1.

Mengapa tegangan permukaan gas/cair atau tegangan antarmuka cair/cair dapat terjadi
? Dapatkah anda menjelaskan fenomena tersebut disertai dengan gambar ?
Karena terjadi perubahan fase selaian gas.
Gas/cair terjadi ylv tegangan permukaan. Contohnya di permukaan cairan, air yang di
atmosfer
Adanya perbedaan gaya karena adanya gaya adhesi dan gaya kohesi molekul pada
permukaan cairan lebih tertarik ke dalam/ke arah bulk cairan sehingga terjadi kontraksi
pada antarmuka

2. (a) Mengapa tegangan permukaan dapat berbeda antara satu zat dengan lainnya
Karena setiap zat memiliki molekul-molekul yang mana ikatan antar molekul dan
struktur dapat mempengaruhi contoh Kristal dan amorf. Kristal lebih tinggi
(b) Mengapa suhu yang meningkat dapat menurunkan tegangan permukaan ?
Suhu meningkat, membuat molekul aktif, bergerak lebih cepat dan. Tegangan permukaan jadi
tdk stabil
(c) Mengapa tegangan permukaan air lebih tinggi daripada tegangan permukaan heksan ?
Heksan adalah molekul non polar, gaya intermolecular lemah, gaya kohesif kecil sedangkan air
molekul polar
3. (a) Apakah yang dimaksud dengan koefisien sebar
Resultan dari adanya tegangan permukaan dan gaya adesi atau adesi dan kohesi 
(b) Jelaskan hubungan antara sudut kontak dengan koefisien sebar
sudut antara tetes cairan dan permukaan dimana dia menyebar

Jika sudut kontak kurang dari 90o, cairan dikatakan "membasahi" padatan; jika sudut kontak

lebih besar dari 90o, cairan dikatakan "tidak membasahi" padatan

koefisien penyebaran positif, cairan "menyebar" pada padatan (b); jika koefisien penyebaran
negatif, cairan "menyebar sebagian" pada padatan
4. Apakah yang dimaksud dengan Critical Micelle Concentration (CMC) dan bagaimana cara
menentukan nilai CMC suatu surfaktan ?
yaitu titik konsentrasi kritis dimana semua surfaktan akan membentuk misel,
parameter standard dalam karatekterisasi larutan sufaktan
cara : mengukur tegangan permukaan larutan surfaktan dengan berbagai konsentrasi yaitu 1-
10%
5. (a) Apakah yang dimaksud dengan zeta potential ?
parameter muatan listrik antara partikel koloid. Yang disebut sebagai zeta potensial adalah area
yang menunjukkan adanya beda potensial antara Stern Layer dan Difuse Layer dari koloid.
Semakin tinggi nilai potensial zeta maka akan semakin mencegah terjadinya flokulasi/ peristiwa
penggabungan koloid dari yang kecil menjadi besar. 
(b) Jelaskan bagaimanakah keterkaitan antara zeta potential, gaya tolak menolak dan kestabilan
sistem dispersi.
Besarnya potensial zeta memberikan indikasi kestabilan potensial sistem koloid. Jika semua
partikel dalam suspensi memiliki potensial zeta negatif atau positif yang besar maka mereka
akan cenderung saling tolak-menolak dan tidak akan ada kecenderungan partikel untuk
bersatu.
6. Dapatkah anda menjelaskan bagian-bagian dalam ilustrasi sistem disperse yang distabilkan
dengan surfaktan ionik ? (stern layer, diffuse layer, shear plane, electrical double layer)
Stern layer : Counterions/ ion yang berlawananyang tertarik ke permukaan partikel terdispersi

dan terikat kuat dengan partikel terdispersi dengan adanya gaya elektrostatik

2. Diffuse layer

Lapisan medium dispersi yang terikat dengan partikel dan mengandung konsentrasi tinggi dari

counterions. Ion-ion pada diffuse layer dipengaruhi oleh gaya elektrostatik dari partikel yang

bermuatan.

3. Electrical Double Layer

Lapisan di sekeliling partikel dari fase terdispersi, termasuk ion-ion yang teradsorbsi pada

permukaan partikel dan pada lapisan counterions dari medium pendispersi.

4. Shear plane/slipping plane

Pada saat partikel terdispersi bergerak dalam medium pendispersi, maka lapisan di sekitar

partikel ikut bergerak, termasuk juga ion-ion yang ada. Sampai dengan batas tertentu

(shear/slipping plane), ion ini masih dapat terus bergerak mengikuti partikel (disebut sebagi

awan ion/ion clouds) tetapi di luar batas ini maka ion akan semakin jauh dan tidak mengikuti

partikel.

7. Jelaskan bagaimanakah proses stabilisasi sistem disperse dengan menggunakan polimer

ataupun surfaktan nonionik sebagai stabilisatornya.
Polimer nonionik dapat memberikan stabilitas pada dispersi koloid setidaknya dalam dua cara
berbeda:
jika melekat pada partikel koloid, mereka dapat menghasilkan stabilisasi sterik
jika bebas dalam larutan, mereka dapat menghasilkan stabilisasi penipisan.