KIMIA ORGANIK

ALKIL HALIDA
 ALKIL HALIDA
Beberapa tipe alkil halida
Alkil Halida (RX)

CH3I CH3CH2Cl
Iodometana kloroetana

Aril Halida (ArX)

Cl

Br Cl Cl

bromobenzena Cl
suatu bifenil poliklor
(PCB polychlorinated biphenyl)
 ALKIL HALIDA
Halida Vinilik: Br

H2C CHCl CCH3

H3CHC
kloroetana 2-bromo-2-butena
(vinil klorida)

Metil Halida :

CH3F CH3Cl CH3Br CH 3I

fluorometana klorometana bromometana iodometana
 ALKIL HALIDA
Alkil halida primer (satu gugus alkil terikat pada karbon ujung):

H 3C CH 2Br (H3C)3C CH 2Cl CH 2I

bromoetana 1-kloro-2,2-dimetilpropana
(etil bromida) (neopentil bromida) (iodometil)sikloheksana

Alkil halida sekunder (dua gugus alkil terikat pada karbon ujung):

CH3 H2C CH2

H3CH2CHC Br H2C CH Cl Cl
C
H2
2-bromobutana klorosiklopentana
(sec-butil bromida) (siklopentil klorida)
 ALKIL HALIDA
Alkil halida tersier (tiga gugus alkil terikat pada ujung):

CH3
Br
H3C Cl
CH3
CH3
2-kloro-2-metilpropana 1-bromo-1-metilsiklopentana
(t-butil klorida)
 ALKIL HALIDA
Tata nama dan Sifat fisis alkana terhalogenasikan

Nama IUPAC Nama trivial Rumus T.d 0C Rapatan pada T 20 oC g/mL

Klorometana metil klorida CH 3Cl -24 gas
Diklorometana metilena klorida CH 2Cl 40 1,34
Triklorometana kloroform CHCl 3 61 1,49
Tetraklorometana karbon tetraklorida CCl 4 77 1,60
Bromometana metil bromida CH 3Br 5 gas
Iodometana metil iodida CH 3I 43 2,28
 ALKIL HALIDA
Reaksi substitusi alkil halida
SN2 R R

Nu:- + CH X Nu CH + X

R R

- Suatu serangan belakang yang serempak

- Suatu reaksi bimolekuler
- Laju reaksi berorde kedua
- Stereokimia: inversi konfigurasi
- Laju relatif : CH3X > RX primer > RX sekunder
 SN 2
REACTION HO- + CH3Cl CH3OH + Cl-
MECHANISM

H H H H H
-   H
H-O: C Cl H O C Cl H O C + Cl-

H H H

Ion negatif Ikatan O dan C telah

(NUKLEOFIL = Nu-)
mendekati karbon positif
dari sisi yg berbeda dg gugus
pergi. Klor mulai melepaskan
ikatan dengan karbon.
Pada keadaan transisi terbentuk, klor dilepas.
ikatan O dg C mulai Konfigurasi karbon
terbentuk bersamaan dg mengalami pembalikan
lepasnya ikatan anatara :INVERSI WALDEN
C dengan Cl. Konfigurasi
mulai membalik.
 Inversion of Configuration

nucleophile attacks carbon three-dimensional

from side opposite bond arrangement of bonds in
to the leaving group product is opposite to
that of reactant
 ALKIL HALIDA
Reaki substitusi alkil halida
SN1
- X
lambat Nu:-
R3C X R3C+ R3C Nu
cepat

- Suatu reaksi pengionan + penataan ulang

- Suatu reaksi unimolekuler
- Laju reaksi berorde pertama
- Stereokimia: rasemisasi
- laju relatif : RX tersier > RX sekunder
 ALKIL HALIDA
Reaki substitusi alkil halida alilik dan benzilik
SN1

H2C CHCH2Cl + H2O H2C CHCH2OH + Cl-

CH2Cl + H2O CH2OH + Cl- + H+

Halida laju relatif

CH3CH2X 1,0 (semi SN2)

CH2=CHCH2X 33
C6H5CH2X 380
(C6H5)2CHX ~ 105
 Figure
Ionization step
gives carbocation; three
bonds to chirality
center become coplanar

Leaving group shields

one face of carbocation;
nucleophile attacks
faster at opposite face.
 +

More than 50% Less than 50%

 ALKIL HALIDA
Reaki substitusi alkil halida alilik dan benzilik
SN2

Halida laju relatif

CH3X 30
CH3CH2X 1
(CH3)2CHX 0.025
CH2 =CHCH2X 40
C6H5CH2X 120
 ALKIL HALIDA
Reaki eliminasi alkil halida
E1
H X - X_ H
lambat B:-
R2C CR2 R2C CR2
R2C CR2 cepat
-BH

- Suatu reaksi pengionan + penataan ulang alkena paling

stabil(aturan saytseff)
- Stereokimia : tidak stereospesifik
- laju reaksi berorde pertama
- laju relatif: RX tersier > RX sekunder
 ALKIL HALIDA
Aturan Saytseff : Alkena yang memiliki gugus alkil terbanyak
pada atom-atom karbon ikatan rangkapanya, terdapat dalam
jumlah terbesar dalam campuran produk reaksi eliminasi
Aturan Hofmann : Jika pada reaksi eliminasi terbentuk
alkena yang kurang stabil/kurang tersubstitusi, terjadi jika ada
rintangan sterik
Faktornya sterik diakibatkan :
- Ukuran basa penyerang
- Sterik pada gugus pergi
- Gugus perginya meruah
 ALKIL HALIDA
Reaki eliminasi alkil halida
H
E2
-BH
B:- + R2C CR2 R2C CR2
- X_
X

- Suatu reaksi bimolekuler serempak

- Menghasilkan alkena paling stabil(dengan kekecualian)
- Stereokimia: eliminasi anti H dan X
- Laju reaksi berorde kedua
- Laju relatif: RX tersier >RX sekunder > RX primer
 ALKIL HALIDA
Pengaruh struktur alkil halida terhadap reaksi substitusi&eliminasi
Nu:-
metil dan primer: RCH 2X RCH 2Nu
SN2

Nu:-
R2CHNu + alkena
SN2 + E2
sekunder: R2CHX
B:- kuat
alkena
E2
Nu:- lemah
R3CNu + alkena
SN1 + E1
tersier: R3CX
B:- kuat
alkena
E2

Nu:-
alilik & benzilik: RX RNu
SN1 & SN2
 ALKIL HALIDA
Pengaruh nukleofilitas/basa terhadap reaksi substitusi&eliminasi
Nukleofil kuat : SN2
Nukleofil lemah : SN1
basa kuat : E2

Pengaruh pelarut terhadap reaksi SN1

Asam format > air > 80% EtOH > EtOH 95% > aseton > THF

Pengaruh konsentrasi nukleofilitas/basa terhadap reaksi substitusi&eliminasi

Konsentrasi tinggi Nu:- / basa : SN2 atau E2

Konsentrasi rendah Nu:- : SN1 atau E1
 ALKIL HALIDA
Pengaruh T terhadap reaksi substitusi&eliminasi

T tinggi meningkatkan laju ??? Eakt reaksi

E>S