ketika dilakukan pemutaran. Setelah itu dilakukan
Berikut adalah grafik dari tebal lapisan tipis (sumbu y) penetesan larutan MMA, penetesan larutan dilakukan ditengah
dan variasi kecepatan putar (sumbu x) yang di sajikan dalam permukaan substrat bertujuan supaya penyebaran dapat
gambar 6. menyebar ke segala arah dan tepiannya sama rata, sehingga
lapisan tipis yang terbentuk akan homogen. Sebelum
D. Pembahasan melakukan pemutaran, substrat ditutupi oleh wadah, supaya
larutan tidak menyebar dan mengotori daerah sekitar alat spin
Dalam melakukan percobaan ini, telah dilakukan percobaan coating. Penambahan kecepatan putaran dilakukan secara
yang sesuai dengan langkah kerja yang telah dicantumkan bertahap dari rendah ke tinggi supaya lompatan larutannya
pada bab II. Dan tiap langkah yang dilakukan memiliki tidak terlalu jauh, dan hal serupa dilakukan ketika
maksudnya tertentu. Pada tahapan persiapan, dilakukan memberhentikan alat
pemotongan sebesar 2cm, hal tersebut dilakukan supaya luas Larutan yang digunakan dalam percobaan ini adalah
permukaan untuk setiap substrat sama. Setelah itu dilakukan larutan MMA. Alasan digunakannya larutan ini dikarenakan
penghalusan sisi sisi substrat, sifat dari larutan MMA yang memiliki kekentalan (viscositas)
SPIN COATING (1115100055) - PRAKTIKUM FISIKA LABORATORIUM 2017
yang cukup tinggi dibandingkan dengan larutan yang lainnya.
Hal ini penting supaya larutan tidak bertumpahan dan
berceceran kemana-mana saat diteteskan pada substrat.
Digunakan larutan Methyl Methacrylate (MMA) dikarenakan
larutan tersebut memiliki indeks bias lebih besar dari substrat
dan juga udara. Sehingga dapat terjadi pemantulan dalam
total. Sebab prinsip dari pembuatan lapisan tipis adalah
dengan menumbuhkan suatu lapisan tipis berindeks bias tinggi
di atas substrat yang berindeks bias lebih rendah. Sehingga
dari proses ini akan dihasilkan lapisan tipis pemandu
gelombang diantara lapisan berindeks bias rendah. Sehingga,
cahaya terbentuk pantulan dalam total (pantulan internal total)
pada bidang batas film-substrat dan film-cover.
Dapat dilihat pada tabel 1 yang diperoleh, pada kaca dengan
perputaran spin coater sebesar 1000 rpm didapatkan hasil
ketebalan 0,000456357 m, pada kaca dengan perlakuan
perputaran spin coater sebesar 1500 rpm didapatkan hasil
0,000516659 m dan pada kaca dengan perlakuan perputaran
spin coater sebesar 2000 rpm didapatkan hasil 0,000496277
m. Sedangkan kaca yang tidak dikenai perlakuan apa-apa tidak
dicari ketebalannya hanya diambil gambar pada mikroskop
saja.
Berdasarkan hasil yang kita dapat bahwa pada kecepatan
lebih tinggi mendapatkan lapisan yang tipis. Akan tetapi pada
data kami ketebalan lapisan yang paling tipis berada pada
putaran 1500rpm hal ini mungkin di karena saat pengambilan
titik tengah atau penghalusan subtrat yang kurang maksimal
Dalam percobaan ini bukan hanya pengaruh dari kecepatan
spin coanting saja dalam mendapatkan lapisan tipis yang lebih
kecil ketebalan lapisan tipisnya. Melainkan terdapat beberapa
factor yaitu dari pemberian banyaknya larutan yang di
teteskan, lalu waktu pemutaran spin coanting, substrat yang
digunakan, dan larutan apa yang digunakan pada percobaan
ini.
Faktor pertama adalah pemberian jumlah atau banyaknya
larutan yaitu sebanyak satu tetes pada substrat. Hal ini
dilakukan agar dihasilkan lapisan tipis yang didapatkan
memiliki ketebalan yang kecil, karena semakin kecil
ketebalan lapisan tipis yang didapatkan maka semakin bagus
lapisan ini digunakan untuk pemandu gelombang. Apabila di
berikan dua tetes atau lebih dapat mempengaruhi ketebalan
lapisan yang didapatkan hal ini mempengaruhi hasil yang
didapatkan ketika lapisan tipis ini saat digunakan sebagai
pemandu gelombang.
Kemudian faktor kedua yaitu waktu yang dibutuhkan
untuk memutar spin coanting. Pada percobaan ini faktor
waktu sangat mempengaruhi karena semakin banyak waktu
yang digunakan untuk memutarkan spin coanting maka akan
menghasilkan lapisan yang sangat tipis ataupun sulit untuk
didapatkan karena semakin banyak putaran yang digunakan
maka semakin banyak larutan yang hilang atau tidak melekat
pada substrat.
Lalu faktor yang ketiga adalah substrat yang digunakan.
Pada dasarnya substrat ini mempengaruhi hasil dalam
menganalisis ketebalan lapisan tipis dan mempengaruhi
kualitas dari proses pemanduan cahaya dalam suatu pandu
gelombang tersebut. Dimana ketika suatu cahaya melewati
lapisan yang memiliki indeks bias lebih besar dibandingkan
dengan udara. Lalu cahaya ini mengenai substrat , dari proses
jalannya cahaya bahwa dapat diketahui terdapat pemantulan
6
dalam total pada daerah lapisan. Dan fungsi substrat yang
digunakan pada percobaan ini adalah untuk memantulkan
kembali cahaya yang melewati lapisan dan dipantulkan
kembali oleh kacanya.
IV. KESIMPULAN
Berdasarkan hasil percobaan dengan judul Pembuatan
Lapisan Tipis Larutan MMA dengan Metode Spin Coating
maka dapat dianalisa bahwa pada kaca dengan perputaran spin
coater 1000 rpm didapatkan hasil ketebalan 0,000456357 m,
pada kaca dengan perlakuan perputaran spin coater sebesar
1500 rpm didapatkan hasil 0,000516659 m dan pada kaca
dengan perlakuan perputaran spin coater sebesar 2000 rpm
didapatkan hasil 0,000496277 m.. Dapat diketahui hubungan
ketebalan lapisan tipis dan variasi kecepatan didapatkan
bahwa semakin besar kecepatannya, maka lapisan yang
diperoleh akan sangat tipis sehingga sifat optiknya lebih baik.
UCAPAN TERIMA KASIH
Penulis mengucapkan terima kasih kepada asisten
laboratorium fisika laboratorium, , Annisa Nurul Aini dan
Muhadha Shalatinuntuk percobaan tentang Spin Coating ini,
yang telah membimbing jalannya praktikum serta
menyalurkan ilmu yang sangat dibutuhkan oleh penulis serta
dalam pelaksanaan briefing jurnal. Serta tidak lupa
terimakasih kepada teman-teman satu team atas kerjasamanya
dalam melaksanakan praktikum tentang Spin Coating
ini.Semakin besar kecepatan putar yang diberikan maka
lapisan yang terbentuk semakin tipis.
DAFTAR PUSTAKA
[1] May, Gray, Light Leigh, Elshazly Dina. 1999. Spin Coating Theory.
Georgia Institute of Technology.
[2] Bahtiar, Ayi. dkk., 2006.Fabrikasi dan Karakterisasi Pandu Gelombang
Planar Polimer Terkonjugasi.Bandung: Jurusan Fisika FMIPA UNPAD.
[3] Harris,R.D. and Wilkinson, J.S. 1995. Wave guide Surface Plasmon
Resonance Sensors. Sensors and Actuators B.
[4] Setiawan, Dwi. 2011. Perambatan Cahaya pada Pandu Gelombang
Makro Berbentuk Trapezium. Surakarta : Jurusan Fisika FMIPA UNS.
[5] Thomas, Sri, Widodo, 1995. Optoelektronika Komunikasi Serat
Optik, Cetakan Pertama. Yogyakarta : Andi Offset.
[6] Oxtoby, David W., H. P. Gillis, dan Norma H. Nachtrieb. 1999. Principle
Of Modern Chemistry Fourth Edition. New York : Harcourt Inc
SPIN COATING (1115100055) - PRAKTIKUM FISIKA LABORATORIUM 2017 7

Lampiran 1 4. Gambar Pergeseran 4 Ketebalan Lapisan

1. Gambar Pergeseran 1 Ketebalan Lapisan Substrat dengan Kecepatan 1000 rpm
Substrat dengan Kecepatan 1000 rpm

5. Gambar Pergeseran 5 Ketebalan Lapisan

2. Gambar Pergeseran 2 Ketebalan Lapisan Substrat dengan Kecepatan 1000 rpm
Substrat dengan Kecepatan 1000 rpm

6. Gambar Pergeseran 6 Ketebalan Lapisan

3. Gambar Pergeseran 3 Ketebalan Lapisan Substrat dengan Kecepatan 1000 rpm
Substrat dengan Kecepatan 1000 rpm
SPIN COATING (1115100055) - PRAKTIKUM FISIKA LABORATORIUM 2017 8

7. Gambar Pergeseran 1 Ketebalan Lapisan 10. Gambar Pergeseran 2 Ketebalan Lapisan

Substrat dengan Kecepatan 1500 rpm Substrat dengan Kecepatan 2000 rpm

8. Gambar Pergeseran 2 Ketebalan Lapisan 11. Gambar Pergeseran 2 Ketebalan Lapisan

Substrat dengan Kecepatan 1500 rpm Substrat Tanpa Perlakuan

9. Gambar Pergeseran 1 Ketebalan Lapisan

Substrat dengan Kecepatan 2000 rpm