Disusun oleh:
Tika Kurniawati (1501115043)
Gallium Nitride adalah semikonduktor biner III/V langsung yang umum digunakan pada
diode pemancar cahaya sejak tahun 1990-an. Senyawa merupakan bahan yang sangat
keras yang memiliki struktur Kristal heksagonal. Celah pita lebar 3,4 eV memberikannya
sifat khusus untuk aplikasi di optoelektronik, perangkat berkekuatan tingi dan frekuensi
tinggi. Misalnya, GaN adala substrat yang emmungkinkan diode laser violet (405 nm),
tanpa penggunaan penggabda frekuensi optik nonlinear. Sensitivitasnya terhadap radiasi
pengion adalah rendah (seperti nitrides kelompok III lainnya), membuatnya menjadi bahan
yang cocok untuk susunan sel surya untuk satelit.
Gallium Nitride (GaN) dengan kualitas Kristal tinggi dapat diperoleh dengan
menyimpan lapisan penyangga pada suhu rendah. Gallium Nitride (GaN) berkualitas
tinggi seperti itu mengarah pada penemuan p-type GaN, pn junction blue/ UV –LED dan
emisi stimulasi suhu-kamar. Hal ini telah meyebabkan komersialisasi LED biru
berkinerja tinggi dan diode laser-ungu seumur hidup panjang, dan perkembangan
perangkat berbasisnitrida seperti detector UV dan transistor efek medan berkecepatan
tinggi. Telah ditumbuhkan film tiis GaN diatas substrat sapphire (0001) dengan
tekhnik hot-wire pulsed laser deposition dengan temperatur substrat dan hot wire
masing-masing 6800 dan 10000C. pengaruh tekanan parsial gas yang divariasikan dari
0,15 mbar sampai 0,35 mbar, ternyata dapat mempengaruhi struktur Kristal dan
morflogi film. Pada film yang ditumbuhkan dengan tekanan parsial gas 0,15 mbar tanpa
menggunakan filamen tersebut masih terdapat partikulasi GaN yang terbentuk dengan
ukuran 0,1 sampai 0,4 𝜇m, naun pembentukan partikulasi tersebut mulai berkurang
apabila terkena parisal gas diperbesar hingga 0,35 mbar dengan menggunakan filamen
pemanas.
Transmission Elektron Microscopy (TEM) of Gallium Nitride (GaN)
Pada TEM, sampel yang disiapkan sangat tipis sehingga elektron dapat menembusnya
kemudian hasil dari tembusan elektron tersebut yang diolah menjadi gambar.