METODE DEPOSISI THIN FILM

Ismira Wahyu
24040117420010
 METODE DEPOSISI LAPISAN TIPIS
Berbasis Uap
- PVD
Ex: Sputtering, PLD
- CVD
Ex: MOCVD, PECVD
Berbasis Liquid
- Spray coating
- Spin Coating
-Dip Coating
PENDAHULUAN

• Proses pembentukan lapisan tipis pada substrat melibatkan transformasi fase

Material Sumber Lapisan

Padat
Sublimasi
UAP
Cair Evaporasi

ENERGI TERMAL
 PULSE LASER DEPOSITION (PLD)

• PLD adalah salah satu metode physical vapour

deposision dimana sinar laser berdaya tinggi
difokuskan pada ruang vakum untuk
memborbardir target material.
• Material ini akan diuapkan dari target (dalam
bentuk plasma plume) dan kemudian akan
menjadi sebuah lapisan tipis pada substrat
• Proses ini dapat terjadi dalam ruang vakum
atau dalam lingkungan dengan gas tertentu
seperti oksigen
PRINSIP KERJA
 PLD
• Proses PLD dibagi menjadi empat tahap:
• 1. Absorbsi sinar laser pada permukaan target, ablasi laser pada target, dan
munculnya plasma
• 2. Dynamic of plasma
• 3. Deposisi bahan ablasi pada substrat
• 4. Nukleasi dan pertumbuhan film pada permukaan substrat
Masing masing proses sangat mempengaruhi kristalinitas, homogenitas, dan
stoikiometri dari lapisan yang dihasilkan
• LASER ABLATION OF THE TARGET MATERIAL AND CREATION OF A PLASMA

- Perpindahan atom dari material bulk dilakukan dengan cara evaporasi pada
permukaan dalam keadaan non equilibrium. Dalam proses ini pulsa laser akan
menembus ke permukaan material.
- Medan listrik yang dimiliki oleh laser cukup kuat untuk memindahkan electron
dari material bulk yang ditembus
- Elektron bebas akan berosilasi dalam medan elektromagnetik dari sinar laser dan
akan bertabrakan dengan atom atom dari material bulk, dan mentransfer energinya
ke kisi kisi bahan target. Target kemudian dipanaskan dan materialnya diuapkan.
DINAMIKA PLASMA
- Material akan menjadi plasma plume dan bergerak parallel dengan vector normal
pada permukaan target karena adanya tolakan Coloumb dan pindah dari
permukaan target
- Distribusi spasial dari plasma plume tergantung pada tekanan dalam chamber
- Plasma plume terdiri dari atom, maupun atom atom yang terionisasi.

DEPOSISI PADA SUBSTRAT

- Ketika laju kondensasi cukup tinggi, kesegimbangan termal dapat dicapai dan
lapisan akan tumbuh pada permukaan substrat.
 CONTOH PLD
Kesimoulan : PLD lebih potensial
untuk fabrikasi ZnO:Eu pada low
substrate temperature
Novoltny, 2019
Thin films ZnO:Eu
Substrat Silica
Dilakukan deposisi pada 2
variasi : a) Room temperature
b) T= 300C pada lingkungan
oksigen
Hasil :
Dihasilkan wurtwrite structure
Pada suhu 300 C ukuran
kristalitas meningkat,
menurunkan efisiensi transfer
energi dari ZnO ke ion Eu, dan
menurunkan resistivitas film,
grain size lebih besar.