PENGARUH KONSENTRASI NIKEL DAN KLORIDA TERHADAP

PROSES ELEKTROPLATING NIKEL
 
Mentik Hulupi
 
Agustinus Ngatin
  Teknik Kimia, Politeknik Negeri Bandung
Jl. Gegerkalong Hilir, Ds. Ciwaruga, Bandung
  E-mail: hulupimentik@yahoo.com

Abstrak
 
Proses elektroplating nikel dipengaruhi oleh beberapa variabel kondisi proses seperti rapat arus, suhu,
 
konsentrasi elektrolit, waktu proses, pengadukan /agitasi. Variabel tersebut mempengaruhi proses mapun
hasil lapisan. Penelitian ini bertujuan untuk mempelajari pengaruh rapat arus dan konsentrasi larutan
nikel. Penelitian  dilakukan dalam skala laboratorium dengan volume elektrolit 1,0 liter dan ukuran benda
kerja 2,5 x 7 cm 2 . Rentang rapat arus yang digunakan adalah 3 A/dm 2 s.d 15 A/dm2 dengan
konsentrasi nikel  110 g/L dan 127,5 g/L. Pada rapat arus 6 A/dm2 dan 9A/dm2 dipakai untuk
mempelajari pengaruh konsentrasi nikel dengan rentang konsentrasi 72,5 g/L s.d 145 g/L.Kondsi operasi
 
meliputi suhu 55 0C, waktu proses: 11 menit, dan pH larutan elektrolit 4,5. Hasil penelitian menunjukkan
bahwa pada konsentrasi nikel 110 g/L dan 127,5 g/L dengan rapat arus 3 A/dm2 s.d 15 A/dm2 dihasilkan
laju pelapisan nikel semakin meningkat dengan efisiensi proses tertinggi pada rapat arus 6 A/dm2
dengan efisiensi 99 %. Untuk rapat arus 6A/dm2 dan 9A/dm2 dengan konsentrasi nikel 72,5 g/L s.d 145
g/L dihasilkan laju pelapisan nikel mencapai maksimum pada konsentrasi nikel 127,5 g/L dengan laju
pelapisan 33,6 mg/menit untuk rapat arus 9 A/dm2 dan 21,8 mg/menit untuk rapat arus 6 A/dm2.
Efisiensi proses pelapisan nikel pada rapat arus 6 A/dm2 lebih tinggi daripada menggunakan rapat arus
9A/dm2 dan efisiensi proses mencapai 99 % untuk ke dua rapat arus pada konsentarsi nikel 127,5 g/L.

Kata kunci : Elektroplating, konsentrasi, rapat arus, efisiensi

Pendahuluan
pengadukan /agitasi, dan lain lain. Penelitian ini
Proses elektroplating nikel bertujuan untuk
mempelajari pengaruh rapat arus dan konsentrasi
melindungi logam khususnya logam baja dari
larutan nikel, sedangkan variabel lain tetap.
serangan korosi dan untuk tujuan dekoratif agar
Konsentrasi nikel berasal dari garam atau
lebih menarik dan mempunyai nilai ekonomis
senyawa nikel sulfat (NiSO4.5H2O) dan nikel
yang tinggi(1). Proses pelapisan logam ini
klorida (NiCl2.6H2O) dengan perbandingan 4:1.
dilakukan dengan sistem lapis listrik dimana
Variabel rapat arus dan konsentrasi dipilih
logam pelapis dalam hal ini nikel bertindak
karena keduanya sangat mempengaruhi proses
sebagai anodaUmumnya, logam yang dilapisi
dan hasil lapisan nikel. Rapat arus sangat
nikel secara elektroplating adalah logam besi
berpengaruh terhadap proses elektroplating nikel
atau baja yang merupakan material logam yang
dengan semakin besar rapat arus maka jumlah
rentan terhadap, sedangkan benda kerja yang
nikel yang terlapiskan ke dalam material (benda
dilapisi sebagai katoda, kedua elektroda tersebut
kerja) semakin banyak, tetapi belum tentu
dicelupkan dalam suatu elektrolit yang
menghasilkan lapisan yang baik, begitu juga
mengandung nikel sulfat(2). korosi akibat
dengan konsentrasi nikel semakin meningkat
berinteraksi dengan lingkungan dan logam ini
dapat meningkatkan lapisan nikel pada benda
banyak digunakan untuk membuat peralatan
kerja(2).
rumah tangga dan industri automotif.
Adapun tujuan penelitian ini adalah mempelajari
Proses elektroplating nikel dipengaruhi oleh pengaruh rapat arus dan konsentrasi nikel
beberapa variabel kondisi proses seperti rapat terhadap hasil pelapisan elektroplating nikel,
arus, suhu, konsentrasi elektrolit, waktu proses, mendapatkan kondisi terbaik berdasarkan rapat
735
Journal of Refrigeration, Air Conditioning and Energy
 
  

arus 3 s.d 15   A/dm2 dengan waktu proses 11

menit dan suhu proses 55 0C. Kondisi yang
 
terbaik artinya mempunyai efisiesni proses
tinggi, daya rekat baik, lapisan halus dan merata,
 
serta tidak terdapat bercak hitam. Efisiensi
proses dihitung   berdasarkan hubungan hukum
Faraday dengan hasil lapisan yang
sebenarnya.(Dennis
  : 1986) , yang dirumuskan
dengan persamaan
Ef=(beratnyata/beratteoritis
  ) x 100% (1)

  teoritas dihitung berdasarkan persamaan

Berat
Faraday , yang dinyatakan dengan:
 
m = (ArL.I.t/nF) (2)
dengan m = massa lapisan ; ArL : massa atom
realatif logam,  I : arus yang digunakan, t: waktu
proses , n: jumlah elektron yang terlibat (misal n
  nikel = 2), F : bilangan Faraday yang Gambar 1. Proses Elektroplating Nikel
untuk
besarnya : 96500 C/ek.K).
Pada proses elektroplating nikel, benda kerja
Berdasarkan massa lapisan nikel yang terdapat di
atau material yang akan dilapisi dihubungkan
permukaan benda kerja dapat ditentukan tebal
dengan katoda (kutub negatif) dan nikel sebagai
lapisan. Tebal lapisan dapat diukur atau
elektroda dihubungkan dengan anoda (kutub
ditentukan dengan menggunakan persamaan
positif), yang keduanya dicelupkan ke larutan
Tebal lapisan = V/A, (3)
elektrolit yang berisi ion nikel (Ni2+), maka
dan V = m/d (4)
setelah ke dua elektroda dialiri arus selama
waktu tertentu akan terjadi lapisan di katoda atau
dengan :
benda kerja.. Benda kerja perlu dilakukan
V : Volume lapisan, a: luas permukaan benda
pretreatment sebelum dilakukan proses
kerja, m: masa lapisan
elektroplating yaitu mengalami perlakuan
d : densitas nikel yang besarnya 8,90 g/Cm3.
mekanik untuk menghilangkan kotoran, proses
degreasing dalam larutan natrium hidroksida
10% untuk membersihkan lemak yang terdapat
Metode
di permukaan benda kerja, dan pickling dalam
Penelitian ini dilakukan di laboratorium
larutan asam klorida 10% untuk menghilangkan
menggunakan peralatan yang sederhana dengan
karat.
volume tangki 1 liter dan luas permukaan benda
kerja 2,5 cm x 7 Cm menggunakan elektroda
nikel dan rectifier dengan arus maksimum 2 A.
Peralatan elektroplating nikel secara sederhana Hasil dan Pembahasan
Pengaruh Rapat Arus terhadap Proses
ditunjukkan pada Gambar 1 berikut ini.
elektroplating Nikel

Ion nikel yang terdapat dalam larutan atau bak

plating berasal dari senyawa nikel sulfat
(NiSO4.6H2O) dan Nikel klorida (NiCl2.6H2O)
dengan perbandingan 4:1 Ke dalam campuran
tersebut ditambahkan asam borat 50 g/L
berfungsi untuk mempertahankan pH larutan an
ditambahkan bahan aditif atau pengkilat. Kondisi
operasi dilakukan pada suhu 55 0C dengan waktu
proses 11 menit, dan pH larutan sekitar 4,5.
736
Journal of Refrigeration, Air Conditioning and Energy
 
  

 
Pada variasi rapat arus 3A/dm 2 s.d 15 A/dm2 120
dengan konsentrasi nikel sebagai ion nikel (Ni 2+)
  100
72,5 dan 110 g/L dihasilkan laju penambahan 100
massa lapisan per waktu (Δm/menit) 98
  85

Efisiensi Proses (%)

ditunjukkan pada Gambar 2. Berikut 80
80
 
60

40  
40
35
 
20,9
20
laju pelapisan (mg/mnt)

30
  15,9
0
25 110 g/L
0 2 4 6 8 10
Rapat 12 (A/dm2)
arus 14 16
  127,5 g/L
20

15   Gambar 3 Pengaruh rapat arus vs efisiensi

proses
10  

5
Berdasarkan Gambar 3 ditunjukkan bahwa
0 110 g/L efisiesni proses untuk elektroplating nikel lebih
0 127,5 g/L2 4 6 8 Rapat10arus (A/dm2)
12 14 16 besar dari 80 %. Hal ini menunjukkan bahwa
elektroplating nikel cukup baik dan elektif..
Gambar 2. Pengaruh rapat arus vs laju pelapisan Mekanisme pelapisan nikel di permukaan benda
kerja ditunjukkan seperti Gambar 4. berikut ini
Berdasarkan Gambar 2 ditunjukkan bahwa
kenaikan rapat arus menyebabkan laju pelapisan
nikel semakin cepat. Hal tersebut disebabkan
rapat arus semakin meningkat menyebabkan arus
yang mengalir melewati elektroda semakin cepat
dan mengakibatkan gerakan ion-ion nikel di
dalam elektrolit semakin cepat , maka laju
pelapisan nikel di permukaan benda kerja
semakin bertambah (2).
Peningkatan laju pelapisan nikel di permukaan
benda kerja ini tidak menunjukkan peningkatan
efisiensi proses elektroplating, tetapi efisiensi
menjadi kondisi maksimum pada rapat arus 6
A/dm2 baik untuk konsentrasi nikel 110 g/L
maupun 127,5 g/L seperti ditunjukkan pada
Gambar 3 berikut ini.

Gambar 4. Mekanisme pelapisan nikel secara

elektroplating [ ]

737
Journal of Refrigeration, Air Conditioning and Energy
 
  

Berdasarkan Gambar  4 ditunjukkan bahwa di 40

kedua elektroda terjadi reaksi, yaitu di elektroda
  35
positip ( anoda) terjadi pelarutan logam nikel
33,6

Laju Pelapisan (mg/mnt)

menjadi ion nikel (Ni2+) berarti elektroda nikel
  30
mengalami penipisan dan semakin berkurang
sebanding dengan waktu proses. Sebaliknya di 25 27,2
 
elektroda negatif (katoda) yang merupakan 21,8 22,7
20 19,1
benda kerja terjadi  pelapisan nikel, yaitu ion
nikel (Ni 2+) menjadi atom-atom nikel. 15 20,916,4
Pada  elektroplating nikel digunakan air sebagai 12,7
pelarut dan elektrolit nikel (II) sulfat dan nikel 10
(II)  klorida terjadi mekanisme reaksi berikut (2). 5
Di katoda melibatkan reaksi
Ni 2+ +  2e  Ni 0
2H2O + 2e  H2 + 2OH - 60A/dm2 50 100 150 200
  9 A/dm2 Konsentrasi Nikel (mg/L)
Di Anoda (elektroda Ni) melibatkani
Ni  Ni 2+ + 2e
  H2O  ½ O2 + 2H+ + 2e Gambar 5 Pengaruh Konsentrasi Nikel vs Laju
2Cl -
 Cl2 + 2e Pelapisan Nikel
Berdasarkan mekanisme reaksi tersebut, bahwa
Berdasarkan Gambar 5 ditunjukkan bahwa
peoses pelapisan nikel pada benda kerjadi
peningkatan konsentrasi nikel akan menaikkan
pengganggu yaitu dihasilkannya gas hidrogen
laju pelapisan nikel dan mencapai laju pelapisan
(H2) di permukaan logam, yang dapat
nikel tertinggi pada konsentrasi 127,5 g/L. Hal
mempengaruhi hasil pelapisan. Untuk itu maka
tersebut disebabkan konsentrasi nikel di dalam
selama proses pelapisan diperlukan pengadukan
larutan elektrolit semakin meningkat berarti
larutan agar gas yang terbentuk di permukaan
jumlah ion nikel semakin banyak, sehingga
benda kerja dapat dengan cepat meninggalkan
gerakan ion-ion semakin rapat , maka gerakan
dan tidak menempel di permukaan benda kerja.
ion menuju katoda (benda kerja) semakin cepat.
Pada konsentrasi di atas 127,5 g/l laju pelapisan
Pengaruh konsentrasi nikel terhadap proses mengalami penurunan kemungkinan disebabkan
pelapisan nikel semakin rapat dan semakin cepat gerakan tetapi
menghasilkan atom-atom atau butiran-butiran
Kondisi proses yang dipelajari adalah rapat arus nikel di permukaan benda kerja kurang efektif
6A/dm2 dan 9 A/dm2 dengan variasi konsentrasi sehingga laju pelapisananya menjadi turun.
nikel 72,5 g/L, 90 g/L, 110 g/L, 127,5 g/L dan Jika ditinjau berdasarkan efisiensi proses
145 g/L pada suhu 55 0C dan waktu proses 11 peningkatan konsentrasi nikel juga menunjukkan
menit. Ke dalam larutan ditambahkan asam borat hal yang sama, yaitu efisiensi proses tertinggi
berfungsi untuk menjaga pH larutan di sekitar dicapai pada konsentrasi 127,5 g/L nikel seprti
4,5 . Rapat arus 6 A/dm2 dan 9 A/dm2 dipilih ditunjukkan pada Gambar 6 berikut.
karena pada kedua rapat arus tersebut
mengahsilkan efisisien maksimum pada
percobaan di atas.
Laju pelapisan yang dihasilkan pada rapat arus
6A/dm2 dan 9 A/dm2 dengan variasi konsentrasi
nikel 72,5 g/L s.d 145 g/L ditunjukkan pada
Gambar 5 berikut ini.

738
Journal of Refrigeration, Air Conditioning and Energy
 

 
120
 100
Efisiensi Proses (%)
 
80 70 73
 
60
 
  40
20  
0
  6 A/dm2
0 50
9 A/dm2
Gambar 6 Pengaruh Konsentrasi nikel Vs
Efisiensi Proses
Berdasarkan gambar 5 dan 6 ditunjukkan bahwa
rapat arus 6 A/dm2 memperlihatkan laju
pelapisan nikel dan efisiensi proses lebih tinggi
dibandingkan dengan rapat arus 9 A/dm2. Hal
ini disebabkan dengan peningkatan rapat arus
menunjukkan arus listrik yang mengalir
melewati elektroda lebih besar, tetapi kurang
efektif mengahsilkan lapisan, dan dengan rapat
arus yang besar dapat mengahsilkan butiran yang
besar dan berwarna hitam, serta meningkatkan
pengendapan logam yang kurang mulia
(Hartomo: 1999)
Pada elektroplating nikel menggunakan elektrlit
dari garam nikel klorida bertujuan untuk
menambahkan ion klorida ke dalam elektrolit.
Dalam elektroplating nikel ion klorida dapat
berfungsi untuk mencegah pasivitas di
permukaan anoda sehingga arus yang keluar dari
anoda menjadi besar dan lebih efektif (4).
Kesimpulan
Berdasarkan variabel yang dipelajari pada proses
elektroplating nikel dapat disimpulkan bahawa
rapat arus dan konsentrasi nikel mempengaruhi
proses elektroplating nikel. Pada konsentrasi
nikel 110 g/L dan 127,5 g/L dengan rapat arus 3
A/dm2 s.d 15 A/dm2 dihasilkan laju pelapisan
Journal of Refrigeration, Air Conditioning and Energy
nikelsemakin meningkat dengan efisiensi proses
tertinggi pada rapat arus 6 A/dm2 dengan
efisiensi 99 %. Untuk rapat arus 6A/dm2 dan
100 9A/dm2 dengan variasi konsentrasi nikel dalam
99 larutan 72,5 g/L s.d 145 g/L dihasilkan laju
pelapisan nikel mencapai maksimum pada
81
konsentrasi nikel 127,5 g/L dengan laju
pelapisan 33,6 mg/menit untuk rapat arus 9
A/dm2 dan 21,8 mg/menit untuk rapat arus 6
A/dm2. Efisiensi proses pelapisan nikel pada
rapat arus 6 A/dm2 lebih tinggi daripada
menggunakan rapat arus 9A/dm2 dan efisiensi
proses mencapai 99 % untuk ke dua rapat arus
pada konsentarsi nikel 127,5 g/L.
100 150 200 Daftar Pustaka
Konsentrasi Nikel (g/L)
(1) Agus Solehudin, Leni Juwita,”Simulasi
Proses Pelapisan Logam Nikel Dekoratif
untuk Meningkatkan Kualitas Produk”,
Majalah Ilmiah Kartika Wijayakusuma,
vol.10, No.1, Pebruari 2002, hal.40-46
(2) Anton J.Hartono, Tomijiro Kaneko,
Mengenal PelapisanLogam, Yogyakarta,
1999
(3) ASTM B 183-79, (1984). Standard
Practice for Preparation of Low carbon
Steel for Elektroplating, NACE
(4) Dennis, K dan Such.T.E., (1986). Nickel
and chromium Plating, London:
butterword & Co.Ltd.
(5) Gabe Dr,BSc,MMet,PhD, (1978),
Principles of Metal surface Treatment
and Protection . 2 nd ed, New York :
Pergamon
739