Resin Komposit 2019

RESIN
KOMPOSIT Nurmalasari, A.
RESIN KOMPOSIT
TERDIRI DARI DUA ATAU LEBIH BAHAN
CAMPURAN POLIMER DAN KERAMIK
SALAH SATU JENIS BAHAN RESTORASI
KLASIFIKASI RESIN KOMPOSIT
BERDASARKAN FILLER & DISTRIBUSINYA
A. RK. MICROFILLER
- 35-50% FILLER (0,04-0,2 µm)
- DAYA TAHAN FRAKTUR RENDAH
- STLH DIPULAS PERMUKAAN HALUS BAIK & MENGKILAP
- WARNA STABIL
- KLAS III, IV (KECIL), V, VENEER LABIAL
B. RK. MACROFILLER
- 80-85% FILLER (1-5 µm)
- TAHAN TERHADAP FRAKTUR
- STLH DIPULAS TIDAK BEGITU BAIK
HASILNYA (SEMIPULASHABLE)
- WARNA STABIL
- U/ KLAS IV, TUMP POST., CORE
C. RK. HYBRIT
- 75-85% FILLER (0,04-5 µm)
- DAYA TAHAN THD FRAKTUR BAIK
- DPT DIPULAS DG BAIK (TDK SEBAIK MIKRO)
- WARNA STABIL
- MENGANDUNG 2 MCM FILLER (MAKRO &
MIKRO)
- LBH TAHAN ABRASI
- RESTORASI KLAS IV
D. RK. NANO
- UKURAN FILLER 20-75 nm
- MENGANDUNG PARTIKEL NANOMER &
NANOKLUSTER
- NANOMER MENGANDUNG SILIKA 25-70 nm,
DG TAMBAHAN SILANE, BERIKATAN
SEMPURNA DG MATRIKS RESIN
- NANOKLUSTER MENGANDUNG SiO2
NANOKLUSTER 0,4-1 nm
- DPT MENGURANGI CELAH INTERSTITIAL
D. RK. NANO
- MENINGKATKAN MUATAN FILLER
- SIFAT FISIK LBH BAIK
- DAPAT DIPULAS DG BAIK
BERDASARKAN PROSENTASE MUATAN FILLER
A. RK. FLOWABLE
- FILLER 0,04-1 µm
- FILLER 44-54 %
- FILLER INORGANIK RENDAH& RESIN LBH BANYAK
DAYA ALIR LBH BANYAK
DAYA ALIR TINGGI
VISKOSITAS KEKENTALAN CKP RENDAH
DPT MENGISI/MENUTUP CELAH KAVITAS YG KECIL
A. RK. FLOWABLE
- MODULUS ELASTISITAS RENDAH
BAHAN MJD FLEKSIBEL
LBH MUDAH, CEPAT, TELITI, MDH BERADAPTASI,
MDH DIPULAS, RADIOPAK,
MENGANDUNG FLUORIDA,
MENGURANGI SENSITIFITAS STLH PENUMPATAN,
MEMBENTUK LAPISAN ELASTIS
MENGIMBANGI TEKANAN PENGERUTAN POLIMERISASI
- U/ KLAS I, II (KECIL), V, LINER
B. RK. PACKABLE/CONDENSABLE
- UKURAN PARTIKEL 0,7-2 µm
- PROSENTASE FILLER 48-65% VOLUME
- KOMPOSISI FILLER TINGGI
KEKENTALAN ATAU VISKOSITAS ME
SULIT MENGISI CELAH KAVITAS KECIL
- SEMAKIN BESAR KOMPOSISI FILLER
MENGURANGI PENGERUTAN POLIMERISASI
B. RK. PACKABLE/CONDENSABLE
- KOEFISIEN TERMAL EKSPANSI = STRUKTUR
GIGI
- ADA PERBAIKAN SIFAT FISIK THD ADAPTASI
MARGINAL
- SIFAT FISIK MEKANIK BAIK KRN FILLER
TINGGI
- U/ GG. POST., KLAS I, II, V
BERDASARKAN APLIKASI PADA KAVITAS
A. RK. LAYER BY LAYER

- APLIKASI RK SELAPIS DEMI SELAPIS
- AKTIFASI SINAR TAMPAK
B. RK. ONE LAYERING

- 2009
- NAMA DAGANG BULK FILL
- APLIKASI LBH CEPAT & MUDAH
- APLIKASI SINAR TAMPAK
- APLIKASI LANGSUNG SEKALI DLM KAVITAS
RK. ONE LAYERING
MENGANDUNG MODIFIER SPT SHRINGKAGE
STRESS RELIEVER
U/ MENGURANGI PENGERUTAN PILIMERISASI
PENGERUTAN POLIMERISASI RENDAH
MENGURANGI KEBOCORAN MIKRO

DPT DISINAR SAMP KEDLMN 4 MM
SIFAT FISIK BAIK
TAHAN THD TEKANAN
MDH DIPULAS
DPT U GG. POST.
RK. ONE LAYERING
SIFAT TRANSPARAN
PENYINARAN BS LBH DLM S/D 4 MM
MENCIPTAKAN OPASITAS YG OPTIMAL U/ MENIRU
STRUKTUR GG. SEKITAR
MENINGKATKAN INTEGRITAS MARGINAL

MENGURANGI SENSITIFITAS STH
TINDAKAN
BERDASARKAN KEGUNAAN
RESTORASI
PIT - FISSURE SEALANT
CORE BUILT UP
SEMEN PD BRAKET ORTHO, MARYLAND BRIDGE, CERAMIC CROWN,
INLAY, DAN ONLAY
PASAK
VENEER MAHKOTA LOGAM DAN JEMBATAN
MEMPERBAIKI RESTORASI PORSELEN YG RUSAK
KLASIFIKASI MENURUT PEMAKAIAN
LUTING
DIREK RESIN KOMPOSIT
INDIREK RESIN KOMPOSIT
KEUNTUNGAN RESIN KOMPOSIT
SEWARNA DENGAN GIGI
RELATIF TIDAK LARUT DALAM CAIRAN MULUT
CUKUP KUAT UNTUK SEMUA TIPE KAVITAS
STRUKTUR RAPAT MENYERUPAI GIGI
CUKUP VISCOUS
SHRINKAGE (PROSES PENGERUTAN) SAAT POLIMERISASI RENDAH
KOEFISIEN MUAI SUHU HAMPIR SAMA DENGAN GIGI
KEKURANGAN RESIN KOMPOSIT
SELF LIFE TERBATAS
IRITASI PADA PULPA (KARENA SISA MONOMER)
DAPAT MENYERAP AIR
MICROLINKAGE
KOMPOSISI RESIN KOMPOSIT
MATRIKS RESIN (ORGANIK) DAN PARTIKEL PENGISI (FILLER)
INORGANIK
BAHAN LAIN (SEBAGAI PENGUAT) :
*COUPLING AGENT (BAHAN PENGIKAT)
*AKTIVATOR
*INISIATOR
*MODIFIER OPTIC (PIGMEN WARNA KOMPOSIT)
* INHIBITOR (PENGHAMBAT POLIMERISASI DINI)
* AKSELERATOR DAN BAHAN PENYERAP SINAR UV
(MEMINIMALISASI PERUBAHAN WARNA KARENA OKSIDASI)
MATRIKS RESIN KOMPOSIT
BAHAN DASAR RESIN (MONOMER) DAN PENGENCER (CO-
MONOMER)
MONOMER AROMATIK DG VISKOSITAS TINGGI: BISFENOL-A
GLISIDIL METAKRILAT (bis-GMA), BISFENOL A POLIETILEN GLIKOL
DIETER DIMETAKRILAT (BisEMA), URETAN DIMETAKRILAT (UDMA)
CO-MONOMER DG VISKOSITAS RENDAH: TRIETILEN GLIKOL
DIMETAKRILAT (TEGDMA)
ETILEN GLIKOL DIMETAKRILAT (EGMA)
HIDROKSI ETIL METAKRILAT (HEMA)
MATRIKS RESIN KOMPOSIT
CO-MONOMER
*MONOMER DG BERAT MOLEKUL RENDAH
(AROMATIK DIMETAKRILAT)
*UNTUK MENGURANGI KEKENTALAN BAHAN
DASAR RESIN --- MUDAH DIAPLIKASIKAN
PARTIKEL PENGISI ( FIILER ) INORGANIK
RESIN KOMPOSIT
MEMPENGARUHI KEAWETAN RESIN KOMPOSIT

MENINGKATKAN SIFAT BAHAN MATRIKS
MEMPERBAIKI KEKUATAN MEKANIS, MODULUS ELASTISITAS
MENGURANGI KOEFISIEN MUAI PANAS SAAT POLIMERISASI
MENGURANGI KONTRAKSI PADA WAKTU PENGERASAN
MEINGKATKAN ESTETIK APABILA TERBUAT DARI BAHAN KACA
KETAHANAN AUS
TDD. QUARTZ, SILIKA KOLOIDAL, GELAS SILIKA, STRONSIUM,
BAHAN PENGIKAT RESIN KOMPOSIT
(COUPLING AGENT )
MEMPERKUAT IKATAN MATRIKS DENGAN BAHAN PENGISI
MENINGKATKAN SIFAT MEKANIK DAN FISIK
MEMUNGKINKAN MATRIKS POLIMER LEBIH FLEKSIBEL DALAM
MENERUSKAN TEKANAN KE PARTIKEL PENGISI YG LEBIH KAKU
KESTABILAN HIDROLITIK --- MENCEGAH AIR MENEMBUS
SEPANJANG ANTAR MUKA BAHAN PENGISI DAN MATRIKS
(COUPLING AGENT )
BAHAN COUPLING YG DIGUNAKAN --- SILIKON ORGANIK
(SILANE)
IKATAN SILANE BERUPA IKATAN SENYAWA IONIK GUGUS HIDROKSI
DARI GUGUS METOKSI MATRIKS YG MENGALAMI HIDROLISIS
GUGUS SILANOL DR BAHAN PENGISI DAN MATRIKS MENGALAMI
KONDENSASI MEMBENTUK IKATAN SILANE DG MENGELIMINASI
H2O
(COUPLING AGENT )
IKATAN SILANE MEMPUNYAI IKATAN KOVALEN DG HIDROGEN ---
DAPAT MENURUN DG ADANYA PENYERAPAN AIR SELAMA
PENGGUNAAN KLINIS DR RESIN KOMPOSIT
SISTEM AKTIFATOR-INISIATOR
RESIN KOMPOSIT
BAHAN UNTUK MEMULAI POLIMERISASI
U/ MENGAKTIFKAN MEKANISME PENGERASAN
MONOMER METIL METAKRILAT DAN DIMETIL METAKRILAT
BERPOLIMERISASI DG POLIMERISASI TAMBAHAN
POLIMERISASI DIAWALI DG RADIKAL BEBAS
RADIKAL BEBAS DAPAT BERASAL DR AKTIFASI KIMIA ATAU ENERGI
EKSTERNAL (PANAS ATAU SINAR)
SISTEM AKTIFATOR-INISIATOR
RESIN KOMPOSIT
RESIN YG DIAKTIFKAN SECARA KIMIA
*TDD 2 PASTA (INISIATOR BENZOIL PEROKSIDA
DAN AMIN TERSIER)
RESIN YG AKTIVATORNYA SINAR
* MENGGUNAKAN SINAR UV
* DG BAHAN INISIATOR MOLEKUL FOTO
INISIATOR DAN AKTIVATOR AMIN
* MENINGKATKAN POLIMERISASI RESIN
KOMPOSIT PD LAPISAN YG LEBIH TEBAL
SAMPAI 2MM
MODIFIER OPTIC RESIN KOMPOSIT
UNTUK MENCOCOKKAN DG WARNA GIGI
KRN KOMPOSIT HARUS MEMILIKI WARNA VISUAL (SHADING)
DAN TRANSLUSENSI YG DAPAT MENYERUPAI GIGI
WARNA DIPEROLEH DG MENAMBAHKAN PIGMEN YG
BERBEDA
TDD BAHAN OKSIDA LOGAM YG BERBEDA
MEMPENGARUHI KOMKEMAMPUAN TRANSMISI CAHAYA DARI
KOMPOSIT
WARNA YG LEBIH GELAP DILETAKKAN HARUS LEBIH TIPIS DR
YG LEBIH TERANG UNTUK MENGOPTIMALKAN POLIMERISASI
KARENA WARNA DAN OPASITAS YG BERBEDA DALAM
MENJERAP SINAT UV
BAHAN PENGHAMBAT POLIMERISASI DINI
RESIN KOMPOSIT (INHIBITOR)
MENCEGAH POLIMERISASI SPONTAN DR MONOMER
TERDAPAT DALAM KONSENTRASI YG RENDAH
MENCEGAH POLIMERISASI SELAMA PENYIMPANAN
BAHAN YG DIGUNAKAN MONOETIL-ETER-HIDROQUINON
BAHAN PEMERCEPAT POLIMERISASI RESIN
KOMPOSIT (AKSELERATOR)
MEMPERCEPAT POLIMERISASI
BAHAN : TERSIER AROMATIK AMIN (N,N-DIMETIL-P-TOLUIDIN DAN
N,N-HIDROKSIETIL-P-TOLUIDIN)
BEREAKSI DENGAN BENZOIL PEROKSIDA (PADA SUHU KAMAR) ---
MEMBENTUK RADIKAL BEBAS PD SAAT POLIMERISASI
POLIMERISASI RESIN KOMPOSIT
TERGANTUNG JENIS RESIN KOMPOSIT
ADA 3 JENIS RESIN KOMPOSIT DG AKTIVASI POLIMERISASI YG
BERBEDA
* VISIBLE-LIGHT-ACTIVATED SYSTEMS
* CHEMICALLY ACTIVATED SYSTEMS
* SISTEM LAIN
VISIBLE-LIGHT-ACTIVATED SYSTEMS
MEMPUNYAI 2 KOMPONEN INISIATOR (DI-KETON DAN TERSIARI

AMIN) PEMBENTUK RADIKAL BEBAS THD FOTOINISIATOR
CHAMPOROQUINONE & AKTIVATOR AMIN
RK. DG INISIATOR CHAMPOROQUINONE MEMILIKI DAYA
PENYERAPAN SINAR PD PANJANG GELOMBANG 400-500NM
SUMBER SINAR YG BIASA DIGUNAKAN
* QUARTZ HALOGEN, LASER, PLASMA ARC,
LIGTH EMITTING DIODES (LED) --- LED LEBIH
DPT DISERAP INISIATOR
FAKTOR-FAKTOR YG MEMPENGARUHI POLIMERISASI
RESIN KOMPOSIT
LAMA CURING
* TERGANTUNG WARNA RESIN, INTENSITAS
CAHAYA, KEDALAMAN KAVITAS, KETEBALAN
RESIN, CURING DR STRUKTUR GIGI,
TAMBALAN KOMPOSIT
WARNA RESIN
* WARNA GELAP LEBIH LAMBAT DR WARNA
TERANG (60 DETIK DG KEDALAMAN
MAKSIMUM 0,5 MM)
FAKTOR-FAKTOR YG MEMPENGARUHI POLIMERISASI
RESIN KOMPOSIT
TEMPERATUR
*PD SUHU RUANGAN MENGERAS LEBIH
SEMPURNA DAN LEBIH CEPAT
KETEBALAN RESIN : OPTIMUM 1-2 MM
TIPE FILLER : FILLER KECIL LEBIH SULIT MENGERAS DRPD YG BESAR
JARAK CAHAYA DG RESIN
*OPTIMUM < 1 MM DG SUDUT 90⁰ DR
PERMUKAAN RESIN KOMPOSIT
FAKTOR-FAKTOR YG MEMPENGARUHI POLIMERISASI RESIN
KOMPOSIT
KUALITAS SUMBER CAHAYA

*panjang gelombang 400-500 nm
POLYMERISATION SHRINKAGE
* Tergantung jumlah dr bahan organik
* shrinkage volumetrik sekitar 2-6%
* menyebabkan tekanan penyusutan yang dapat menyebabkan
terjadinya perubahan dimensi dan perubahan bentuk gigi, retaknya
email, maupun sensitifitas pasca restorasi
CHEMICALLY SYSTEMS
BERBENTUK BASE DAN KATALIS
BERBENTUK POWDER – LIQUID
MENGANDUNG INISIATOR BENZOIL PEROKSIDA & AKTIFATOR AMIN
TERSIER
---- KETIKA KEDUA BAHAN TERSEBUT DICAMPURKAN MK AKAN

MEMICU POLIMERISASI RESIN KOMPOSIT----
SISTEM LAIN
DUAL ACTIVATED
LIGHT ACTIVATED – CHEMICALLY ACTIVATED
TERJADI APABILATERDAPAT 2 RADIKAL BEBAS BEREAKSI SHG
MEMBENTUK MOLEKUL YG STABIL
POLIMERISASI AWAL SECARA KIMIAWI
PENYINARAN DG UV SEBAGAI PENYEMPURNA POLIMERISASI
MEKANISME TAHAP RADIKAL BEBAS TERBAGI MENJADI 3 TAHAP
SISTEM LAIN
TAHAP PEMBENTUKAN RADIKAL BEBAS
TAHAP AKTIVASI-INISIASI
* RADIKAL BEBAS TERBENTUK KARENA MOLEKUL-
MOLEKUL BESAR TERPECAH
TAHAP PROPAGASI
*PERPANJANGAN RANTAI---MONOMER YG
DIAKTIFKAN SALING BERIKATAN DAN
DITAMBAHKAN MONOMER PENGGANTI SAMPAI
IKATAN STABIL
TAHAP TERMINASI
* TAHAP PENGAKHIRAN RANTAI
TEKNIK PENYINARAN R.KOMPOSIT
Soft start dibagimenjadi 3 macamteknik, yaitu :
1.stepped,
2. ramped,
3. pulse-delayed
Teknik stepped
sinar intensitas rendah ---- padaperiodeawal ---
diikutisinardenganintensitastinggip ------ pada periode berikutnya
Teknik ramped
sinar intensitas rendah ---perlahan meningkat selama beberapa saat ---
sampai mencapai intensitas tinggi ----dipertahankan sampai beberapa
saat sampai penyinaran selesai
TEKNIK PENYINARAN R.KOMPOSIT
Teknik pulse delay
Dimulai dari sina rintensitas rendah ---- selama beberapa saat ---
fase penundaan ----terakhir penyinaran lama dengan intensitas penuh
Penyinaran pertama kekedua -----jeda 3-5 menit.
Penyinaran kedua----intensitas sinar yang lebih besar,dan durasi
yang lebih lama.
Lampu intensitas rendah memperlambatl aju polimerisasi, yang
memungkinkan shrinkage terjadi,sampai material menjadi kaku.
Penyinaran yang kedua,untuk menyelesaikan polimerisasi resin
komposit
Untuk menjamin hasil polimerisasi yang maksimal ------ seharusnya
digunakan unit penyinaran yang berintensitas tinggi ----- tetapi
penggunaan sinar yang berintensitas tinggi dapat menyebabkan
kerusakan pada bagaian retina jika sinar tersebut mengenai secara
langsung ---- OKI sekarang dikembangkan resin komposit teknik
indirek ---- u/ tujuan pemakaian restorasi yang besar
Pemanfaatan kembali polimerisasi menggunakan UV pada teknik
indirek -------dapat meningkatkan sifat adhesi dan kemampuan
hidrofobik, menginduksi perubahan fotokimia yang mengakibatkan
oksidasi permukaan, modifikasi sifat hidrofobik polimer, dan
meningkatkan energi permukaan.
Salah satu teknik penyinaran adalah teknik pulse delay dimulai dari
sinar intensitas rendah selama beberapa saat, kemudian ada fase
penundaan dan terakhir penyinaran lama dengan intensitas penuh
Bertujuan untuk mengurangi oxygen inhibited layer, yang merupakan
oxigen yang terjebak pada permukaan resin komposit setelah
polimerisasi–--yang dapat menyebabkan shringkage
SIFAT RESIN KOMPOSIT
BIOKOMPATIBILITAS BAIK
SITOTOKSISITAS LEVEL FIBROBLAS KECIL
SITOTOKSISITAS KEMUNGKINAN DAPAT TERJADI SAAT
POLIMERISASI---KETIKA ADA KOMPONEN YG
DIKELUARKAN / BERDIFUSI DR BAHAN KE PULPA
JUMLAH TOKSIKAN TERLALU KECIL UNTUK
MENYEBABKAN TOKSIK (TOKSIKOLOGI)
IMUNOLOGIS--- KEMUNGKINAN TERDAPAT PASIEN /
DRG YG MENGALAMI REAKSI ALERGI THD BAHAN INI
KEKUATAN TEKANAN PEMAKAIAN CUKUP BAIK
MEKANISME KEAUSAN OKLUSAL (ATRISI/ABRASI) --- MINIMAL ± 2
TH
MENGABSORBSI AIR DALAM RONGGA MULUT
ABSORBSI AIR OLEH RESIN KOMPOSIT BERHUBUNGAN DG
PENURUNAN KEKERASAN PERMUKAAN DABN KETAHANAN KRN
PEMAKAIAN
ABSORBSI AIR DIPENGARUHI FAKTOR EKSTRINSIK DAN INTRINSIK
ABSORBSI AIR TERGANTUNG DR SIFAT HIDROFILIK MATRIKS RESIN
ABSORBSI AIR MELALUI DIFUSIMOLEKUL AIR SESUAI DG HUKUM
DIFUSI --- PERLAHAN-LAHAN --- DALAM WAKTU TERTENTU
EKSPANSI HIGROSKOPIS CAIRAN DAPAT TERJADI 15 MENITSETELAH
POLIMERISASI---DG TITIK JENUH PD HARI KE 7---SELAMA 4 HARI
PERTAMA MENUNJUKAN EKSPANSI HIGROSKOPIS TERBESAR
PENYERAPAN CAIRAN KE DALAM RESIN KOMPOSIT AKAN DIIKUTI
OLEH PENYERAPAN SUBSTANSI LAIN DARI CAIRAN TERSEBUT
KEKASARAN PERMUKAAN RESIN KOMPOSIT DIDUGA MERUPAKAN
FAKTOR EKSTRINSIKYG BERHUBUNGAN DG PROSES ABSORBSI AIR
(IN-VIVO BLM DIKETAHUI)
KEKASARAN PERMUKAAN RESIN KOMPOSIT---PENINGKATAN LUAS
PERMUKAAN DAN POROSITAS PERMUKAAN---MENINGKATKAN
KEMAMPUAN ABSORBSI AIR
PERUBAHAN WARNA RESIN KOMPOSIT
DISEBABKAN OKSIDASI
DISEBABKAN FAKTOR EKSTRINSIK DAN INTRINSIK
EKSTRINSIK (STAINING) : MAKMIN, ROKOK, DLL
INTRINSIK : JARINGAN PULPA YG MATI, FLUOROSIS, PROSES
PENUAAN
PROSES HIDROLISIS MENYEBABKAN PERUBAHAN MATRIKS POLIMER-
--PENINGKATAN OPAQUE
MEKANISME DEGRADASI DAN KELARUTAN MATRIKS RESIN
KOMPOSIT
KIMIA, TERMAL, DAN RADIATIF
RADIASI ULTRASONIK/TEKNIK MEKANIKIMIAWI
RANGKA POLIMER /KOPOLIMER ASAM AKRILAT DAN METAKRILAT
DAPAT TERHIDROLISIS
MELIBATKAN ELIMINASI ATOM HIDROGEN
DEGRADASI MOLEKUL-MOLEKUL KECIL
PEMUTUSAN RANTAI
KOMPOSIT
FENOMENA DAYA ABSORBSI DAN DAYA LARUT DIDAHULUI DG
PROSES KIMIAWI DAN FISIKA – BIOLOGIS ---STRUKTUR DAN
FUNGSI MATERIAL POLIMER HILANG --- PERUBAHAN VOLUME ---
PEMBENGKAKAN, PERUBAHAN FISIK (PERLUNAKAN DAN
PELENTURAN), OKSIDASI, HIDROLISIS (KIMIAWI)
DIDEGRADASI SAMPAI TINGKAT TERTENTU
EFEK PENGAMBILAN BAHAN PELARUT DAN DEGRADASI HIDROLISIS -
-- KETAHANAN BAHAN BERKURANG/PENDEK
KOMPOSIT
MONOMER RESIN KOMPOSIT TERBANYAK ADALAH HETERO ATOM
POLIMER
DENGAN BAHAN DASAR KARBON DAN OKSIGEN ATAU NITROGEN
TAMBAHAN SRTUKTUR ESTER, URETHAN, DAN HIDROKSIL --- PEKA
TERHADAP HIDROLISIS
MONOMER DAN HASIL POLIMER TIDAK HIDROFIL YG KUAT TTP
DAPAT MENYERAP AIR DAN BERPOTENSI SBG PERUSAK YG LUAS
MEKANISME DEGRADASI DAN KELARUTAN MATRIKS RESIN KOMPOSIT
KEHADIRAN ENZIM DAPAT MENDEGRADASI POLIMER DG MENYERAP
RANTAI-RANTAI SAMPING
MEKANISME UTAMA DEGRADASI POLIMER
*HIDROLISIS PASIF DAN REAKSI ENZIMATIK*
RANTAI POLIMER DIDEGRADASI MELALUIOKSIDASI MENJADI MOLEKUL-
MOLEKUL KECIL--- PEMUTUSAN RANTAI
TERPUTUSNYA IKATAN POLIMER ---MEMPENGARUHI SIFAT FISIK
MEKANIK DAN KIMIA RESIN KOMPOSIT
BAHAN MATRIKS YG TERKIKIS --- MENINGGALKAN TONJOLAN-
TONJOLAN FILLER --- KEKASARAN PERMUKAAN
ADHESI
IKATAN RESIN KOMPOSIT DG ENAMEL BERUPA IKATAN FISIK
IKATAN FISIK TERJADI MELALUI ETSA
PENGETSAAN MENYEBABKAN POROSITAS SEHINGGA TERCIPTA
RETENSI MEKANIS
IKATAN KIMIA DG DENTIN BONDING AGENT
MEKANISME IKATAN RK DG GIGI MECHANICAL INTERLOCKING
PENGKERUTAN RK.
 TJD SLM POLIMERISASI MENIMBULKAN STRESS YG TERKONSENTRASI PD
DAERAH INTERFASIAL (AKIBAT KOMPETISI GAYA ANTARA STRESS PENGKERUTAN
OLIMERISASI DG GAYA ADHESI THD SUBSTRAT GG.)
 1-5% VOLUME
BERKAITAN DG C-FAKTOR ----- C FAKTOR SEMAKIN

MK ---- PENGKERUTAN
PENGKERUTAN TJD KEARAH SUMBER SINAR
PENGKERUTAN TJD KEARAH TENGAH DR MASA RESIN
PENGKERUTAN MENIMBULKAN GAP (KRN HILANGNYA KONTAK
ANTARA RESIN & DINDING KAVITAS)
PERBEDAAN PERUBAHAN VOLEME TJD KRN KOEFISIEN TERMAL ¾
LEBIH BESAR DR KOEFISIEN TERMAL STRUKTUR GIGI
KEBOCORAN MIKRO

Resin Komposit 2019

Diunggah oleh

Informasi Dokumen

Deskripsi Asli:

Judul Asli

Hak Cipta

Format Tersedia

Bagikan dokumen Ini

Bagikan atau Tanam Dokumen

Opsi Berbagi

Apakah menurut Anda dokumen ini bermanfaat?

Apakah konten ini tidak pantas?

Hak Cipta:

Format Tersedia

Resin Komposit 2019

Diunggah oleh

Hak Cipta:

Format Tersedia

RESIN

A. RK. LAYER BY LAYER

B. RK. ONE LAYERING

U/ MENGURANGI PENGERUTAN PILIMERISASI

PENGERUTAN POLIMERISASI RENDAH

MENGURANGI KEBOCORAN MIKRO

MENINGKATKAN INTEGRITAS MARGINAL

MEMPENGARUHI KEAWETAN RESIN KOMPOSIT

MEMPUNYAI 2 KOMPONEN INISIATOR (DI-KETON DAN TERSIARI

KUALITAS SUMBER CAHAYA

---- KETIKA KEDUA BAHAN TERSEBUT DICAMPURKAN MK AKAN

BERKAITAN DG C-FAKTOR ----- C FAKTOR SEMAKIN

Anda mungkin juga menyukai