OPTIMASI SIFAT LISTRIK LAPISAN TIPIS FLUORINE

DOPED TIN OXIDE (FTO) DENGAN METODE SPRAY

PYROLISIS

NADRIATUL SULFANA
A24117053

SKRIPSI

Diajukan sebagai salah satu syarat untuk mendapatkan gelar sarjana

pada Program Studi Pendidikan Fisika
Jurusan Pendidikan Matematika dan Ilmu Pengetahuan Alam
Fakultas Keguruan dan Ilmu Pendidikan
Universitas Tadulako

PROGRAM STUDI PENDIDIKAN FISIKA

JURUSAN PENDIDIKAN MATEMATIKA DAN ILMU
PENGETAHUAN ALAM
FAKULTAS KEGURUAN DAN ILMU PENDIDIKAN
UNIVERSITAS TADULAKO
PALU
2022

i
 ABSTRAK

Nadriatul Sulfana, 2022. Optimasi Sifat Listrik Lapisan Tipis Fluorine Doped Tin
Oxide (FTO) dengan Metode Spray Pyrolisis. Skripsi, Program Studi Pendidikan
Fisika Jurusan Pendidikan Matematika dan Ilmu Pengetahuan Alam. Fakultas
Keguruan dan Ilmu Pendidikan Universitas Tadulako. Pembimbing: (I) Dr. Sahrul
Saehana, M.Si.

Tujuan dari penelitian ini yaitu untuk menghasilkan kaca FTO yang memilki
sifat listrik yang optimal. Jenis penelitian ini termasuk dalam penelitian eksperimen
lab. Pembuatan kaca FTO menggunakan metode spray pyrolysis. Pembuatan kaca
FTO ini, menggunakan bahan baku timah (II) klorida dihidrat (SnCl . 2H O) dan
ammonium fluoride (NH F) dengan konsentrasi 0,7 M. Adapun parameter yang
digunakan pada penelitian ini yaitu variasi temperatur deposisi 450℃, 475℃, dan
500℃ dengan waktu tetap 40 menit. Pada penelitian ini, dilakukan pengujian
resistansi, Scanning Electrone Mikroscope (SEM), dan X-Ray Diffraction (XRD).
Hasil penelitian ini didapatkan nilai resistansi pada variasi temperaur 450℃ sebesar
615,38 𝜴, temperatur 475℃ sebesar 400 𝜴, dan temperatur 500℃ sebesar 14 k𝜴.
Berdasarkan hasil penelitian ini, didapatkan hasil optimal pada variasi temperatur
deposisi 475℃ dengan waktu 40 menit.

Kata kunci: FTO, spray pyrolysis, Temperatur, Resistansi, nilai optimum

iii
 ABSTRACT

Nadriatul Sulfana, 2022. Optimization of Electrical Properties of Fluorine Doped

Tin Oxide (FTO) Thin Layers with Spray Pyrolysis Method. Undergraduate Thesis.
Physics Education Study Program, Mathematics and Natural Sciences Education
Department, Teacher Training and Education Faculty, Tadulako University.
Supervised by Dr. Sahrul Saehana, M.Si.

The purpose of this research is to produce FTO glass which has optimal
electrical properties. This type of research is included in laboratory experiment
research, with the FTO glass making method using the spray pyrolysis method. This
FTO glass manufacture uses tin (II) chloride dihydrate (𝑆𝑛𝐶𝑙 . 2𝐻 𝑂) and
ammonium fluoride (𝑁𝐻 F) with a concentration of 0.7 M. The parameters used in
this study are variations in deposition temperatures of 450, 475, and 500 with a fixed
time of 40 minutes. . In this research, resistance, Scanning Electrone Microscope
(SEM), and X-Ray Diffraction (XRD) tests were carried out on FTO glass. The
results of this study showed that the resistance value at 450℃ temperature variation
was 615.38 , temperature 475℃ was 400 𝜴 , and temperature 500℃ was 14 k𝜴.
Based on the results of this study, the optimal results were obtained at the deposition
temperature variation of 475℃ with a fixed time of 40 minutes.

Keywords: FTO, spray pyrolysis, temperature, resistance, optimal value.

iv
 UCAPAN TERIMA KASIH

﷽
Alhamdulillah, segala puji kita panjatkan kepada Allah swt. atas segala nikmat

kesehatan, kekuatan serta kesabaran yang diberikan kepada penulis sehingga skripsi

ini dapat terselesaikan tepat pada waktunya yang berjudul “Optimasi Sifat Listrik

Lapisan Tipis Fluorine Doped Tin Oxide (FTO) Dengan Metode Spray

Pyrolisis”. Sholawat serta salam tak lupa penulis haturkan pada Rasulullah SAW,

yang sebaik-baik pemberi tauladan.

Skripsi ini dibuat sebagai salah satu syarat untuk memperoleh gelar Sarjana

Pendidikan Strata Satu (S1) pada Program Studi Pendidikan Fisika, Universitas

Tadulako. Besar harapan penulis agar skripsi ini menjadi penunjang ilmu

pengetahuan kedepannya dan dapat bermanfaat bagi orang banyak.

Penulis sadar bahwa segala bentuk kesulitan, kemudahan, suka dan duka

merupakan bagian yang tak terpisahkan dalam kehidupan ini, begitu pula dalam

penelitian dan penyusunan skripsi ini. Untuk itu dengan segala kerendahan hati

penulis menyampaikan terima kasih yang setulusnya kepada kedua orang tua penulis,

Bapak Masrin Habuna dan Ibu Djuhadia yang telah merawat, mendidik,

membesarkan penulis dengan penuh ketulusan hati dan terima kasih atas do’a,

kesabaran, kegigihan, motivasi, materi serta pengorbanan yang diberikan kepada

penulis dan ucapan terima kasih kepada saudara kandung penulis, Irma, S.Pd.,

v
Rinawati, S.Pd., dan Abdul Mugis, S.E yang telah tulus memberikan dukungan serta

motivasi kepada penulis dalam menyelesaikan studi.

Penulis juga menyampaikan terima kasih yang tak terhingga kepada Bapak Dr.

Sahrul Saehana, M.Si selaku pembimbing yang dengan kerelaan hati meluangkan

waktu untuk memberikan bimbingan, arahan-arahan, serta saran yang sangat berharga

kepada penulis dari awal proposal sampai hasil terselesaikannya penyususunan

skripsi ini, dan ucapan terimakasih kepada bapak Dr. Darsikin, M.Si, bapak Muh.

Syarif S.Pd., M.Pd., sebagai dosen pembahas yang telah membimbing dan

memberikan masukan terhadap penyelesaian skripsi.

Selanjutnya penulis menyampaikan ucapan terimakasih yang sebesar-besarnya

kepada yang terhormat :

1. Bapak Prof. Dr. Ir. H. Mahfudz, M.P., Rektor Universitas Tadulako yang telah

memberikan kesempatan dan peluang dalam menuntut ilmu pengetahuan di

Universitas Tadulako.

2. Bapak Dr. Ir. Amiruddin Kadek, M.Si selaku Dekan Fakultas Keguruan dan Ilmu

Pendidikan Universitas Tadulako.

3. Bapak Dr. H. Nurhayadi, M.Si selaku Wakil Dekan bidang Akademik Fakultas

Keguruan dan Ilmu Pendidikan Universitas Tadulako.

4. Bapak Abdul Kamaruddin, S.Pd., M.Ed., Ph.D selaku Wakil Dekan bidang

Umum dan Keuangan Fakultas Keguruan dan Ilmu Pendidikan Universitas

Tadulako.

vi
5. Bapak Dr. Iskandar, M.Hum selaku Wakil Dekan bidang Kemahasiswaan

Fakultas Keguruan dan Ilmu Pendidikan Universitas Tadulako.

6. Ibu Purnama Ningsih, S.Pd., M.Si., Ph.D, Ketua Jurusan Pendidikan MIPA

Fakultas Keguruan dan Ilmu Pendidikan Universitas Tadulako.

7. Bapak Dr. Sahrul Saehana, M.Si, Koordinator Program Studi Pendidikan Fisika

Fakultas Keguruan dan Ilmu Pendidikan Universitas Tadulako.

8. Bapak dan Ibu Dosen beserta Staf Program Studi Pendidikan Fisika yang telah

tulus mendidik dan memberikan bekal ilmu pengetahuan kepada penulis selama

di bangku kuliah.

9. Seluruh Staf Laboratorium Pendidikan Matematika dan Ilmu Pengetahuan Alam

yang telah memberikan bekal ilmu serta memberi nasehat kepada penulis.

10. Kaka senior Aqidatul Izzah, S.Pd yang telah membimbing dan memotivasi

penulis dalam penelitian.

11. Teman-temanku tersayang, saudara di perantauan, Fatwa Al’afani, S.Pd, Marianti

Krispina Wona, S.Pd, Debi Dwi Erika, Saraswati S.Pd, Arifa, I’in Faradila, Indah,

Popi Kasari, Lily Nursapitri K. Pundanga, S.Kom, Nur Fathiatul Jannah S.Kom,

Riska Irham, S.Farm, Fitri, S.I.Kom, Nono, Elsa Fitra, S.P yang telah sabar dan

masih bertahan menemani sampai ke titik ini, menjadi support system, teman

dalam segala situasi. Terimakasih sudah menjadi bagian dari kenangan yang

boleh terukir selama menyelesaikan pendidikan S1.

vii
12. Teman-teman kelas C, yang mohon maaf tidak dapat disebutkan satu per satu.

Terimakasih untuk waktu dan kebersamaan yang boleh terjalin selama ini.

13. Teman-teman seperjuangan angkatan 2017 (SEVEN71EN), yang mohon maaf

tidak dapat disebutkan satu per satu. Terimakasih atas doa, motivasi dan

dukungan serta bantuannya selama di bangku kuliah. Begitupun dengan waktu

dan kebersamaan selama ini.

14. Ahlun Nazar, S.H yang telah tulus dan sabar memberikan dukungan serta

motivasi kepada penulis.

15. Semua pihak yang terlibat membantu baik dalam doa maupun bantuan secara

langsung dalam setiap proses yang boleh terlewati sampai saat ini, yang mohon

maaf tidak dapat disebutkan satu per satu. Terimakasih sudah menjadi bagian dari

perjalanan hidup penulis dalam menempuh pendidikan S1.

Dengan kerendahan hati, penulis berharap agar skripsi ini mendapat ridha dari

Allah swt. dan memberi manfaat bagi masyarakat serta penikmat ilmu pengetahuan,

khususnya kepada penulis sendiri. Aamiin ya Rabbal Aalamin..

Palu, Juni 2022

Nadriatul Sulfana

NIM. A 241 17 053

viii
 DAFTAR ISI

Halaman

HALAMAN JUDUL
HALAMAN PERSETUJUAN PEMBIMBING ii
ABSTARAK iii
ABSTARACK iv
UCAPAN TERIMA KASIH v
DAFTAR ISI ix
DAFTAR TABEL xi
DAFTAR GAMBAR xii
DAFTAR LAMPIRAN xii

BAB I PENDAHULUAN
1.1 Latar Belakang 1
1.2 Rumusan Masalah 3
1.3 Tujuan Penelitian 3
1.4 Manfaat Penelitian 3
1.5 Batasan Istilah 4

BAB II KAJIAN PUSTAKA DAN KERANGKA PEMIKIRAN

2.1 Penelitian yang Relevan 6
2.2 Kajian Pustaka 7
2.3 Kerangka Pemikiran 19

BAB III METODE PENELITIAN

3.1 Jenis Penelitian 22
3.2 Tempat dan Waktu Penelitian 22
3.3 Variabel Penelitian 22
3.4 Alat dan Bahan 23
3.5 Prosedur Kerja 27
3.6 Prosedur Pengujian Kaca FTO 28
3.7 Diagram Alir Penelitian 31

BAB IV HASIL PENELITIAN DAN PEMBAHASAN

4.1 Hasil Penelitian 32
4.2 Pembahasan 56

BAB V PENUTUP
5.1 Kesimpulan 64
5.2 Saran 65
ix
DAFTAR PUSTAKA 66
LAMPIRAN

x
 DAFTAR TABEL

Tabel Halaman
4.1 Nilai Resistansi Kaca FTO menggunakan multimeter 33
4.2 Daftar Puncak Difraktogram hasil Uji XRD pada Temperatur 450℃ 40
4.3 Daftar Puncak Difraktogram hasil Uji XRD pada Temperatur 475℃ 41
4.4 Daftar Puncak Difraktogram hasil Uji XRD pada Temperatur 500℃ 43
4.5 Perbandingan Ukuran Kristal Pada Variasi Temperatur 55

xi
 DAFTAR GAMBAR

Gbr. Halaman
2.1 Kaca Fluorine Doped-Tin Oxide (FTO) 9
2.2 Skema Metode Spray Pyrolisis 14
2.3 Skema Kerja SEM 15
2.4 Penghamburan Elektron dari sinar X 16
2.5 Prinsip Kerja X-Ray 18
2.3 Skema kerangka Pemikiran 21
3.1 Nebulizer Omron Ne-C28 23
3.2 Ultrasonic Cleaner 23
3.3 Neraca Digital 24
3.4 Magnetic stirrer dan plat pemanas 24
3.5 Aluminium Foil 25
3.6 Selang dan corong 25
3.7 Statif dan klem 25
3.8 𝑆𝑛𝐶𝑙 𝐻 𝑂 26
3.9 𝑁𝐻 𝐹 26
3.10 Diagram alir penelitian 31
4.1 Hasil kaca FTO 32
4.2 Kurva I-V hasil pengukuran temperature 450℃ 34
4.3 Kurva I-V hasil pengukuran temperature 475℃ 35
4.4 Kurva I-V hasil pengukuran temperature 500℃ 36
4.5 Grafik hubungan suhu dan resistansi 37
4.6 Hasil pemgukuran SEM 38
4.7 Difraktogram hasil Uji XRD pada Temperatur 450℃ 39
4.8 Difraktogram hasil Uji XRD pada Temperatur 475℃ 41
4.9 Difraktogram hasil Uji XRD pada Temperatur 500℃ 42

xii
 DAFTAR LAMPIRAN

Lamp. Halaman

1. Skema tahapan penelitian 70

2. Dokumentasi penelitian 71
3. Data Output 73
4. Izin penelitian 80

xiii
 BAB 1

PENDAHULUAN

1.1. Latar Belakang

Perkembangan ilmu pengetahuan teknologi yang terus meningkat dan

semakin canggih membawa terciptanya teknologi-teknologi baru. Material oksida

konduktif transparan atau Tranasparent Conducting Oxide (TCO) merupakan salah

satu perkembangan teknologi canggih pada bidang sains yang ada pada saat ini.

Lapisan transparan konduktif atau yang sering dikenal dengan Transparent

Conducting Oxide (TCO) adalah sebuah material konduktif dan transparan yang

dilapiskan pada kaca. Adapun pengaplikasian dari lapisan ini sangat luas dan sering

ditemui di kehidupan masyarakat, dimana lapisan ini bisa ditemui pada layar

touchscreen smartphone. Selain itu secara umum pengaplikasiannya juga dapat

ditemui pada layar LCD, panel surya, pemanas optik hingga sensor cahaya (Woger,

2003).

Hotim (2015) menyatakan bahwa Indonesia pada saat ini merupakan net

importer material TCO artinya Indonesia masih menjadi negara yang lebih banyak

melakukan import TCO daripada melakukan ekspor TCO. Oleh karena itu,

diperlukan produksi material ini di dalam negeri sebagai bentuk upaya menuju kearah

kemandirian energi di dalam negeri dan pemenuhan kebutuhan pasar serta dapat

meningkatkan devisa negara. Material yang biasa digunakan sebagai TCO

1
 2

diantaranya adalah Indium Tin Oxide (ITO) dan Fluorine Doped Tin Oxide (FTO).

Menurut U.S Geological Survey menyatakan bahwa cadangan indium dalam kerak

bumi pada tahun 1998 diperkirakan hanya 2600 ton. (Dengyuan, 2005). Oleh sebab

itu, bahan untuk membuat ITO sangat mahal karena terbatasnya ketersediaan indium

di alam dan juga jika dibandingkan dengan FTO, sehingga saat ini salah satu material

yang menguasai pasar TCO adalah Fluorine Doped Tin Oxide (FTO).

Fluorine Doped Tin Oxide (FTO) merupakan pelapis di substrat kaca

konduktif transparan yang pada umumnya bisa didapatkan melalui proses kaca yang

permukaannya dideposisikan larutan yang telah diionisasi menggunakan alat

nebulizer. Muliani (2012), menyatakan bahwa FTO pada umumnya diaplikasikan

sebagai substrat semikonduktor pada fabrikasi Dye Sensitized Solar Cell (DSSC).

FTO lebih resistansi secara kimiawi, serta murah dan ketersediaan bahan baku yang

lebih mudah diperoleh (Adnane, dkk, 2005). FTO menunjukkan sifat konduktivitas

listrik yang relatif lebih tahan terhadap perlakuan pemanasan dibandingkan ITO

khusus pengaplikasian pada DSSC (Sima, dkk 2010). FTO dapat digunakan sebagai

kaca konduktif transparan apabila memiliki nilai transmitansi yang tinggi dan nilai

hambatan listriknya yang rendah.

Dalam pembuatan lapisan tipis konduktif pada FTO dipilih tin oxide (SnO )

sebagai elemen konduktif utama (unsur induk). Hal ini karena tin oxide memiliki sifat

elektrik yang bagus atau resistansi yang baik, masa pemakaian di alam melimpah

(Lalasari et al., 2015). Kaca konduktif dari SnO memiliki konduktifitas rendah
 3

sehingga perlu adanya doping. Doping yang digunakan pada penelitian ini yaitu

florida yang didapat dari ammonium fluoride (NH F). Penggunaan florida sebagai

doping karena florida memiliki tahanan listrik yang rendah dan transmisi optik yang

tinggi. Parameter lain yang juga mempengaruhi kedua sifat tersebut adalah

temperatur, yang berperan dalam menentukan SnO .

1.2. Rumusan Masalah

Berdasarkan latar belakang diatas, maka rumusan masalah pada penelitian ini

adalah bagaimana mendapatkan hasil optimum sifat listrik pada lapisan tipis Fluorine

Doped Tin Oxide (FTO) ?

1.3. Tujuan Penelitian

Berdasarakan rumusan masalah di atas, maka tujuan masalah dari penelitian

ini adalah untuk mendapatkan kondisi optimum sifat listrik pada lapisan tipis

Fluorine Doped Tin Oxide (FTO).

1.4. Manfaat Penelitian

Adapun beberapa manfaat yang diharapkan dapat diperoleh melalui penelitin

ini sebagai berikut:

1. Aspek teoritis

Bagi peneliti pribadi dapat memberikan sumbangsih gagasan dalam

bentuk pembuatan lapisan tipis Fluorine Doped Tin Oxide (FTO).

 4

2. Aspek Praktis:

a. Sebagai referensi untuk penelitian selanjutnya yang berkaitan dengan

lapisan tipis Fluorine Doped Tin Oxide (FTO).

b. Dapat membuat suatu lapisan tipis Fluorine Doped Tin Oxide (FTO).

1.5. Batasan Istilah

Pada penelitian ini memiliki beberapa batasan istilah agar pembahasan pada

penelitian fokus pada:

1. Sifat listrik adalah sifat yang menunjukkan ciri dan karakteristik dari benda

yang bermuatan.

2. Optimasi adalah suatu proses untuk mencapai hasil yang ideal (nilai efektif

yang dapat dicapai). Optimum dalam Kamus Besar Bahasa Indonesia (KBBI)

adalah dalam kondisi yang terbaik atau yang paling menguntungkan. Arti lain

dari kata optimum adalah optimal.

3. Resistansi listrik (elktrical resistance) adalah suatu gaya yang dapat

mengurangi, menghambat atau bahkan menghentikan aliran elektron.

Resistansi juga dapat diartikan sebagai perbandingan antara tegangan (beda

potensial) dengan arus.

4. Fluorine Doped Tin Oxide (FTO) adalah pelapis di substrat kaca konduktif

transparan yang pada umumnya didapatkan melalui proses kaca yang

permukaannya dideposisikan larutan yang telah diionisasi mengunakan alat

 5

nebulizer. Adapun larutan prekusor pada penelitian ini dibuat dari bahan

SnCl . 2H O dan NH F (Saehana, S. dkk 2018).

5. Spray Pyrolisis Deposition adalah teknik pemprosesan yang sedang

dikembangkan dalam penelitian untuk pembuatan film tipis dan tebal, pelapis

keramik dan bubuk. Teknik ini memiliki keunggulan yang relatif hemat biaya

(terutama biaya pembuatan). Peralatan spray pyrolysis deposition terdiri dari

alat penyemprotan, larutan prekusor, pemanas substrat, dan pengontrol suhu.

6. SEM (Scanning Electron Microscope) adalah alat yang digunakan untuk

mengetahui struktur morfologi dari kaca.

7. X-Ray Diffraction (XRD) adalah teknik yang dapat digunakan untuk

mengetahui struktur padatan (kristalin) suatu bahan dengan menggunakan

metode diffraksi sinar-X serbuk (X-ray powder diffraction). (Jamaluddin K,

2010)
 BAB II

KAJIAN PUSTAKA DAN KERANGKA PEMIKIRAN

2.1 Penelitian yang Relevan

Beberapa penelitian yang relevan dengan penelitian ini sebagai berikut

1. Penelitian yang dilakukan oleh Yusuf, M., dkk (2020), yang bertujuan untuk

membuat kaca FTO menggunakan metode spray pyrolysis dengan larutan

prekusor SnCl dan menggunakan variasi temperatur 400°C, 450°C, 500°C,

550°C. Hasil penelitian didapatkan nilai konduktivitas FTO yang tinggi

diperoleh pada temperatur sintering 400°C dengan nilai restivitas sebesar

26,72 𝜴.cm.

2. Penelitian yang dilakukan oleh Maksum (2018), yang bertujuan untuk

mengetahui pengaruh rasio massa NH F:SnCl . 2H O dan temperatur

pendeposisian dalam pembuatan kaca FTO dengan metode spray pyrolysis

deposition dengan larutan prekusor sebanyak 7 ml. Temperatur pada 400°C

untuk variasi rasio 2%, 4%, 6%, 8%, dan 10% wt. Sedangkan untuk variasi

selanjutnya rasio massa diatur tetap 4% wt dan temeperatur yang berbeda-

beda yaitu 300°C. 350°C, 400°C, 450°C , dan 500 °C. Hasil penelitian ini

didapatkan hasil terbaik pada variasi temperatur 400°C rasio massa 8%

dengan nilai resistansi sebesar 9,186% 𝜴 dan nilai transmitansi tertinggi

90,047% pada panjang gelombang 80 nm.

6
 3. Penelitian yang dilakukan Widyandari dkk, 2012 dalam penelitiannya

tentang fabrikasi kaca FTO, penelitian ini menggunakan metode deposisi

spray. Bahan yang digunakan SnCl . 2H O dengan konsentrasi 0,7 M

kandungan doping NH4F 6% dengan etanol 96%. Selanjutnya larutan

yang telah dibuat diatomisasi dan dideposisi di atas permukaan kaca.

Temperatur yang digunakan dalam fabrikasi kaca yaitu 500°C. Hasil

penelitian ini diperoleh nilai transmitasi 80% dan diadapatkan sheet

resistance 12 𝜴.cm.

4. Penelitian yang dilakukan oleh Saehana, S. dkk (2018), yang bertujuan

untuk membuat kaca FTO menggunakan metode spray pyrolysis dengan

larutan prekusor yaitu SnCl : F dan substrat kaca dipanaskan pada

temperatur 400ºC. Hasil penelitian ini didapatkan kaca FTO dengan

resistansi terendah sekitar 60𝜴/cm² kemudian diaplikasikan sebagai

elektroda kerja pada Dye Senitized Solar Cell (DSSC).

2.2 Kajian Pustaka

2.2.1 Transparent Conductive Oxide (TCO)

TCO adalah sebuah lapisan transparan konduktif. TCO merupakan salah satu

material yang sangat penting untuk digunakan dalam berbagai aplikasi teknologi

modern. Seperti pada sel surya, layar LCD atau plasma, layar smartphone hingga
 8

sensor cahaya. Dapat dikatakan bahwa TCO sudah merupakan bahan dasar wajib

untuk membuat berbagai alat fotonik dan elektronika.

Dalam bidang energi terutama pengaplikasian sel surya jenis DSSC (Dye

Senitzed Solar Cell) kaca TCO berperan sebagai substrat yaitu tempat menempelnya

semua komponen seperti semikonduktor, dye, elektrolit dan lapisan counter

electrode. Pada sel surya DSSC, TCO berfungsi sebagai jendela optik untuk

meneruskan cahaya dengan rentang panjang gelombang tertentu sampai cahaya

tersebut mengenai semikonduktor serta berfungsi sebagai elektroda konduktor untuk

menarik elektron-elektron dari cahaya yang sudah tereksitasi yang dialirkan melalui

elektrolit. Adapun properti yang paling diinginkan dari film TCO pada

pengaplikasian sel surya jenis DSSC adalah band gap yang lebar sekitar 3.0 eV,

hambatan listrik yang rendah, transmitansi (tembus pandang) yang tinggi dan

mobilitas tinggi sebagai pembawa elektron.

2.2.2 Fluorine Doped Tin Oxide (FTO)

Muliani (2012) menyatakan bahwa FTO merupakan pelapis substrat kaca

konduktif transparan yang pada umumnya diaplikasikan sebagai substrat

semikonduktor pada fabrikasi Dye Senitized Solar Cell (DSSC). FTO sendiri

merupakan salah satu material yang sering digunakan sebagai TCO. Karena FTO

memiliki beberapa kelebihan yaitu lebih resisten secara kimiawi, murah, dan mudah

didapat. Selain itu, FTO juga mampu merekat pada kaca lebih kuat, serta memiliki
 9

transparansi optik yang lebih tinggi, dan menunjukkan sifat konduktif listrik yang

relatif lebih tahan terhadap perlakuan pemanasan dibandingkan dengan ITO.

Fluorine-doped tin oxide ( FTO ) merupakan pelapis disubstrat kaca konduktif

transparan yang pada umumnya didapatkan melalui proses kaca yang permukaannya

dideposisikan larutan yang telah diionisasi menggunakan alat nebulizer. Adapun

larutan prekusor dibuat dari bahan SnCl . 2H O dan NH F (Saehana, S. dkk 2018).

Dalam pendeposisian larutan ke substrat kaca, 2H O dan NH menguap karena akibat

dari oksidasi menjadi SnO : F (Fluorine Tin Oxide).

Gambar 2.1. Kaca fluorine-doped tin oxide (FTO)

Pada kaca FTO terdapat beberapa hal yang mendasarinya. Diantaranya

sebagai berikut:

1. Lapisan Film Tipis adalah sebuah lapisan yang terdapat pada substrat, lapisan

ini terdiri dari berbagai bahan metal, organik, anorganik atau pencampuran
 10

metal dengan organik. Lapisan film tipis sering diaplikasikan pada komponen

elektronika seperti transistor, kapasitor, rangkaian hybrid, dan sel surya. Karena

pada dasarnya lapisan film tipis dari bahan tersebut dapat memiliki sifat-sifat

listrik seperti isolator, konduktor dan semikonduktor.

2. Sifat Listrik Fluorine Doped Tin Oxide (FTO)

a. Konduktivitas adalah kemampuan suatu benda untuk dapat menghantarkan

arus listrik. Konduktivitas timbul akibat elektron yang mudah bergerak pada

kisi. Nilai konduktivitas dapat dipengaruhi oleh suhu, jadi jika suhu semakin

tinggi berbanding lurus dengan nilai konduktivitasnya. Nilai konduktivitas

yang baik dimiliki oleh logam, karena memiliki kemampuan untuk

menghantarkan listrik serta memiliki sifat kepekaan terhadap perubahan

suhu.

b. Resistansi adalah suatu kemampuan yang dimiliki suatu benda untuk

menahan arus listrik. Resistansi yang rendah menunjukkan material yang

siap mengalirkan arus listrik. Nilai resistansi berbanding terbalik dengan

nilai konduktivitas.

c. Selain memiliki sifat listrik, lapisan tipis FTO juga memilki sifat optik

transmitansi yaitu merupakan suatu interaksi yang terjadi ketika suatu

sinar/cahaya datang.
 11

Dalam pembuatan lapisan tipis fluorine-doped tin oxide (FTO) tentunya

diperlukan bahan-bahan yang mampu menjadikan substrat kaca bisa konduktif serta

transparan sebagaimana fungsi dari kaca FTO itu sendiri. Adapun deskripsi bahan-

bahan yang digunakan sebagai berikut:

1. Substrat Kaca

Substrat kaca merupakan sebuah tempat melekatnya bagian-bagian elemen

DSSC. Dipilih karena kemampuan substrat kaca yang masih mampu bertranparansi

terhadap cahaya meskipun telah terlapisi oleh zat semikonduktor.

2. SnCl

SnCl merupakan rumus kimia dari Timah (II) klorida yang merupakan suatu

padatan kristal yang berwarna putih. Senyawa ini membentuk suatu dihidrat yang

stabil, namun larutan berairnya cenderung mengalami hidrolisis, terutama jika panas.

Larutan kimia yang dapat teroksidasi dengan temperatur diatas 300°C, serta

memerlukan oksigen sebagai pereaksinya. SnCl dapat diaplikasikan sebagai

reduktor dalam larutan asam dan larutan elektroplating. SnCl terbentuk dari reaksi

gas HCl kering dengan logam Sn (Timah). Adapun SnCl memiliki sifat seperti

berikut:

 Densitas : 3,95 g/cm³ (anhidrat/tanpa ada H₂O)

2,71 g/cm³(dihidrat)
 12

 Melting point : 247°C (anhidrat)

37,7°C (dihidrat)

 Boiling point : 623°C

3. NH F

NH F adalah senyawa anorganik, dan juga merupakan rumus dari ammonium

fluoride. Senyawa ini mengkristal sebagai prisma kecil tak berwarna, dengan rasa

asin yang tajam, dan sangat mudah larut dalam air. Amonium fluorine sering

digunakan sebagai doping dalam fabrikasi kaca FTO. NH F digunakan sebagai

doping dalam fabrikasi kaca FTO, doping sendiri berfungsi untuk menaikkan sifat

dari SnO (Yadav et al., 2009).

Konsentrasi dari fluorine berpengaruh pada struktur dan sifat-sifat kelistrikan

dari lapisan SnO . Hal ini disebabkan karena fluorine menduduki ikatan oksigen pada

SnO sehingga menciptakan elektron bebas dan menyebabkan penurunan tahanan

listrik FTO (Miao et al., 2010). Akan tetapi jika konsentrasi ammonium florida yang

terlalu tinggi berakibat pada tingginya nilai restivitasnya. Adapun sifat yang dimilki

NH F, yaitu:

 Densitas : 1,009 g/cm³

 Melting point : 100°C

 13

4. Etanol/C H OH

Etanol merupakan cairan yang tak berwarna dengan bau khas serta merupakan

salah satu bahan yang digunakan dalam fabrikasi kaca FTO. Etanol merupakan

larutan yang bersifat inert (tidak bereaksi dengan komponen lain) inilah yang

menjadikan etanol sering digunakan sebagai pelarut.(Fauziah, dkk. 2013). Boiling

point yang dimiliki etanol adalah 78,4°C (Purba, 2009). Etanol memiliki sifat melting

point -114,14°C serta densitas 0,7893 g/cm³.

2.2.3 Metode Spray Pyrolisis Deposition

Spray pyrolysis merupakan metode untuk menghasilkan partikel produk

berukuran mikrometer, submikrometer ataupun nanometer tergantung konsentrasi

prekusor, selanjutnya partikel digunakan untuk membuat lapisan tipis semikonduktor

(Bahriyah et al., 2011).

Spray Pyrolisis adalah salah satu teknik yang efektif dan sederhana cocok

untuk komersialisasi dan biasa digunakan dalam pembuatan lapisan tipis FTO, karena

metode ini cepat dan mudah untuk diaplikasikan jika digunakan pada area deposisi

yang luas. Selain itu murah dan penyusunan komponen pendukung yang sederhana,

metode ini memiliki beberapa keuntungan seperti tingkat pertumbuhan yang tinggi,

kemampuan menghasilkan droplet yang seragam dan melekat kuat, tidak

membutuhkan kondisi vakum, kemudahan jumlah doping yang dapat dikontrol, dan

kemampuan untuk mendeposisikan campuran dari multikomponen (Maksum, 2018)

 14

Metode ini memiliki kemungkinan luas untuk dapat memvariasikan propeti

dari lapisan dengan mengubah parameter proses seperti komposisi larutan prekusor,

suhu substrat, jarak nozzle terhadap permukaan substrat, laju penyemprotan, lama

waktu pendeposisian, dll. (Maksum, 2018). Proses dari spray pyrolysis yaitu larutan

yang telah dibuat dimasukkan kedalam wadah ultrasonic nebulizer untuk menjadikan

partikel berukuran nano, kemudian diatomisasi dan dideposisi atas permukaan gelas.

Proses deposisi larutan menggunakan temperatur yaitu 500°C (Widiyandari et al.,

2012).

Gambar 2.2 Skema Metode Spray Pyrolisis

Sumber : Saehana, S dkk . (2018)

2.2.4 SEM (Scanning Electron Microscope)

SEM adalah suatu alat yang berfungsi untuk mengamati struktur morfologi

permukaan sampel dalam perbesaran yang tinggi dengan menggunakan berkas

elektron berenergi tinggi. Alat ini memancarkan sinar elektron dari katoda dengan
 15

tegangan 0.5-30 Kv yang diarahkan pada permukaan material dengan bantuan 2

lensa yaitu lensa kondensor dan obyektif yang memfokuskan pada permukaan

spesimen sehingga dapat menghasilkan gambar yang sangat tajam. Scanning

Electron Microscope (SEM) adalah salah satu jenis mikroskop elektron yang

menggambar spesimen dengan memindainya menggunakan sinar elektron berenergi

tinggi dalam scan polar raster.

Elektron memiliki resolusi yang lebih tinggi daripada cahaya. Cahaya hanya

mampu mencapai 200 nm sedangkan elektron bisa mencapai resolusi sampai 0,1 –

0,2 nm. Elektron berinteraksi dengan atom-atom sehingga spesimen menghasilkan

sinyal yang mengandung informasi tentang topografi permukaan spesimen,

komposisi dan karakteristik lainnya seperti konduktivitas listrik (Okky

Wijayanto.,S,A.P Bayuseno, 2014).

Gambar 2.3 Skema Kerja SEM

Sumber : https://www.mse.iastate.edu/research/microscopy/how-does-the-sem-
work/high-school/how-the-sem-works/
 16

Di bagian atas mikroskop, penembak elektron menghasilkan berkas elektron.

Berkas elektron kemudian mengikuti jalur vertical melalui mikroskop yang

tersimpan dalam ruang vakum. Kemudian, berkas elektron melewati medan

elektromagnetik dan lensa magnetik yang memfokuskan arah bidikan pada sampel.

Ketika elektron mengenai sampel, elektron dan sinar-X dikeluarkan dari sampel

Gambar 2.4 Penghamburan elektron dan sinar-X

Sumber : Murungananthum, G. (2012)

Selanjutnya detektor akan mengumpulkan sinar-X, elektron terpantulkan dan

elektron sekunder. Kemudian, detector mengubah data dalam format sinyal yang

ditransmisikan pada layar.

Adapun kelebihan dari SEM yaitu dapat menghasilkan berkas elektron dengan

ukuran sampai 5-10 nm dan memiliki fokal yang lebih panjang sehingga

memungkinkan jarak kerja terhadap spesimen lebih efisien dalam pengambilan

gambar yang direkam oleh detector pada ujung lensa. Pengamatan SEM dilakukan

dengan menghubungkan mesin pada PC yang bertujuan agar PC dapat

 17

mengendalikan berkas elektron serta agar maksimal dalam pengambilan gambar

digital pada permukaan sampel.

2.2.5 Two Point Probe

Metode two pont probe merupakan metode yang digunakan dalam

menentukan arus dan tegangan pada suatu material. Adapun prinsip kerja metode two

point probe yaitu arus listrik dialirkan pada elektroda-elektroda dengan jarak dan

luas tertentu yang kemudian diukur arus dan tegangan yang dihasilkan. Kelebihan

dari metode ini yaitu teknik pengukuran yang tergolong mudah dan murah (Boisandi

& Nurussaniah, 2018). Metode two point probe dikatakan mudah karena hanya

memerlukan dua probe untuk dimanipulasi.

2.2.6 X-Ray Diffraction (XRD)

X-Ray Diffraction (XRD) merupakan teknik yang digunakan untuk

mengidentifikasi fasa kristalin dalam material dengan cara menentukan parameter

struktur kisi serta untuk mendapatkan ukuran partikel. Bahan yang dianalisis berupa

tanah halus, homogenized dan rata-rata komposisi massal ditentukan. (Ratnasari,

2009).

Peristiwa pembentukan sinar-X dapat dijelaskan yaitu pada saat menumbuk

logam, elektron yang berasal dari katoda (elektron datang) menebus kulit atom,

elektron ditarik mendekati kulit inti atom. Pada waktu mendekati inti atom, elektron

ditarik mendekati inti atom yang bermuatan positif, sehingga lintasan elektron
 18

berbelok dan kecepatan elektron berkurang atau diperlambat. Karenaa perlambatan

ini, maka energi elektron berkurang. Energi yang hilang ini dipancarkan dalam

bentuk sinar-X, proses ini dikenal sebagai proses bremsstrahlun (Syam, 2017:14).

Ketika suatu material terkena sinar-X, intensitas cahaya yang ditransmisikan lebih

rendah dari intensitas cahaya yang datang. Hal ini disebabkan karena adanya

penyerapan oleh material dan hamburan oleh atom-atom material.

Secara umum prinsip kerja dari XRD terdiri dari tiga bagian utama, yaitu

tabung sinar-X, tempat obyek sampel dan detektor sinar-X yang berisi katoda yang

memanaskan filament untuk menghasilkan elektron. Perbedaan tegangan

menyebabkan percepatan elektron yang akan dipancarkan menuju objek. Pada saat

elektron memilki tingkat energi yang tinggi dan menabrak elektron dalam suatu

objek, sinar-X akan dipancarkan. Objek dan detektor berputar untuk menangkap dan

merekam intesitas pantulan sinar-X. Detektor akan merekam dan akan memproses

sinyal sinar-X dan kemudian mengolahnya menjadi bentuk grafik. (Ratnasari,

2009:3)

Gambar 2.5 Prinsip kerja X-ray

Sumber : Beiser (1992)
 19

Dari Gambar 4.2 di atas, dapat dijelaskan bahwa ketika sampel padatan

kristalin disinari dengan sinar-X, bidang kristal ini membiaskan sinar-X dengan

panjang gelombang yang sama dengan jarak kisi kristal (menurut hukum Bragg).

Sinar-X yang dibiaskan kemudian ditangkap oleh detektor, setelah itu detektor akan

mencatat puncak intensitas yang akan sesuai dengan orde pembiasan (orde-n) yang

digunakan. Kemudian hasilnya akan ditampilkan dalam format grafik, dalam bentuk

difraktogram yang merupakan grafik hubungan antara intesitas (cps) dengan 2θ,

adapun bentuk grafik difraktogram dapat dilihat pada gambar dibawah ini:

2.3 Kerangka Pemikiran

Lapisan transparan konduktif adalah sebuah material konduktif dan transparan

yang dilapiskan pada kaca. Transparent Conductive Oxide (TCO), merupakan

material penting yang digunakan dalam berbagai teknologi modern pada saat ini.

Pengaplikasian dari lapisan ini sangat luas dan erat kaitannya dengan masyarakat.

Mulai dari sel surya, layar LCD atau plasma, layar smartphone hingga sensor cahaya.

TCO merupakan salah satu komponen terpenting dalam perangkat DSSC (Dye

Senitized Solar Cell). Adapun salah satu material TCO yang banyak dipasarkan yaitu

Indium Tin Oxide (ITO). Namun karena bahan pembuatan ITO langkah dan mahal,

oleh karena itu, perlu adanya penelitian tentang material TCO yang bisa

menggantikan fungsi dari ITO. Selain ITO, salah satu oksida yang digunakan dalam
 20

pembuatan TCO adalah Fluorine-Doped Tin Oxide (FTO). Pada umumnya FTO

memiliki sifat yang lebih resistan secara kimiawi, murah dan ketersediaan bahan baku

yang lebih mudah diperoleh. Dalam aplikasinya pada DSSC FTO dianggap sangat

potensial digunakan sebagai elektroda karena menunjukkan sifat konduktivitas listrik

yang relatif lebih tahan terhadap perlakuan pemanasan dibandingkan ITO. Oleh

karena itu, semikonduktor FTO ini diharapkan dapat menggantikan fungsi ITO yang

bahan bakunya sangat mahal.

Pembuatan lapisan tipis Fluorine-Doped Tin Oxide (FTO) menggunakan

metode spray pyrolysis. Dengan bahan yang digunakan yaitu Tin (II) Chloride

(SnCl . 2H O) dan ammonium fluoride (NH F) dan ethanol 96%. Temperatur

pemanasan substrat divariasikan pada temperatur 450°C, 475°C, 500°C untuk

menghasilkan kondisi optimum dari lapisan tipis FTO.

 21

Pentingnya lapisan Transparan

Conductive Oxide (TCO)

Indium Tin Oxide Fluorine-doped Tin

Oxide

Mahal dan langka Murah dan memiliki

beberapa kelebihan.

FTO diharapkan menggantikan fungsi

ITO, namun belum optimal sifat
listriknya.

Membuat lapisan tipis FTO

yang optimal.

Gambar 2.6 Skema kerangka pemikiran

 22

BAB III

METODE PENELITIAN

3.1 Jenis Penelitian

Jenis penelitian yang dilakukan pada penelitian ini adalah eksperimen

laboratorium yaitu melakukan pengamatan secara langsung sebab akibat dari suatu

proses. Adapun metode yang digunakan dalam pembuatan kaca FTO adalah metode

spray pyrolysis menggunakan campuran dari larutan perkusor memiliki kandungan

utama bahan SnCl . 2H O dengan larutan dopan NH F.

3.2 Tempat dan Waktu Penelitian

Penelitian dilakukan di Laboratorium Program Studi Pendidikan Fisika,

Jurusan Matematika dan Ilmu Pengetahuan Alam, Fakultas Keguruan dan Ilmu

Pendidikan, Universitas Tadulako. Kemudian untuk pengujian dilakukan di

Laboratorium Mineral dan Material Maju FMIPA UM. Adapun waktu penelitian

dilakukan pada bulan November sampai dengan Desember.

3.3 Variabel Penelitian

1. Variabel bebas

Adapun variabel bebas dalam penelitian ini yaitu penggunaan larutan prekusor

NH F:SnCl . 2H O dan temperatur pendeposisian.

22
 23

2. Variabel Terikat

Variabel terikat adalah variabel yang nilai dan kondisinya bergantung pada

variabel bebas yang telah ditentukan. Variabel terikat dalam penelitian ini yaitu nilai

resistansi (𝜴)

3.4 Alat dan Bahan

A. Alat Penelitian

1) Nebulizer OMRON NE-C28, digunakan untuk pendeposisian agar larutan

prekusor teratomisasi dan menempel pada permukaan substrat.

Gambar 3.1 Nebulizer OMRON Ne-C28

2) Digital Ultrasonic Cleaner, berfungsi untuk membersihkan kotoran pada kaca

sebelum dilakukan proses pembentukan lapisan diatas kaca.

Gambar 3.2 Ultrasonic cleaner

 24

3) Neraca Digital, digunakan untuk mengukur massa Tin (II) Klorida Dihidrat

(SnCl . 2H O) dan Amonium Fluorida (NH F) agar sesuai dengan konsentrasi

larutan yang ditentukan.

Gambar 3.3 Neraca digital

4) Magnetik Stirrer sekaligus Plat Pemanas, dimana magnetik stirrer digunakan

untuk mengaduk larutan agar terciptanya larutan yang homogen dan plat

pemanas digunakan untuk memanaskan kaca agar larutan yang teratomisasi

dapat menempel ke permukaan kaca.

Gambar 3.4 Mgnetic Stirrer dan plat pemanas

5) Aluminium Foil, digunakan untuk melapisi plat pemanas pada saat proses

pembentukan lapisan FTO.

 25

Gambar 3.5 Aluminium foil

6) Selang dan corong, digunakan untuk meneruskan prekusor ke plat pemanas

dan juga berfungsi untuk membatasi agar larutan prekusor pada proses spray

pyrolysis tidak menyebar ke lingkungan.

Gambar 3.6 Selang dan corong

7) Statif dan Klem, digunakan untuk mempertahankan selang yang terhubung

corong tetap kokoh.

Gambar 3.7 Statif dan klem

 26

B. Bahan Penelitian

1) Kaca sebelum pelapisan

2) Tin (II) Klorida Dihidrat (SnCl 2H O)

Gambar 3.8 SnCl 2H O

3) Amonium Fluoride (NH F)

Gambar 3.9 NH F

4) Ethanol 96%.
 27

3.5 Prosedur Kerja

Proses pembuatan FTO dalam penelitian ini menggunakan metode spray

pyrolysis. Spray pyrolisis merupakan metode untuk membuat nanopartikel yang

memanfaatkan atomisasi atau penyemprotan larutan droplet ke atas permukaan kaca

yang dipanasi menggunakan hotplate. Pada saat droplet yang menyentuh permukaan

kaca yang panas maka terbentuk partikel oksida yang menempel pada permukaan

kaca. Adapun variasi temperatur 450°C, 475°C, 500°C dengan waktu tetap 40 menit.

Untuk konsentrasi 0,7 M yaitu dengan melarutkan SnCl 2H O 16,1161 g dan NH F

0,2646 g. Adapun prosedur pembuatan lapisan tipis FTO ini adalah:

1. Menyiapkan alat dan bahan yang digunakan.

2. Membuat larutan prekusor dengan konsentrasi 0,7 M.

a. Menimbang prekusor menggunakan timbangan digital

 SnCl 2H O sebesar 16,1161 gram

 NH F sebesar 0,2646 gram

b. Kemudian melarutkan prekusor dengan 100 ml ethanol 96%.

c. Setelah itu dilakukan pengadukan larutan prekusor menggunakan

magnetik stirrer selama ± 1 jam sampai larutan homogen.

3. Membersihkan substrat kaca menggunakan digital ultrasonic cleaner selama 5

menit. Adapun subtrat kaca berukuran 3 × 3 cm dengan ketebalan 2 mm.

 28

4. Meletakkan kaca yang telah dibersihkan di plat pemanas.

5. Memanaskan kaca pada temperatur 450°C, 475°C,500° C.

6. Melakukan penyemprotan larutan dengan nebulizer pada kaca yang

dipanaskan selama 40 menit.

7. Mematikan nebulizer dan plat pemanas.

3.6 Prosedur Pengujian Kaca FTO

Pengujian sampel yang dilakukan pada kaca FTO untuk mendapatkan data

dan proses analisis dari variabel penelitian. Pengujian yang dilakukan untuk sampel

terdiri dari empat pengujian yaitu pengujian resitansi kaca FTO menggunakan

multimeter, pengujian resistansi kaca FTO dengan metode two poin probe, pengujian

morfologi kaca FTO menggunakan SEM, dan pengujian X-Ray Diffraction (XRD).

3.6.1 Pengujian Resistansi dengan Menggunakan Multimeter

Pengujian resistansi secara langsung menggunakan alat multimeter dilakukan

di Laboratorium Pendidikan Fisika, Universitas Tadulako. Adapun langkah-langkah

pengujian resistansi menggunakan multimeter sebagai berikut.

1. Siapkan multimeter.

2. Tancapkan probe merah pada terminal + dan probe hitam pada terminal –

(com).

3. Pilih pengali dengan mengarahkan knop multimeter pada pengali tahanan.

4. Lakukan kalibrasi alat ukur.

 29

5. Dua ujung probe ditempatkan secara terpisah di atas kaca FTO dengan jarak

± 1 mm.

6. Lakukan pembacaan skala.

3.6.2 Pengujian Resistansi dengan Metode Two Point Probe

Pengukuran resistansi menggunakan metode two point probe. Two point

probe merupakan metode yang mudah diterapkan karena hanya memerlukan dua

probe untuk dimanipulasi. Teknik two point probe memilki dua probe yang masing-

masing berfungsi sebagai aliran arus dan tegangan (Hanafi, S.A., 2020). Adapun

pengujian resistansi kaca FTO dengan two point probe ini dilakukan di Laboratorium

Mineral dan Material Maju FMIPA UM. Pada metode two poin probe ini, probe

pertama berfungsi untuk mengalirkan arus listrik dan probe yang lain berfungsi

mengukur tegangan listrik ketika probe-probe tersebut diterapkan pada sampel.

Perubahan arus diperoleh dari perubahan tegangan yang diberikan. Diukur

sedemikian rupa sehingga besarnya hambatan didasarkan pada nilai tegangan dan

arus. Nilai resistansi sangat dipegaruhi oleh elektroda.

3.6.3 Pengujian SEM

Pada proses pengamatan dengan SEM pada lapisan tipis FTO menggunakan

alat SEM untuk mengetahui bentuk permukaan dan lapisan dari bahan semikonduktor

oksida. Proses pengujian SEM ini dilakukan di Laboratorium Mineral dan Material

Maju FMIPA UM. Langkah-langkah pengujian SEM sebagai berikut.

1. Menyiapkan sampel yang akan diuji

 30

2. Lapisi permukaan sampel yang diuji dengan emas atau platina.

3. Letakkan sampel yang sudah diuji kedalam mesin foto pengujian.

4. Pengujian dilakukan dengan menembakkan elektron pada sampel

kemudian menganalisis data dari hasil pengujian.

3.6.3 Pengujian X-Ray Diffraction (XRD)

X-Ray Diffraction (XRD) merupakan teknik yang digunakan untuk

mengidentifikasi fasa kristalin dalam material dengan cara menentukan parameter

struktur kisi serta untuk mendapatkan ukuran partikel. Bahan yang dianalisis berupa

tanah halus, homogenized dan rata-rata komposisi massal ditentukan. (Ratnasari,

2009). Pengujian XRD ini dilakukan di Laboratorium Mineral dan Material Maju

FMIPA UM. Adapun langkah-langkah pengujian XRD sebagai berikut.

1. Siapkan sampel yang diuji.

2. Ambil sampel serbuk, tempatkan dalam slide kaca untuk sampel (tempat

sampel) dan berikan ke masing-masing sampel.

3. Tempatkan slide pada penguji XRD.

4. Sampel siap ditembak dan dianalisis menggunakan mesin XRD.

 31

3.7 Diagram Alir Penelitian

Mulai

Siapkan alat dan bahan

Membuat larutan
prekusor konsentrasi
0,7 M

Variasi Temperatur
450℃, 475℃, dan
500℃ dengan waktu
tetap 40 menit

Kaca FTO

Uji Resistansi Uji SEM Uji XRD

SEM\\

Nilai Optimum

Gambar 3.10 Diagram Alir Penelitian

 BAB IV

HASIL PENELITIAN DAN PEMBAHASAN

4.1 Hasil

Pada penelitian ini dilakukan pembuatan kaca FTO (Flourine Doped Tin

Oxide) dimana metode yang digunakan oleh peneliti adalah metode spray pyrolysis.

Penelitian ini dilakukan di Laboraturium Pendidikan Fisika. Adapun parameter yang

digunakan pada penelitian ini yaitu variasi temperatur, dengan menggunakan variasi

temperatur 450℃, 475℃, dan 500℃ dengan waktu deposisi tetap 40 menit.

Hasil dari penelitian ini didapatkan tiga kaca FTO dengan masing-masing variasi

temperatur yang berbeda. Sebagaimana terdapat pada Gambar 4.1

a. b.

c. d.

Gambar 4.1 (a) Kaca sebelum pelapisan; (b) 450℃ ; (c) 475℃ ; (d) 500℃

32
 33

Dari empat kaca yang ada pada Gambar 4.1 dapat dilihat perbedaan kaca

sebelum pelapisan dan kaca setelah dilapisi. Dimana kaca sebelum pelapisan terlihat

lebih transparan dibandingkan dengan ketiga kaca yang telah dilakukan pelapisan

prekusor larutan. Dari tiga sampel yang dihasilkan, dapat terlihat bahwa masing-

masing sampel memiliki transparansi yang berbeda. Dimana pada sampel kaca FTO

dengan temperatur 450℃. Memiliki resistansi 615,38 𝜴, sedangkan pada sampel kaca

FTO temperatur 475℃ memiliki resistansi 400 𝜴, dan pada sampel kaca FTO yang

temperaturnya 500℃ mempunyai resistansi 14 k𝜴.

4.1.1 Hasil Pengukuran Resistansi dengan Menggunakan Multimeter

Pengukuran secara langsung nilai resitansi kaca FTO yang dibuat dengan

variasi temperatur deposisi 450℃, 475℃, dan 500℃ diukur dengan menggunakan

alat multimeter, dengan hasil pengukuran pada Tabel 4.1

Tabel 4.1 Nilai Resistansi Kaca FTO Menggunakan Alat Multimeter
Waktu (menit) Temperatur Deposisi (℃) Resistansi (𝜴)

40 450 94,5-300

40 475 41,3-99

40 500 153,5 -2.445 k

 34

Berdasakan Tabel 4.1 pada temperatur 450℃ didapatkan resistansi sekitar

94,5-300 𝜴 kemudian resistansi kembali turun pada temperatur 475℃ yaitu sekitar

41,3-99 𝜴, kemudian temperatur dinaikkan menjadi 500℃ maka resistansi kembali

naik menjadi 153,4 𝜴-2.445 k𝜴. Maka dari pengukuran resistansi kaca FTO

menggunakan alat multimeter didapatkan nilai resistansi terendah pada temperatur

475℃.

4.1.1 Hasil Pengukuram Resistansi dengan Metode Two Point Probe

A. Kaca FTO dengan temperatur 450℃

1.5 y = 854.34x - 0.1258

R² = 0.8034
Tegangan (V)

0.5

0
-2.00E-040.00E+002.00E-044.00E-046.00E-048.00E-041.00E-031.20E-031.40E-031.60E-031.80E-03

-0.5
Arus (I)

Gambar 4.2 Kurva I-V hasil pengukuran temperatur 450℃

∆V
R=
∆I
 35

0,89 − 0,65
=
(1,57 × 10 − 1,18 × 10 )
0,24
=
(0,39 × 10 )
0,24
=
0,00039
= 615,38 𝜴

B. Kaca FTO dengan temperatur 475℃

1.5 y = 865.24x - 0.1136

R² = 0.6906
Tegangan (V)

0.5

0
-2.00E-040.00E+00 2.00E-04 4.00E-04 6.00E-04 8.00E-04 1.00E-03 1.20E-03 1.40E-03 1.60E-03

-0.5
Arus (I)

Gambar 4.3 Kurva I-V hasil pengukuran temperatur 475℃

∆V
R=
∆I
0,56 − 0,48
=
(1,21 × 10 − 1,01 × 10 )
0,08
=
(0,2 × 10 )
 36

0,08
=
0,0002
= 400 𝜴

C. Kaca FTO dengan temperatur 500℃

2
1.8
1.6 y = 13831x + 0.0157
1.4 R² = 1
Tegangan (V)

1.2
1
0.8
0.6
0.4
0.2
0
-2.00E-05 -0.2
0.00E+00 2.00E-05 4.00E-05 6.00E-05 8.00E-05 1.00E-04 1.20E-04 1.40E-04
Arus (I)
Gambar 4.4 Kurva I-V hasil pengukuran temperatur 500℃

∆V
R=
∆I
1,73 − 1,66
=
(1,24 × 10 − 1,19 × 10 )
0,07
=
(0,05 × 10 )
0,07
=
0,000005
= 14.000 𝜴
 37

1600
1400
Resistansi (𝜴) 1200
1000
800
600
400
200
0
450 475 500
Temperatur (℃ )

Gambar 4.5 Grafik hubungan suhu dan resistansi

Dari hasil pengukuran yang dilakukan, dapat dilihat bahwa resistansi terendah

(Optimum) didapatkan pada temperatur 475℃. Pada kenaikan temperatur substrat

dari 450℃ - 475℃ niai resistansi menurun yaitu dari 615,38 𝜴 sampai 400 𝜴 hal ini

disebabkan pada kenaikan temperatur substrat juga dapat membuat diameter partikel

semakin besar shingga rongga semakin sedikit dan dapat mengakibatkan elektron

mudah mengalir sehingga resistansi semakin turun sebagaimana terdapat pada hasil

pengukuran SEM Gambar 4.6 (a) 450℃ dan (b) 475℃.

Pada temperatur 500℃, resistansi yang dapatkan kembali naik yaitu 14 k𝜴 hal

ini disebabkan karena pada temperatur yang telah melewati batas optimum larutan

penyusun FTO dapat menguap sehingga lapisan FTO berkurang kerapatannya

ataupun densitas jumlahnya sebagaimana dapat dilihat pada hasil pengukuran SEM

Gambar 4.6 (c) 500℃.

 38

4.1.2 Hasil Pengukuran SEM (Scanning Electron Microscopy)

.
a b

Gambar 4.6 Hasil SEM kaca FTO pada temperatur (a) 450℃ ; (b) 475℃ ; (c)
500℃

Gambar 4.6 di atas memperlihatkan morfologi kaca FTO yang di hasilkan.

Menurut Arini (2017), hasil konduktivitas listrik ini dapat berhubungan dengan

partikel morfologi kaca FTO yang dihasilkan. Adapun pada gambar (a) 450℃ terlihat

morfologi kaca telah menghasilkan partikel namun masih terlihat adanya rongga,

kemudian morfologi kaca FTO pada gambar (b) 475℃ terlihat bahwa ukuran partikel

semakin besar dan rapat sehingga rongga semakin sedikit, hal ini dapat menyebabkan

aliran listrik semakin lancar dan resistansi semakin menurun, pada gambar (c) 500℃
 39

terlihat ukuran partikel seamkin kecil dan terdapat banyak rongga, hal ini sesuai

dengan penelitian Yadav (2009) bahwa film tumbuh pada suhu optimal dan akan

menurun bila temperatur berada diatas suhu optimal. Berubahnya ukuran partikel

yang semakin mengecil pada suhu 500℃ dapat disebabkan karena pada suhu tersebut

sudah melewati batas optimal hal ini dikarenakan sedikitnya prekusor yang

terdeposisi di atas substrat akibat prekusor telah menguap terlebih dahulu jauh

sebelum mengenai substratnya.

4.1.3 Hasil Pengujian XRD

4.1.3.1 Hasil Uji XRD ( X-Ray Diffraction) Berupa Difraktogram

a. Temperatur 450℃

Gambar 4.7 Difraktogram Hasil Uji XRD pada temperatur 450℃

 40

Tabel 4.2 Daftar Puncak Difraktogram Hasil Uji XRD pada temperatur 450℃

No Pos. [°2Th.] Height [cts] FWHM [°2Th.] d-spacing Rel.Int. [%]

[Å]

1 26.5101 121.36 0.1968 3.36233 47.63

2 33.7858 188.40 0.1181 2.65307 73.94

3 37.8431 78.17 0.1968 2.37743 30.68

4 51.6380 254.81 0.1378 1.77011 100.00

5 61.7800 15.60 0.4723 1.50166 6.12

6 65.7720 92.86 0.2362 1.41985 36.44

7 78.5801 15.31 0.3840 1.21643 6.01

Pada daftar puncak Tabel 4.2 dapat diketahui bahwa padatan atau struktur

kristalin FTO terbentuk pada posisi 26.5101°θ dengan ketinggian puncak 121.36 cts,

pada posisi 33.7858°θ dengan ketinggian 188.40 cts, posisi 37.8431°θ dengan

ketinggian 78.17 cts, posisi 51.6380°θ dengan ketinggian 254.81 cts, posisi

61.7800°θ dengan ketinggian 15.60 cts, posisi 65.7720°θ dengan ketinggian 92.86

cts, dan pada posisi 78.5801°θ dengan ketinggian 15.31 cts.

 41

b. Temperatur 475℃

Gambar 4.8 Difraktogram Hasil Uji XRD pada temperatur 475℃

Tabel 4.3 Daftar Puncak Difraktogram Hasil Uji XRD pada temperatur 475℃

No Pos. [°2Th.] Height [cts] FWHM [°2Th.] d-spacing Rel.Int. [%]

[Å]

1 26.4878 368.53 0.1378 3.36512 100.00

2 33.7571 212.20 0.0984 2.65526 57.58

3 37.8373 116.55 0.1574 2.37778 31.63

4 51.6407 215.23 0.1378 1.77003 58.40

5 54.6595 22.53 0.3149 1.67920 6.11

6 61.7688 30.11 0.3149 1.50190 8.17

7 65.7765 53.18 0.1574 1.41977 14.43

8 78.6084 16.34 0.4723 1.21707 4.43

9 80.9598 6.29 0.5760 1.18657 1.71

 42

Pada daftar puncak Tabel 4.3 dapat diketahui bahwa padatan atau struktur

kristalin FTO terbentuk pada posisi 26.4878°θ dengan ketinggian puncak 368.53 cts,

pada posisi 33.7571°θ dengan ketinggian 212.20 cts, posisi 37.8373°θ dengan

ketinggian 116.55 cts, posisi 51.6407°θ dengan ketinggian 215.23 cts, posisi

54.6595°θ dengan ketinggian 22.53 cts, posisi 61.7688°θ dengan ketinggian 30.11

cts, posisi 65.7765°θ dengan ketinggian 53.18 cts, posisi 78.6084°θ dengan

ketinggian 16.34 cts, dan pada posisi 80.9598°θ dengan ketinggian 6.29 cts.

c. Temperatur 500℃

Gambar 4.9 Difraktogram Hasil Uji XRD pada temperatur 500℃

 43

Tabel 4.4 Daftar Puncak Difraktogram Hasil Uji XRD pada Tmperatur 500℃

No Pos. [°2Th.] Height [cts] FWHM [°2Th.] d-spacing Rel.Int. [%]

[Å]

1 26.5174 250.72 0.1181 3.36143 100.00

2 33.7995 89.20 0.1574 2.65202 35.58

3 37.8860 54.90 0.1574 2.37484 21.90

4 51.6917 93.39 0.2362 1.76840 37.25

5 54.7263 12.53 0.4723 1.67730 5.00

6 61.8757 8.29 0.9446 1.49956 3.31

7 65.8620 15.24 0.4723 1.41813 6.08

8 78.6065 5.87 1.1520 1.21609 2.34

Pada daftar puncak Tabel 4.4 dapat diketahui bahwa padatan atau struktur

kristalin FTO terbentuk pada posisi 26.5174°θ dengan ketinggian puncak 250.72 cts,

pada posisi 33.7995°θ dengan ketinggian 89.20 cts, posisi 37.8860°θ dengan

ketinggian 54.90 cts, posisi 51.6917°θ dengan ketinggian 93.39 cts, posisi 54.7263°θ

dengan ketinggian 12.53 cts, posisi 61.8757°θ dengan ketinggian 8.29 cts, posisi

65.8620°θ dengan ketinggian 15.24 cts, dan pada posisi78.6065°θ dengan ketinggian

5.87 cts.
 44

4.1.3.2 Hasil Perhitungan Ukuran Kristal

Hasil dari pengujian XRD digunakan untuk mencari ukuran kristal dengan

fase tertentu berdasarkan pada puncak-puncak utama pola difraktogram

menggunakan persamaan Debye Scherrer yang dirumuskan:

𝐾𝜆
𝐷=
𝛽 cos 𝜃
Ket.
D = Ukuran Kristal
K = Faktor bentuk dari Kristal (0,9-1)
𝜆 = Panjang gelombang dari sinar X (1,54056 Å = 0,15406 nm)
𝛽 =Nilai dari full width at half maximum (FWHM) (rad)
𝜃 = Sudut difraksi (derajat)

a. Temperatur 450℃
1. 𝜃 = 26,5101
𝛽 = 0,1968

𝐾𝜆
𝐷=
𝛽 cos 𝜃

0,9 × 0,15406
=
0,1986 (cos 26,5101)

0,138654
=
0,1986 (0,8948)

0,138654
= = 0,7874 𝑛𝑚
0,176097

2. 𝜃 = 33,7858
𝛽 = 0,1181
 45

𝐾𝜆
𝐷=
𝛽 cos 𝜃

0,9 × 0,15406
=
0,1181 (cos 33,7858)

0,138654
=
0,1181 (0,8311)

0,138654
= = 1,4126 𝑛𝑚
0,098153

3. 𝜃 = 37,8431
𝛽 = 0,1968

𝐾𝜆
𝐷=
𝛽 cos 𝜃

0,9 × 0,15406
=
0,1968 (cos 37,8431)

0,138654
=
0,1968 (0,7897)

0,138654
= = 0,0,8922 𝑛𝑚
0,155413

4. 𝜃 = 51,6380
𝛽 = 0,1378

𝐾𝜆
𝐷=
𝛽 cos 𝜃

0,9 × 0,15406
=
0,1378 (cos 51,6380)
 46

0,138654
=
0,1378 (0,6206)

0,138654
= = 1,6213 𝑛𝑚
0,085519

5. 𝜃 = 61,7800
𝛽 = 0,4723

𝐾𝜆
𝐷=
𝛽 cos 𝜃

0,9 × 0,15406
=
0,4723 (cos 61,7800)

0,138654
=
0,4723 (0,4728)

0,138654
= = 0,6209 𝑛𝑚
0,223303

6. 𝜃 = 65,7720
𝛽 = 0,2362

𝐾𝜆
𝐷=
𝛽 cos 𝜃

0,9 × 0,15406
=
0,2362(cos 65,7720)

0,138654
=
0,2362 (0,4104)

0,138654
= = 1,4304 𝑛𝑚
0,096936
 47

7. 𝜃 = 78,5801
𝛽 = 0,3840

𝐾𝜆
𝐷=
𝛽 cos 𝜃
0,9 × 0,15406
=
0,3840(cos 78,5801)

0,138654
=
0,3840 (0,1980)

0,138654
= = 1,8236 𝑛𝑚
0,076032

Hasil perhitungan menggunakan persamaan Debye Scherrer diperoleh nilai nilai

rata-rata dari ukruan kristal pada temperatur 450℃ :

𝐷 +𝐷 +𝐷 +𝐷 +𝐷 +𝐷 +𝐷
𝐷=
7

0,7874 + 1,4126 + 0,8922 + 1,6213 + 0,6209 + 1,4304 + 1,8236

=
7

8,5889
= = 1,2269 𝑛𝑚
7

b. Temperatur 475℃

1. 𝜃 = 26,4878
𝛽 = 0,1378

𝐾𝜆
𝐷=
𝛽 cos 𝜃
 48

0,9 × 0,15406
=
0,1378 (cos 26,4878)

0,138654
=
0,1378 (0,8950)

0,138654
= = 1,1242 𝑛𝑚
0,123331

2. 𝜃 = 33,7571
𝛽 = 0,0984

𝐾𝜆
𝐷=
𝛽 cos 𝜃
0,9 × 0,15406
=
0,0984 (cos 33,7571)

0,138654
=
0,0984 (0,8314)

0,138654
= = 1,6948 𝑛𝑚
0,081810

3. 𝜃 = 37,8373
𝛽 = 0,1574

𝐾𝜆
𝐷=
𝛽 cos 𝜃
0,9 × 0,15406
=
0,1574 (cos 37,8373)

0,138654
=
0,1574 (0,7898)
 49

0,138654
= = 1,1154 𝑛𝑚
0,124314

4. 𝜃 = 51,6407
𝛽 = 0,1378

𝐾𝜆
𝐷=
𝛽 cos 𝜃
0,9 × 0,15406
=
0,1378 (cos 51,6407)

0,138654
=
0,1378 (0,6206)

0,138654
= = 2,5123 𝑛𝑚
0,085519

5. 𝜃 = 54,6595
𝛽 = 0,3149

𝐾𝜆
𝐷=
𝛽 cos 𝜃
0,9 × 0,15406
=
0,3149 (cos 54,6595)

0,138654
=
0,3149 (0,5784)

0,138654
= = 0,0252 𝑛𝑚
0,182138

6. 𝜃 = 61,7688
𝛽 = 0,3149
 50

𝐾𝜆
𝐷=
𝛽 cos 𝜃
0,9 × 0,15406
=
0,3149 (cos 61,7688)

0,138654
=
0,3149 (0,4730)

0,138654
= = 0,9309 𝑛𝑚
0,148948

7. 𝜃 = 65,7765
𝛽 = 0,1574

𝐾𝜆
𝐷=
𝛽 cos 𝜃
0,9 × 0,15406
=
0,1574 (cos 65,7765)

0,138654
=
0,1574 (0,4103)

0,138654
= = 2,1470 𝑛𝑚
0,064581

8. 𝜃 = 78,6084
𝛽 = 0,4723

𝐾𝜆
𝐷=
𝛽 cos 𝜃
0,9 × 0,15406
=
0,4723 (cos 78,6084)

0,138654
=
0,4723 (0,1975)
 51

0,138654
= = 1,4864 𝑛𝑚
0,093279

9. 𝜃 = 80,9598
𝛽 = 0,5760

𝐾𝜆
𝐷=
𝛽 cos 𝜃
0,9 × 0,15406
=
0,5760 (cos 80,9598)

0,138654
=
0,5760 (0,1571)

0,138654
= = 1,5322 𝑛𝑚
0,090490

Hasil perhitungan menggunakan persamaan Debye Scherrer diperoleh nilai nilai

rata-rata dari ukruan kristal pada temperatur 475℃ :

𝐷 +𝐷 +𝐷 +𝐷 +𝐷 +𝐷 +𝐷 +𝐷 +𝐷
𝐷=
9

1,1242 + 1,6945 + 1,1154 + 2,5123 + 0,0252 + 0,9309

+2,1470 + 1,4864 + 1,5322
=
9

12,5684
= = 1,3965 𝑛𝑚
9

c. Temperatur 500℃

1. 𝜃 = 26,5174
𝛽 = 0,1181
 52

𝐾𝜆
𝐷=
𝛽 cos 𝜃
0,9 × 0,15406
=
0,1181 (cos 26,5174)

0,138654
=
0,1181 (0,8948)

0,138654
= = 1,3121 𝑛𝑚
0,105676

2. 𝜃 = 33,7995
𝛽 = 0,1574

𝐾𝜆
𝐷=
𝛽 cos 𝜃
0,9 × 0,15406
=
0,1574 (cos 33,7995)

0,138654
=
0,1574 (0,8310)

0,138654
= = 1,0600 𝑛𝑚
0,130799

3. 𝜃 = 37,8860
𝛽 = 0,1574

𝐾𝜆
𝐷=
𝛽 cos 𝜃
0,9 × 0,15406
=
0,1574 (cos 37,8860)
 53

0,138654
=
0,1574 (0,7892)

0,138654
= = 1,1162 𝑛𝑚
0,124220

4. 𝜃 = 51,6917
𝛽 = 0,2362

𝐾𝜆
𝐷=
𝛽 cos 𝜃
0,9 × 0,15406
=
0,2362 (cos 51,6917)

0,138654
=
0,2362 (0,6199)

0,138654
= = 0,9470 𝑛𝑚
0,146420

5. 𝜃 = 54,7263
𝛽 = 0,4723

𝐾𝜆
𝐷=
𝛽 cos 𝜃
0,9 × 0,15406
=
0,4723 (cos 54,7263)

0,138654
=
0,4723 (0,5775)

0,138654
= = 0,5084 𝑛𝑚
0,272753

6. 𝜃 = 61,8757
 54

𝛽 = 0,9446

𝐾𝜆
𝐷=
𝛽 cos 𝜃
0,9 × 0,15406
=
0,9446 (cos 61,8757)

0,138654
=
0,9446 (0,4714)

0,138654
= = 0,3114 𝑛𝑚
0,445284

7. 𝜃 = 65,8620
𝛽 = 0,4723

𝐾𝜆
𝐷=
𝛽 cos 𝜃
0,9 × 0,15406
=
0,4723 (cos 65,8620)

0,138654
=
0,4723 (0,4089)

0,138654
= = 0,7180 𝑛𝑚
0,193123

8. 𝜃 = 78,6065
𝛽 = 1,1520

𝐾𝜆
𝐷=
𝛽 cos 𝜃
0,9 × 0,15406
=
1,1520 (cos 78,6065)
 55

0,138654
=
1,1520 (0,1975)

0,138654
= = 0,6094 𝑛𝑚
0,22752

Hasil perhitungan menggunakan persamaan Debye Scherrer diperoleh nilai nilai

rata-rata dari ukuran kristal pada temperatur 500℃ :

𝐷 +𝐷 +𝐷 +𝐷 +𝐷 +𝐷 +𝐷 +𝐷
𝐷=
8

1,3121 + 1,0600 + 1,1162 + 0,9470 + 0,3114 + 0,5084 + 0,7180

+0,6094
=
8

6,5825
= = 0,8228 𝑛𝑚
8

Hasil perhitungan ukuran kristal didapatkan perbedaan ukuran kristal pada

variasi temperatur 450℃, 475℃, dan 500℃. Perbandingannya dapat dilihat pada

Tabel 4.5.
Tabel 4.5 Perbandingan Ukuran Kristal Pada Variasi Temperatur
No. Temperatur (℃) Ukuran Kristal (nm)

1 450℃ 1,2269 nm

2 475℃ 1,3695 nm

3 500℃ 0,8228 nm
 56

Tabel 4.5 menujukkan hasil perhitungan ukuran kristal pada setip varisai

temperatur 450℃, 475℃ dan 500℃ berdasarkan pengukran XRD berupa

difraktogram. Pada penelitian ini ukuran kristal terbesar didapatkan pada temperatur

475℃ yaitu 1,3695 nm. Sedangkan, ukuran kristal terkecil didapatkan pada

temperatur 500℃ sebesar 0,8228 nm. Selanjutnya untuk temperatur 450℃ didapatkan

ukuran kristal sebesar 1,2269 nm.

4.2 Pembahasan

Penelitian ini bertujuan untuk mendapatkan kondisi optimum sifat listrik pada

lapisan tipis Fluorine Doped Tin Oxide (FTO). Penelitian ini dilakukan di

laboratorium pendidikan Fisika, Universitas Tadulako. Pada penelitian ini dapat

diketahui terjadi perubahan pengaruh variasi temperatur terhadap konduktivitas kaca

FTO. Hal ini berdasarkan pengujian resistansi menguunakan metode two point

probe, dimana pada temperatur 450℃ sampai 475℃ resistansi cenderung menurun

dari 615,38 𝜴 sampai 400 𝜴 sehingga konduktifitas akan semakin baik pada kenaikan

suhu tersebut, hal ini didukung dengan analisa SEM pada Gambar 4.6 (a) 450℃ dan

(b) 475℃, didapatkan pada temperatur 450℃ sampai 475℃ pertumbuhan partikel

semakin besar dan berkurangnya rongga. Dimana rongga ini dapat bertindak sebagai

sink untuk jalan elektron (Arini, dkk. 2017).

Dengan berkurangnya rongga maka resistansi dari kaca menurun sehingga

konduktivitas kaca semakin baik. Kemudian, pada saat temperatur dinaikkan menjadi
 57

500℃ resistansi yang didapatkan kembali naik yaitu sebesar 14 k𝜴 hal ini dapat

dibuktikan dengan perubahan morfologi kaca pada Gambar 4.6 (c) 500℃, dimana

pada suhu tersebut partikel yang dihasilkan semakin kecil dan terdapat banyak rongga

sehingga konsenkuensinya resistansi menjadi tinggi dan menyebabkan konduktivitas

kaca berkurang. Hal ini didukung dengan penelitian Yadav (2009) yang menyatakan

bahwa lapisan akan tumbuh pada suhu optimal dan akan menurun apabila temperatur

berada diatas suhu optimal. Sehingga, pada penelitian ini didapatkan suhu optimal

berada di temperatur 475℃ karena pada suhu tersebut lapisan semakin besar dan

memiliki rongga yang sedikit sehingga dapat menyebabkan konduktivitas semakin

baik. Adapun batas optimal suhu berada di 500℃ karena pada suhu tersebut lapisan

semakin mengecil dan terdapat banyak rongga. Hal ini disebabkan pada saat suhu

berada dibatas optimal prekusor yang terdeposisi di atas substrat semakin sedikit

karena banyak yang telah menguap terlebih dahulu jauh sebelum mengenai

substratnya. (Arini, dkk. 2017 )

Selain pengukaran resistansi menggunakan metode two point probe, pada

peneliatan ini juga menggunakan pengukuran resistansi secara langsung

menggunakan multimeter. Adapun hasil resistansi yang diperoleh pada variasi

temperatur deposisi 450℃, 475℃, dan 500℃ berturut-turut yaitu sebesar 94,5-300 𝜴,

41,3-99 𝜴, dan 153,5 𝜴-2.445 k𝜴. Berdasarkan hasil resistansi yang diperoleh maka

dapat disimpulkan bahwa kaca FTO yang optimal didapatkan pada temperatur 475℃

karena memilki nilai resistansi yang paling rendah.

 58

Selanjutnya, pengujian Scanning Electron Microscopy (SEM) dilakukan

untuk menghasilkan struktur morfologi dari lapisan tipis FTO dengan perbesaran

50.000×. Pada Gambar 4.6 memperlihatkan hasil morfologi kaca FTO pada masing-

masing temperatur. Pada temperatur 450℃ terlihat partikel penyusun sudah terbentuk

dengan masih adanya rongga, selanjutnya pada temperatur 475℃ terlihat partikel

penyusunnya semakin membesar dari sebelumnya dan rongaa berkurang hal ini

menyebabkan resistansi yang semakin menurun, pada temperatur 500℃ terlihat

ukuran partikel yang semakin mengecil dan semakin banyak rongga akibatnya

resistansi kembali naik pada temperatur tersebut.

Pengujian sampel selanjutnya yaitu karakterisasi lapisan SnO : F menggunakan

pengujian XRD. Pada Gambar 4.7- 4.9 dapat dilihat pola difraksi sinar-x lapisan tipis

SnO : F yang tumbuh di atas substrat kaca dengan variasi temperatur deposisi 450℃,

475℃, dan 500℃. Prinsip kerja dari XRD yaitu sinar-X ditembakkan pada sampel

dengan panjang gelombang tertentu sehingga terjadi difraksi gelombang untuk bidang

yang berjarak d dan sudut 2θ yang memenuhi hukum difraksi Bragg. Adapun data

hasil karakterisasi dengan XRD yang diperoleh pada penelitian ini dalam bentuk

difraktogram, yaitu berupa grafik hubungan antara intensitas puncak spektrum dan

sudut hamburan (2θ). Pada pengujian XRD ini terbentuk struktur kristal Fluorine-

doped Tin Oxide (FTO) dari campuran 𝑆𝑛𝐶𝑙 . 2𝐻 𝑂 + 𝑁𝐻 𝐹 → 𝑆𝑛𝑂 : 𝐹 (Fluorine

Tin Oxide) yang ditunjukkan dari peak (puncak) yang terbentuk pada pengujian XRD.
 59

Berdasarkan daftar puncak pada masing-masing variasi temperatur dapat dilihat

perbedaan puncak yang terbentuk dari perlakuan temperatur yang berbeda. Pada

daftar puncak temperatur 450℃ diperoleh hasil padatan atau struktur kristalin FTO

terbentuk pada posisi 26.5101°θ dengan ketinggian puncak 121.36 cts, pada posisi

33.7858°θ dengan ketinggian 188.40 cts, posisi 37.8431°θ dengan ketinggian 78.17

cts, posisi 51.6380°θ dengan ketinggian 254.81 cts, posisi 61.7800°θ dengan

ketinggian 15.60 cts, posisi 65.7720°θ dengan ketinggian 92.86 cts, dan pada posisi

78.5801°θ dengan ketinggian 15.31 cts. Selanjutnya, pada daftar puncak 475℃ dapat

diketahui bahwa padatan atau struktur kristalin FTO terbentuk pada posisi 26.4878°θ

dengan ketinggian puncak 368.53 cts, pada posisi 33.7571°θ dengan ketinggian

212.20 cts, posisi 37.8373°θ dengan ketinggian 116.55 cts, posisi 51.6407°θ dengan

ketinggian 215.23 cts, posisi 54.6595°θ dengan ketinggian 22.53 cts, posisi

61.7688°θ dengan ketinggian 30.11 cts, posisi 65.7765°θ dengan ketinggian 53.18

cts, posisi 78.6084°θ dengan ketinggian 16.34 cts, dan pada posisi 80.9598°θ dengan

ketinggian 6.29 cts. Kemudian pada daftar puncak tabel 500℃ dapat diketahui bahwa

padatan atau struktur kristalin FTO terbentuk pada posisi 26.5174°θ dengan

ketinggian puncak 250.72 cts, pada posisi 33.7995°θ dengan ketinggian 89.20 cts,

posisi 37.8860°θ dengan ketinggian 54.90 cts, posisi 51.6917°θ dengan ketinggian

93.39 cts, posisi 54.7263°θ dengan ketinggian 12.53 cts, posisi 61.8757°θ dengan

ketinggian 8.29 cts, posisi 65.8620°θ dengan ketinggian 15.24 cts, dan pada

posisi78.6065°θ dengan ketinggian 5.87 cts.

 60

Kemudian, untuk menentukan ukuran kristal dari lapisan tipis FTO yang

dihasilkan digunakan persamaan Debye Schrerrer. Hasil perhitungan ukuran kristal

diperoleh pada temperatur 450℃ secara berturut-turut yaitu sebesar 0,7874 nm,

1,4126 nm, 0,8922 nm, 1,6213 nm, 0,6209 nm, 1,4304 nm, 1,8236 nm dengan nilai

rata-rata yang diperoleh sebesar 1,2269 nm. Selanjutnya, pada temperatur 475℃

secara beturut-turut yaitu sebesar 1,1242 nm, 1,6948 nm, 1,1154 nm, 2,5123 nm,

0,0252 nm, 0,9309 nm, 2,1470 nm, 1,4864 nm, 1,5322 nm dengan nilai rata-rata yang

diperoleh sebesar 1,3965 nm. Pada temperatur 500℃ secara berturut-turut yaitu

sebesar 1,3121 nm, 1,0600 nm, 1,1162 nm, 0,9470 nm, 0,5084 nm, 0,3114 nm,

0,7180 nm 0,6094 nm dengan nilai rata-rata yang diperoleh sebesar 0,8228 nm.

Pada penelitian ini adapun alat dan bahan yang digunakan yaitu terdiri dari (1)

Nebulizer OMRON NE-C28 yang digunakan untuk pendeposisian agar larutan

prekusor teratomisasi dan menempel pada permukaan subtrat. (2) Digital Ultrasonic

Cleaner alat ini digunakan untuk membersihkan kaca sebelum dilakukan proses

pembentukan lapisan di atas kaca. (3) Neraca digital, digunkan untuk mengukur

massa Tin (II) klorida dihidrat dan ammonium fluoride agar sesuai dengan

konsentrasi larutan yang ditentukan. (4) Magnetik stirrer sekaligus plat pemanas

dimana magnetik stirrer digunakan untuk mengaduk larutan agar menjadi homogen

dan plat pemanas digunakan untuk memanaskan kaca agar larutan yang teratomisasi

dapat menempel ke permukaan kaca. (5) Aluminum Foil, digunakan untuk melapisi

plat pemanas. (6) Selang dan corong, digunakan untuk meneruskan prekusor ke plat
 61

pemanas dan juga berfungsi untuk membatasi agar larutan perkusor pada proses spray

pyrolysis tidak menyebar. (7) Statif dan klem, di gunakan untuk mempertahankan

selang yang terhubung corong agar tetap kokoh. (8) Kaca digunakan sebagai substrat

dalam penelitian. Adapun ukuran kaca yaitu 3×3 cm dengan ketebalan kaca sebesar 2

mm. (9) Tin(II) klorida dihidrat sebagai prekusor dan ammonium fluoride sebagai

dopan serta alkohol 96% sebagai pelarut.

Pada penelitian ini dilakukan tiga kali perlakuan variasi temperatur terhadap

kaca FTO dengan menggunakan temperatur 450℃, 475℃, dan 500℃. Pada

pembuatan kaca FTO ini dilakukan dengan metode spray pyrolysis. Spray Pyrolisis

merupakan metode untuk menghasilkan partikel produk berukuran mikrometer,

submikrometer ataupun nanometer tergantung konsentrasi prekusor, selanjutnya

partikel digunakan untuk membuat lapisan tipis semikonduktor. (Bahriya et al.,

2011). Proses penelitian ini diawali dengan mempersiapkan alat dan bahan.

Selanjutnya membuat larutan prekusor dengan konsentrasi 0,7 M. Lalu,

membersihkan substrat kaca menggunakan digital ultrasonic cleaner selama 5 menit.

Setelah itu, substrat kaca yang telah dibersihkan diletakkan di plat pemanas.

Kemudian, memanaskan kaca pada temperatur 450℃, 475℃, dan 500℃, Setelah itu

dilakukan penyemprotan larutan dengan nebulizetr omron pada kaca yang dipanaskan

selama 40 menit. Tahap terakhir matikan nebulizer dan plat pemanas. Hasil resistansi

yang diperoleh pada variasi temperatur 450℃ yaitu 615,38 𝜴 , pada temperatur
 62

475℃ didapatkan resistansi 400 𝜴 dan pada temperatur 500℃ didapatkan resistansi

sebesar 14 k𝜴.

Pada penelitian ini, hasil yang diperoleh sesuai dengan teori seperti yang

dikemukakan oleh Maksum (2018) bahwa pada hasil penelitian dimana pada

temperatur 300℃, 350℃, dan 400℃ nilai resistansi yang didapatkan cenderung

menurun yaitu dari 12,391 𝜴, 12,080 𝜴, dan 11,131 𝜴. Kecenderungan menurunnya

nilai resistasnsi temperatur 300℃, 350℃ dan 400℃ karena pada kenaikan sampai

temperatur tersebut membentuk struktur kristal tetragonal sesuai dengan pola rutil

𝑆𝑛𝑂 (Banyamin et al, 2014). Adapun hasil yang didapatkan pada saat temperatur

semakin dinaikkan dari 450℃ sampai 500℃ nilai resistansi yang diperoleh kembali

naik yaitu 13,298 𝜴 sampai 17,389 𝜴, hal yang disebabkan pada temperatur tersebut

sudah melewati batas optimum dari larutan prekusor sehingga larutan prekusor

banyak yang menguap. Hal tersebut menyebabkan lapisan konduktor yang terbentuk

pada permukaan kaca semakin tipis dan mengandung sedikit larutan prekusor

sehingga nilai resistansinya semakin naik dan sifat konduktivitasnya semakin

menurun.

Arini, T. (2017) mengemukakan bahwa hasil yang diperoleh pada temperatur

250℃ sampai 350℃ nilai resistivitas menurun dari 4,10 × 10 𝜴.cm sampai

5,46× 10 𝜴.cm, penurunan resitivitas tersebut dapat disebabkan batas butir

berkurang sehingga resistivitas menurun. Ketika temperatur dinaikkan menjadi

 63

400℃ nilai resistivitas kembali naik menjadi 6,79× 10 𝜴.cm, Hal ini dikarenakan

sedikitnya prekusor yang terdeposisi di atas substrat (telah menguap).

Pada penelitian yang dilakukan oleh Yusuf, M (2018) diperoleh nilai

konduktivitas yang tinggi diperoleh pada temperatur sintering 400℃ dengan nilai

restivitas sebesar 26,72 𝜴.cm dibandingkan dengan hasil yang diperoleh pada

penelitian ini yaitu konduktivitas tinggi didpat pada temperatur 475℃ dengan nilai

resistansi sebesar 400 𝜴. Hal ini menunjukkan bahwa masih rendahnya hasil

penelitian yang diperoleh dibandingkan dengan literatur yang ada. Ada beberapa

faktor yang diduga dapat mempengaruhi tingginya nilai resistansi pada penelitian ini

seperti kesalahan alat, yaitu pada alat pemanas dimana terkadang nilai temperatur

yang tidak stabil. Selanjutnya juga dapat disebabkan oleh kurangnya ketelitian pada

saat pengukuran.
 BAB V

PENUTUP

5.1 Kesimpulan

Berdasarkan data dan hasil pada penelitian ini, maka dapat disimpulkan sebagai

berikut :

1. Hasil kaca FTO yang optimal pada penelitian ini didapatkan pada variasi

temperatur 475℃ dengan nilai resistansi sebesar 400 𝜴.

2. Pengaruh temperatur yaitu dapat menurunkan nilai resistansi sampai batas

tertentu dan nilai akan kembali naik apabila telah melewati batas optimum dari

larutan yang dapat menyebabkan larutan menguap.

3. Adapun dilihat dari morfologi kaca FTO pada temperatur 450℃ partikel sudah

terbentuk namun masih ada rongga, pada temperatur 475℃ terlihat ukuran

partikel yang semakin besar dari sebelumnya sehingga batas rongga berkurang

yang dapat menyebabkan resistansi menurun, kemudian pada temperatur 500℃

ukuran partikel semakin kecil dan terdapat banyak rongga hal ini disebabkan

pada temperature tersebut larutan sudah banyak menguap sehingga tidak

terdeposisi pada kaca. Hal ini dapat didukung dengan adanya data dari XRD

mengenai ukuran kristal dari kaca FTO. Didapatkan ukuran kristal kaca FTO

yang paling besar terdapat pada variasi temperatu 475℃ yaitu 1,3965 nm.

3264
 65

5.2 Saran

1. Perlu dilakukan penelitian mengenai kaca FTO yang perlu dikembangkan lebih

lanjut sehingga dapat mengahasilkan kaca FTO yang optimal, mengingat

pentingnya peran kaca FTO sebagai salah satu material dari TCO yang dapat

bermanfaat bagi kehidupan diera teknologi.

2. Penelitian lebih lanjut dapat mempersempit kisaran variasi untuk menentukan

batas optimum temperatur.

3. Penelitian selanjutnya dapat melakukan berbagai parameter, seperti jarak,

konsentrasi, waktu deposisi, dll.

 66

DAFTAR PUSTAKA

Adnane, M., H. Cachet, G. Folcher, dan S. Hamzaoui. 2005. Beneficial Effects Of

Hydrogen Peroxide on Growth, Structural and Electical Properties of Srayed
Fluorine-Doped SnO Films. Thin Solid Film. 492 (1-2) : 240-247.

Arini, T., Lalasari, L. H., Yuwono, H., Firdiyono, F., Andriyah, L., &Subhan, A.
(2017). PENGARUH WAKTU DEPOSISI DAN TEMPERATUR SUBSTRAT
TERHADAP PEMBUATAN KACA KONDUKTIF FTO (FLUORINE DOPED
TIN OXIDE) (Vol.1). www.ejurnalmaterialmetalurgi.com

Banyamin, Ziad. Y., dkk. 2014. Electrical and Properties of Fluorine Doped Tin
Oxide Thin Films Prepared by Magnetron Sputtering. Manchester Metropolitan
University. UK

Bahriyah, S., Pakendek, S., Madhania, S., & Winardi, S. (2011). Sintesis ZnO : Al
Sebagai Bahan Transparent Conducting Oxide ( TCO ) dengan Metode Spray
Pyrolysis. 1–6.

Beiser, Arthur. 1992. Modern Technical Physics. Malang.

Boisandi, B., & Nurussaniah, N. (2018). Optimasi Metode Two Point Probe Untuk
Karakterisasi Sifat Fotolistrik Material. Jurnal Akrab Juara, 3(1), 10–16.

Dengyuan, S. 2005. Zinc Oxide TCOs (Transparent Conductive Oxides) and

Polycrystalline Silicon Thin-films For Photovoltaic Applications. University of New
South Wales. Sydney.

Electrodes, C., Fukano, T., Motohiro, T., Hashizume, H., Inkjet, E., Umezu, S.,
TKunugi, Y., Ohmori, H., & Kafashan, H. (2018). Preliminary Study in
Fabricating Fluorine-doped Tin Oxide by Using Spray Pyrolysis Methods
Preliminary Study in Fabricating Fluorine-doped Tin Oxide by Using Spray
Pyrolysis Methods. 3–8.
Fauziah, E. Astuti dan Fitri Nur Pratiwi. 2013. Pembuatan Gelas Transparan FTO
(Fluorine Tin Oxide) Seabagai Bahan Baku Sel Surya , Tugas Akhir Program
Studi Diploma III, Teknik Kimia UNS.
Hanafi, S.A. 2020. Sintesis Bahan Sensor Dari Material Konduktif Komposit
Polianilin-Selulosa (Nata De Coco). Skripsi Fakultas MIPA Universitas Jember
 67

Hotim, 2015. Physics, Technology and use of Photovoltaics in Indonesia. Teaching

Journal Science and Mathematics, Vol. 14 No.2
Jamaluddin K. 2010. X-RD (X-Ray Diffractions). Pendidikan Fisika Universitas
HaluoleoGoogles Book. Prinsip Dasar Metode Difraksi Sinar X. 33-45.

Lalasari, L. H., Arini, T., Yuwono, A. H., & Firdiyono, F. (2015). PEMBUATAN L
APISAN T IPIS F LUORINE D OPED T IN OXIDE ( FTO ). 105–114.

Maksum, I.M. (2018). Pengaruh Temperatur Dan Rasio Massa Doping Dalam
Pembuatan Thin Film Doped Tin Oxide (FTO). Skripsi Universitas Brawijaya.

Mesin, J. T., Teknik, F., & Jember, U. (2017). Digital Digital Repository Repository
Universitas Universitas Jember Jember Digital Digital Repository Repository
Universitas Universitas Jember Jember.

Miao, D., Zhao, Q., Wu, S., Wang, Z., Zhang, X., & Zhao, X. (2010). Effect of
substrate temperature on the crystal growth orientation of SnO 2 : F thin fi lms
spray-deposited on glass substrates. Journal of Non-Crystalline Solids, 356(44–
49), 2557–2561.

Muliani, Samad, M.M Salleh,A. Yarmo. 2012. The Effect of the Transparent
Conductive Oxide on the Performance of Thin Film Cds/Cdte Solar Cells.
Journal of Physics D: Applied Physics. 33 (1).

Muruganantham, G., Ravichandran, K., Saravanakumar, K., Ravichandran, A.T., and

Sakthivel, B., 2012, Effect of Solvent Volume on the Physical Properties of
Undoped, and Fluorine Doped Tini Oxide films Using Deposited Using a
Low-Cost Spray Technique, Superlattices and Microstructures, Vol. 55 pp.
722-733

Okky Wijayanto.,S , A.P Bayuseno, M. D. A. N. (2014). Analisis Kegagalan

Material Pipa Ferrule Nickel Alloy N06025 Pada Waste Heat Boiler Akibat
Suhu Tinggi Berdasarkan Pengujian : Mikrografi Dan Kekerasan. Jurnal
Teknik Mesin Undip, 1(4), 33-39

Purba, R.P., 2009. Produksi Etanol dengan Variasi Inokulum dan Kadar Pati Jagung
Pada Kultur Sekali Unduh. Skripsi Fakultas Teknobiologi Universitas Atma
Jaya, Yogyakarta.

Ratnasari, Dina., dkk. 2009. X-Ray Diffraction (XRD). Tugas Kimia Fisika.(2009):h.
2-3. http://kimia.ft.uns.ac.id/file/kuliah/kimia%20Fisika/…/XRD%20III.pdf
 68

Saehana, S.dkk.(2018). Preliminary Study in Fabricating Fluorine-doped Tin Oxide

by Using Spray Pyrolysis Methods, IOP Conf. Series : Materials Science and
Engineering 395 012015.

Sima, C., C. Grigoriu, dan S. Antohe, 2010. Comparison of the Dye-Senisitized Solar
Cells Perfoemances Based on Transparent Conductive ITO and FTO, Thin
Solid Film. 519(2): 595-597.
Syam, L. M. (2017). Uji Karakteristik Nanopartikel Magnetik (Fe3O4)
Menggunakan X-RAY Diffraction dan Scanning Electron Microscopy. 1–98.
http://repositori.uin-alauddin.ac.id/9216/1/LISA MARLISA.S.pdf

Temperatur, P., Rasio, D. A. N., Doping, M., Mesin, T., Teknik, K., Energi, K.,
Brawijaya, U., & Teknik, F. (2018). Pengaruh temperatur dan rasio massa
doping dalam pembuatan thin film fluorine doped tin oxide (fto).

Wager, J. (2003). Transparent Electronics. AAAS Science 300, 1245 DOI:

10.1126/science.1085276. online ISSN: 1095-19203.

Widiyandari, H., Purwanto, A., Hidayam nto, E., Diharjo, K., Teknik, J., Fakultas,
K., Universitas, T., Maret, S., Teknik, J., Fakultas, M., Universitas, T., & Maret,
S. (2012). FABRIKASI GELAS TRANSPARANT KONDUKTIF FTO (
FLOURINE-DOPED TIN OXIDE ) DAN APLIKASINYA PADA SEL SURYA
BERBASIS DYE ( DSSC ). Cvd, 88–92.

Yadav, A. A., Masumdar, E. U., Moholkar, A. V, Neumann-spallart, M., Rajpure, K.

Y., & Bhosale, C. H. (2009). Electrical , structural and optical properties of
SnO 2 : F thin films : Effect of the substrate temperature. 488, 350–355.
https://doi.org/10.1016/j.jallcom.2009.08.130

Yusuf, M. (2020). Fabrikasi Lapisan Nano Fluorine Doped Tin Oxide ( FTO )
Dengan Variasi Temperature Menghasilakan Material Bersifat Transparan
Dan Konduktif. 1(2), 88–94.
 69

L
A
M
P
I
R
A
N

32
 70

Lampiran 1

Skema tahapan penelitian

Mulai

Siapkan alat dan bahan

Membuat larutan
prekusor konsentrasi
0,7 M

Variasi
Temperatur
450℃, 475℃,
dan 500℃
dengan waktu
tetap 40 menit

Kaca FTO

Uji Resistansi Uji SEM Uji XRD

Analisis

Hasil Optimal
 71

Lampiran 2

Dokumentasi

Gambar 1. Membersihkan susbtrat kaca Gambar 2. Menimbang massa dari

menggunakan ultrasonic cleaner perkusor

Gambar 3. Melarutkan prekusor dengan Gambar 4. Pengadukan larutan

alkohol analyis 96% menggunakan magnetic stirrer.
 72

Gambar 5. Proses pebuatan larutan. Gambar 6. Rangkaian alat pembuatan

kaca FTO

Gambar 7. Proses pembuatan kaca FTO Gambar 8. Pengukuran resistansi kaca

menggunakan variasi temperatur. FTO..
 73

Lampiran 3

Data Output

A. Data V-I
1. V-I temperatur 450℃

No Tegangan Arus
6.71E-
1 0
08
-2.05E-
2 0.040404
07
2.05E-
3 0.080808
07
2.34E-
4 0.121212
04
2.12E-
5 0.161616
04
3.34E-
6 0.20202
04
4.09E-
7 0.242424
04
4.81E-
8 0.282828
04
5.61E-
9 0.323232
04
5.85E-
10 0.363636
04
7.14E-
11 0.40404
04
7.88E-
12 0.444444
04
8.67E-
13 0.484848
04
9.39E-
14 0.525253
04
1.02E-
15 0.565657
03
1.10E-
16 0.606061
03
1.18E-
17 0.646465
03
1.26E-
18 0.686869
03
1.33E-
19 0.727273
03
20 0.767677 1.40E-
 74

03
1.47E-
21 0.808081
03
1.53E-
22 0.848485
03
1.57E-
23 0.888889
03
1.58E-
24 0.929293
03
1.59E-
25 0.969697
03
1.60E-
26 1.010101
03
1.60E-
27 1.050505
03
1.60E-
28 1.090909
03
1.60E-
29 1.131313
03
1.61E-
30 1.171717
03
1.61E-
31 1.212121
03
1.61E-
32 1.252525
03
1.61E-
33 1.292929
03
1.61E-
34 1.333333
03
1.62E-
35 1.373737
03
1.62E-
36 1.414141
03
1.62E-
37 1.454545
03
1.62E-
38 1.494949
03
1.62E-
39 1.535354
03
1.62E-
40 1.575758
03
1.62E-
41 1.616162
03
1.62E-
42 1.656566
03
1.62E-
43 1.69697
03
 75

1.62E-
44 1.737374
03
1.62E-
45 1.777778
03

2. V-I temperatur 475℃

No Tegangan Arus
1 0 -5.59E-05
2 0.040404 6.40E-05
3 0.080808 6.15E-05
4 0.121212 1.03E-04
5 0.161616 1.38E-04
6 0.20202 1.66E-04
7 0.242424 6.78E-04
8 0.282828 4.35E-04
9 0.323232 6.48E-04
10 0.363636 7.45E-04
11 0.40404 8.43E-04
12 0.444444 8.29E-04
13 0.484848 1.01E-03
14 0.525253 1.11E-03
15 0.565657 1.21E-03
16 0.606061 1.30E-03
17 0.646465 1.37E-03
18 0.686869 1.43E-03
19 0.727273 1.45E-03
20 0.767677 1.43E-03
21 0.808081 1.47E-03
22 0.848485 1.47E-03
23 0.888889 1.48E-03
24 0.929293 1.48E-03
25 0.969697 1.48E-03
26 1.010101 1.48E-03
27 1.050505 1.48E-03
 76

28 1.090909 1.48E-03
29 1.131313 1.48E-03
30 1.171717 1.49E-03
31 1.212121 1.49E-03
32 1.252525 1.49E-03
33 1.292929 1.49E-03
34 1.333333 1.49E-03
35 1.373737 1.49E-03
36 1.414141 1.49E-03
37 1.454545 1.49E-03
38 1.494949 1.49E-03
39 1.535354 1.49E-03
40 1.575758 1.49E-03
41 1.616162 1.49E-03
42 1.656566 1.50E-03
43 1.69697 1.50E-03
44 1.737374 1.50E-03
45 1.777778 1.50E-03

3. V-I temperatur 500℃

No Tegangan Arus
1 0 -1.41E-06
2 0.040404 1.55E-06
3 0.080808 4.76E-06
4 0.121212 7.71E-06
5 0.161616 1.07E-05
6 0.20202 1.36E-05
7 0.242424 1.66E-05
8 0.282828 1.93E-05
9 0.323232 2.22E-05
10 0.363636 2.52E-05
11 0.40404 2.81E-05
12 0.444444 3.08E-05
13 0.484848 3.38E-05
14 0.525253 3.67E-05
15 0.565657 3.99E-05
16 0.606061 4.28E-05
17 0.646465 4.58E-05
18 0.686869 4.87E-05
 77

19 0.727273 5.14E-05
20 0.767677 5.44E-05
21 0.808081 5.73E-05
22 0.848485 6.03E-05
23 0.888889 6.30E-05
24 0.929293 6.59E-05
25 0.969697 6.89E-05
26 1.010101 7.18E-05
27 1.050505 7.50E-05
28 1.090909 7.80E-05
29 1.131313 8.06E-05
30 1.171717 8.36E-05
31 1.212121 8.65E-05
32 1.252525 8.95E-05
33 1.292929 9.24E-05
34 1.333333 9.51E-05
35 1.373737 9.81E-05
36 1.414141 1.01E-04
37 1.454545 1.04E-04
38 1.494949 1.07E-04
39 1.535354 1.10E-04
40 1.575758 1.13E-04
41 1.616162 1.16E-04
42 1.656566 1.19E-04
43 1.69697 1.22E-04
44 1.737374 1.24E-04

B. Data XRD

 Temperatur 450℃
 78

Peak List

Pos.[°2Th.] Height[cts] FWHM[°2Th.] d-spacing[Å] Rel.Int.[%]

26.5101 121.36 0.1968 3.36233 47.63
33.7858 188.40 0.1181 2.65307 73.94
37.8431 78.17 0.1968 2.37743 30.68
51.6380 254.81 0.1378 1.77011 100.00
61.7800 15.60 0.4723 1.50166 6.12
65.7720 92.86 0.2362 1.41985 36.44
78.5801 15.31 0.3840 1.21643 6.01

 Temperatur 475℃

Peak List

Pos.[°2Th.] Height[cts] FWHM[°2Th.] d-spacing[Å] Rel.Int.[%]

26.4878 368.53 0.1378 3.36512 100.00
33.7571 212.20 0.0984 2.65526 57.58
37.8373 116.55 0.1574 2.37778 31.63
51.6407 215.23 0.1378 1.77003 58.40
54.6595 22.53 0.3149 1.67920 6.11
61.7688 30.11 0.3149 1.50190 8.17
65.7765 53.18 0.1574 1.41977 14.43
78.6084 16.34 0.4723 1.21707 4.43
80.9598 6.29 0.5760 1.18657 1.71

 Temperatur 500℃
 79

Peak List

Pos.[°2Th.] Height[cts] FWHM[°2Th.] d-spacing[Å] Rel.Int.[%]

26.5174 250.72 0.1181 3.36143 100.00
33.7995 89.20 0.1574 2.65202 35.58
37.8860 54.90 0.1574 2.37484 21.90
51.6917 93.39 0.2362 1.76840 37.25
54.7263 12.53 0.4723 1.67730 5.00
61.8757 8.29 0.9446 1.49956 3.31
65.8620 15.24 0.4723 1.41813 6.08
78.6065 5.87 1.1520 1.21609 2.34
 80

Lampiran 4. Izin Penelitian