Anda di halaman 1dari 4

Nama : Muhamad Firmansyah Rizkiawan Putra

Nrp : 14-2019-004
Tugas 3 Nano
KELOMPOK 4
Berikan 3 metode bottom up beserta dengan gambar!
1. Sol gel meth
Sol gel adalah proses pendekatan bottom up yang secara luas diterapkan untuk
menghasilkan silica dan lain lain karena kemampuannya membentuk produk murni
pada kondisi ringan. Metode sol-gel berfokus pada pertumbuhan senyawa kimia
dalam larutan. Mengikuti gerakan antara spesies dan cairan, sol diubah menjadi
semacam saluran tiga sisi yang meningkat dalam pelarut. Proses ini kemudian
dibekukan dan sol-gel diubah menjadi bahan padat yang terdeformasi dengan
menghilangkan cairan dari udara-gel atau dengan penguapan.

Salah satu manfaat dari proses ini adalah kemampuan untuk mengatur ukuran dan
kesatuan penyebaran material. Mereka memungkinkan produksi sebagian besar serat.
Namun, satu kelemahan utama dari teknik ini adalah bahwa prekursor terlalu mahal
dengan perolehan yang sangat rendah; produk berbobot rendah dan sangat berbahaya
bagi kesehatan manusia.
2. Dip-coating
Pada pendekatan bottom-up dikenal teknik EISA atau evaporation-induced self-
assembly dan The dip-coating deposition. Dimana keduanya biasa digunakan untuk
fabrikasi film tipis. Dip coating adalah suatu proses yang digunakan untuk
pelapisan, misalnya bahan semikonduktor. Pada proses pelapisan ini, biasanya di
bagi menjadi beberapa langkah. Perendaman (immersion), dimana substrat
ini direndam dalam larutan bahan lapisan pada kecepatan konstan. Kemudian Start-
up, dimana substrat telah berada di dalam larutan untuk sementara waktu dan mulai
ditarik ke atas. Kecepatan menentukan ketebalan lapisan (penarikan lebih cepat
memberikan bahan pelapis yang lebih tebal). Pengeringan, dimana kelebihan cairan
akan mengalir dari permukaan. Penguapan (evaporation), dimana pelarut yang
menguap dari cair, membentuk lapisan tipis. Pada proses dip coating ini, kecepatan
alat sangat berpengaruh pada tiap langkah yang dilalui. Untuk itu, perlu diperhatikan
dalam pengontrolan kecepatan gerak alat agar hasil pelapisan bahan semikonduktor
mencapai hasil yang sesuai dengan kebutuhan.

Gambar 3. Proses dip-coating


3. MOCVD
Metalorganic Chemical Vapor Deposition (MOCVD), atau biasa disebut
Metalorganic Vapor Phase Epitaxy (MOVPE), adalah teknik throughput yang jauh
lebih tinggi dibandingkan dengan MBE, dan karena itu merupakan alat deposisi
produksi pilihan untuk sebagian besar perangkat semikonduktor majemuk seperti
LED Kecerahan Tinggi (HBLED). ). Di seluruh dunia, ada beberapa produsen alat
MOCVD tingkat penelitian, termasuk Material Terstruktur, Taiyo Nippon-Sanso,
Peralatan Proses Valence, Samco, dan lainnya. Namun, pada tingkat produksi, ada
dua perusahaan yang mendominasi penjualan dan menguasai lebih dari 90 persen
pangsa pasar kolektif: Veeco Turbodisc dan Aixtron.

MOCVD bergantung pada transfer fase gas dari bahan yang akan diendapkan pada
substrat. Deposisi pada akhirnya terjadi melalui reaksi kimia pada permukaan substrat
dan biasanya menghasilkan deposisi film tipis epitaksial berkualitas tinggi. Karena
MOCVD menggunakan aliran gas panas dan reaksi kimia permukaan, suhu substrat
untuk pertumbuhan perangkat tipikal lebih tinggi dari MBE dan dalam kisaran 500-
1500 derajat Celcius. Selain itu, sampel dapat diputar dengan kecepatan hingga 1500
RPM untuk meningkatkan keseragaman dan kualitas film. Selanjutnya, akses optik
biasanya dibatasi kurang dari 10mm, dan jarak jalur optik biasanya pendek (misalnya
250mm atau kurang). Selain itu, deposisi MOCVD terjadi pada tekanan yang
mendekati tekanan atmosfer, yang menghalangi in situmetrologi yang memanfaatkan
berkas elektron atau sinar-x. Untuk alasan ini, probe metrologi optik in situ untuk
MOCVD biasanya berukuran kompak. Alat metrologi kSA ICE berukuran kecil,
ringkas, dan mudah digunakan. Alat ini menawarkan suhu substrat langsung di tempat
, suhu pembawa wafer, ketebalan film, tegangan film tipis/kelengkungan wafer, dan
pengukuran kekasaran permukaan secara real-time.

4. Pirolisis
Pirolisis berasal ari kata Pyro (Fire/Api) dan Lyo (Loosening/Pelepasan) untuk
dekomposisi termal dari suatu bahan organic. Jadi pirolisis adalah sebuah proses
konversi dari suatu bahan organic pada suhu tinggi dan terurai menjadi ikatan molekul
yang lebih kecil. Pirolisis merupakan suatu bentuk insinerasi yang menguraikan bahan
organic secara kimia melalui pemanasan dengan mengalirkan nitrogen sebagai gas
inert.
Jenis jenis pirolisis :
a. Pirolisis cepat
b. Pirolisis lambat
c. Pirolisis vakum
d. Pirolisis kilat (flash pyrolysis)
Produk pirolisis umumnya terdiri dari tiga jenis, yaitu gas ringan (H2, CO, CO2, H2O
dan CH4), tar, dan char. Semua produk dari pirolisis bisa dimanfaatkan sebagai bahan
bakar yang ramah lingkungan. Selain tiga jenis produk tersebut teknologi pirolisis
juga menghasilkan produk lain. Adapun produk pirolisis lainnya antara lain: arang
(biochar), torrified wood, arang aktif, briket arang, bio-oil, syngas. Dibawah ini
merupakan contoh proses pirolisis

Anda mungkin juga menyukai