MAKALAH

TEKNIK DEPOSISI FILM BERBASIS LARUTAN

MENGGUNAKAN CHEMICAL BATH DEPOSITION
(CBD)

Oleh :

Nabillah Fa’diyyah Zahra

140310190063

Makalah ini diajukan untuk memenuhi Tugas Mata Kuliah Teknologi Optoelektronika

FAKULTAS MATEMATIKA DAN ILMU PENGETAHUAN ALAM

UNIVERSITAS PADJAJARAN

2021

1
 KATA PENGANTAR

Alhamdulillah, puji serta syukur kepada Allah SWT yang telah memberikan kemudahan dan
kelancaran-Nya sehingga saya dapat menyelesaikan tugas makalah yang berjudul TEKNIK
DEPOSISI FILM BERBASIS LARUTAN MENGGUNAKAN CHEMICAL BATH
DEPOSITON (CBD) ini tepat pada waktunya. Tujuan dari penulisan dari pembuatan makalah
ini yaitu untuk memenuhi tugas Bapak Dr. rer.nat. Ayi Bahtiar, M.Si pada bidang studi
Fisika dengan mata kuliah Teknik Optoelektronika. Makalah ini sebagai nilai tugas dan
bahan pembelajaran juga. Saya mengucapkan terima kasih kepada Bapak Dr. rer.nat. Ayi
Bahtiar, M.Si selaku dosen pada bidang studi Fisika dengan mata kuliah Teknik
Optoelektronika yang telah memberikan tugas ini sehingga dapat menambah pengetahuan
dan wawasan sesuai dengan bidang studi yang saya tekuni. Saya sadar bahwa makalah saya
masih banyak terdapat kesalahan. Maka , kritik dan saran membangun akan saya nantikan
untuk kesempurnaan dalam pembuatan makalah kedepannya.

Bandung, 02 Mei 2021

Nabillah Fa’diyyah Zahra

140310190063

2
 DAFTAR ISI

Teknik Deposisi Film Berbasis Larutan Menggunakan Chemical Bath Deposition....................1

KATA PENGANTAR.........................................................................................................................2

DAFTAR ISI.......................................................................................................................................3

BAB I.PENDAHULUAN...................................................................................................................4

1.1 Latar belakang..........................................................................................................................4

1.2 Rumusan Masalah.....................................................................................................................4
1.3 Tujuan Pembahasan..................................................................................................................4

BAB II. PEMBAHASAN...................................................................................................................5

2.1 Pengertian CBD........................................................................................................................5

2.2 Prinsip Kerja CBD....................................................................................................................6
2.3 Parameter Fisis atau Persamaan yang Mnentukan Tebal dan Kualitas Film............................9
2.4 Keunggulan dan Kelemahan CBD..........................................................................................11

BAB III. PENUTUP.........................................................................................................................12

3.1 Kesimpulan.............................................................................................................................12

DAFTAR PUSTAKA........................................................................................................................13

3
 BAB I

PENDAHULUAN

1.1. Latar Belakang

Saat ini ilmu dan pengetahuan mengenai teknologi sudah berkembang dengan
pesat.Ilmu Pengetahuan dan Teknologi adalah hal yang sangat penting. Teknologi film
tipis merupakan salah satu penerapan pada bidang fisika khususnya bidang elektronika.
Film tipis dirancang menggunakan cara deposisi atom personal dari suuatu bahan pada
permukaan substrat, dan ketebalannya mencapai orde kurang dari beberapa mikron.
Thin film merupakan lapisan yang sangat tipis dari bahan organik, inorganik, metal
maupun campuran metal yang memiliki sifat-sifat konduktor, semikonduktor,
superkonduktor maupun insulator. (Sudjatmoko, 2003). Efisiensi film tipis sel surya
sampai saat ini masih menunjukkan nilai yang rendah yaitu sebesar 14%-16% (Gupta &
Compaan, 2004, Perrenoud et al., 2011) sehingga untuk meningkatkan efisiensi perlu
pengotor atau doped. Doping dapat diartikan sebagai penambahan pengotor pada suatu
material dengan tujuan untuk memodifikasi karakteristik elektroniknya (Effendi &
Bilalodin, 2012). Thin film Tips doped CdS belum pernah diteliti oleh Khallaf et al.
(2009) menggunakan metode chemical bath deposition.
1.2. Rumusan Masalah
1. Apa Pengertian sari Chemical Bath Deposition?
2. Bagaimana Prinsip Kerja dari Chemical Bath Deposition?
3. Apa Saja Parameter Penentu Ketebalan dan Kualitas Film yang Dihasilkan?
4. Apa Keunggulan dan Kelemahan dari Chemical Bath Deposition?

1.3. Tujuan Pembahasan

1. Mahasiswa Memahami Pengertian Chemical Bath Deposition
2. Mahasiswa Memahami Prinsip Kerja Chemical Bath Deposition
3. Mahasiswa Memahami Parameter Penentu Ketebalan dan Kualitas Film yang
Dihasilkan
4. Mahasiswa Memahami Keunggulan dan kelemahan Chemical Bath Deposition

4
 BAB II

PEMBAHASAN

2.1 CHEMICAL BATH DEPOSISTION (CBD)

Metode chemical bath deposisi atau Chemical Bath Deposition (CBD) adalah salah satu
metode terjangkau untuk menyimpan film tipis dan bahan nano karena tidak bergantung
pada peralatan yang mahal dan merupakan teknologi terukur yang dapat digunakan untuk
pemrosesan batch area luas atau deposisi kontinu. Metode chemical bath deposition
(CBD) menggunakan reaksi kimia terkontrol untuk mempengaruhi pengendapan film
tipis.
Metode CBD merupakan metode yang memungkinkan peneliti mengendapkan lapisan
tipis SnS. Hal tersebut dikarenakan CBD tidak rumit dan relative terjangkau, dan juga
dapat dilakukan pada suhu 25ºC-90ºC . Chemical bath deposition (CBD) adalah metode
pengendapan lapisan tipis melalui proses yang melibatkan reaksi kimia. Saat menerapkan
metode CBD, kita dapat mengubah berbagai parameter, seperti jumlah substrat, suhu,
konsentrasi larutan, pH larutan, dan waktu pengendapan, agar dapat menghasilkan film
berkualitas tinggi dengan lebih cepat dan mudah.
Dalam pembuatan bahan film tipis, deposisi rendaman kimia adalah metode yang dapat
digunakan. Dari klasifikasi teknologi pengendapan menjadi fisika dan kimiawi dua,
pengendapan rendaman kimia termasuk dalam klasifikasi teknologi pengendapan
kimiawi. Metode pengendapan rendaman kimia atau metode CBD menerapkan kontrol
reaksi kimia untuk menghasilkan pengendapan pada film tipis melalui pengendapan.
Presipitasi dalam kimia sendiri merupakan proses pengendapan larutan akibat reaksi
kimia.
Suatu film tipis dapat dibuat melalui berbagai metode deposisi fisika (physical vapor
deposition) maupun kimia (chemical vapor deposition). Deposisi sendiri merupakan
proses perubahan dari gas menjadi padat (desublimation) atau dapat pula diartikan
sebagai pengendapan maupun pertumbuhan. Metode fisika atau physical vapor
deposition (PVD) memanfaatkan uap dan reaksi fisika dalam proses pengendapannya,
seperti teknik sputtering dan pulsed laser deposition. Kemudian metode kimia atau
chemical vapor deposition (CVD) dan chemical bath deposition (CBD) (Saputra,
2006).

5
 Jadi,chemical bath deposition (CBD) yaitu teknik untuk menghasilkan film dari senyawa
anorganik padat yang bersifat non-logam pada substrat. Chemical Bath Deposition
(CBD) melibatkan proses reaksi kimia untuk mendeposisikan suatu bahan pemula ke
dalam substrat yang direndam dalam larutan encer yang mengandung ion logam dan
sumber ion hidroksida, sulfida atau selenida.
2.2 Prinsip Kerja CBD
Pada dasarnya, metode CBD memiliki prinsip kerja yang serupa dengan semua reaksi
presipitasi dan didasarkan pada kelarutan relatif produk dalam proses reduksi kimia
dengan elektron yang terdapat pada senyawa yang berfungsi sebagai pereduksi dalam
larutan. Hasil deposisi berupa film yang menempel pada permukaan substrat yang
dicelupkan dalam larutan akan terus mengkatalisis reaksi reduksi, sehingga proses
deposisi menjadi autokatalisis. Lapisan film yang dihasilkan dari metode CBD ini relatif
tebal. Ketika kesetimbangan antara lapisan pada substrat dan larutan telah terjadi, proses
deposisi akan berhenti.

Gambar 2.1 Skema Metode Chemical Bath Deposition

Dari skema di atas, terlihat bahwa dalam pelaksanaannya metode ini memerlukan dua
buah gelas piala dengan ukuran yang berbeda. Gelas piala yang berukuran kecil
dimasukkan ke gelas piala yang lebih besar. Gelas piala kecil diisi dengan larutan
deposisi, sedangkan gelas piala yang besar diisi dengan suatu larutan. Kedua gelas
tersebut diletakkan di atas pemanas atau hot plate yang dilengkapi pengaduk magnetik.
Dalam metode chemical bath deposisi (CBD), pengendapan film tipis logam
chalcogenide terjadi karena substrat mempertahankan kontak dengan chemical bath
encer yang mengandung logam dan ion chalcogen. Pembentukan film pada substrat
terjadi ketika produk ionik melebihi produk kelarutan. Namun, hal tersebut menghasilkan

6
pembentukan endapan dalam sebagian besar larutan yang tidak dapat dihilangkan yang
menyebabkan hilangnya sebagian material. Sedangkan jika hasil produk ionik lebih kecil
dari hasil produk kelarutan, fasa padat yang dihasilkan akan larut kembali ke dalam
larutan sehingga tidak terjadi presipitasi bersih.
Pencampuran atau Blending adalah suatu metode atau proses material yang mempunyai
cara kerja dengan menggabungkan jumlah material yang telah ditentukan sebelumnya.
Pencampuran adalah suatu teknologi atau proses material yang bekerja dengan cara
mencampurkan atau mencampur sejumlah bahan yang telah ditentukan sebelumnya.
Teknologi ini biasanya digunakan untuk mensintesis bahan tertentu ,seperti prduksi
nanoselulosa dari ampas tebu,sintesis kitin atau kurkumin dan produksi batu bara.
Prinsip pencampuran adalah mencampur bahan dalam proporsi yang sesuai. Teknologi
hybrid memiliki kualitas yang sangat baik dan daya rekat yang kuat ,sehingga telah
banyak digunakan dalam industri pembuatan sutera. Selain itu,proses hybrid juga
dignakan untuk membuat kabel termoplastik yang memberikan kabel kecepatan tranmisi
yang tinggi.Teknik murah untuk mengendapkan film tipis pada semikonduktor atau
substrat kaca adalah teknik chemical bath deposisi (CBD). Dalam CBD, pengendapan
logam kalkogenida pada film semikonduktor dilakukan dengan mempertahankan kontak
dengan penangas kimia yang mengandung ion logam dan kalkogen untuk
menghancurkan substrat. Jika ion produk melebihi kelarutan produk, lapisan film akan
terbentuk pada substrat, namun pembentukan endapan di sebagian besar pelarut
merupakan masalah inheren dalam teknologi CBD. Hal ini biasanya menghasilkan
presipitasi yang tidak perlu dan kehilangan material selama pengendapan film tipis
dengan CBD pada substrat semikonduktor atau kaca, dan menekan keseragaman film
yang diendapkan. Untuk menghindari masalah ini, perlu untuk mengoptimalkan dengan
benar kandungan kimia dari endapan rendaman pelapisan
Pengendapan rendaman kimiawi melibatkan dua langkah nukleasi dan pertumbuhan
partikel, dan didasarkan pada proses pembentukan fasa padat dari suatu larutan. Dalam
prosedur pengendapan rendaman kimia, substrat direndam dalam larutan yang
mengandung prekursor. Metode ini bergantung pada parameter seperti suhu rendaman,
pH larutan, konsentrasi molaritas dan waktu. Pengendapan rendaman kimiawi tidak akan
menyebabkan kerusakan fisik pada substrat

7
 Gambar 2.2 Skema Metode Chemical Bath Deposition
Metode blended ialah salah satu metode yang bisa digunakan dalam proses sintesis
material. Prinsip dari blended ini merupakan mencampurkan ataupun mengombinasikan
bahan- bahan material yang diperlukan dalam pembuatan material baru dengan jumlah
yang cocok. Dalam prosesnya, pencampuran bahan- bahan material bisa dengan
memakai perlengkapan dari yang relatif mahal serta dengan metode kerja yang lebih
lingkungan sampai yang lebih murah serta simpel. Perihal ini bergantung pada produk
yang mau disintesis.Tata cara blended, secara garis besarnya mempunyai 2 tahapan, ialah
isolasi bahan baku serta sintesis produk dengan memakai metode
pencampuran( blended). Proses pencampuran material, dengan mengombinasikan matrik
material( bahan baku) dengan material penguat yang lain secara menyeluruh. Sehabis
terjadinya produk, umumnya dicoba uji karakterisasi dengan memakai perlengkapan FT-
IR serta XRD. Perihal ini bertujuan buat mengenali apakah produk yang tercipta telah
cocok dengan yang di idamkan, baik itu keefektifitasannya ataupun kelayakan produk.
Jenis- jenis perlengkapan yang digunakan dalam proses blending bisa dilihat pada
gambar dibawah.

8
 Gambar 2.3 Jenis- jenis perlengkapan yang digunakan dalam proses blending

2.3 Parameter Fisis atau Persamaan yang Menentukan Ketebalan dan Kualitas Film
yang Dihasilkan
Suatu thin film atau lapisan tipis bergantung pada sifat-sifat bahan yang akan diendapkan
atau dideposisi. Bahan pembuat lapisan tipis ini dapat berupa logam, bahan organik,
bahan anorganik, maupun campuran metal organic yang dapat memiliki sifat konduktor,
semikonduktor maupun isolator. Lapisan tipis dapat dibuat dengan cara mendeposisi
suatu reagen atau atom-atom individual di permukaan suatu bahan bernama substrat.
Lapisan film tipis ini memiliki ketebalan yang sangat kecil, yaitu skala nanometer hingga
mikrometer atau mencapai orde kurang dari beberapa micron yang berkisar antara
10−6 −10−9 meter .
Lapisan tipis memiliki sifat optik yang terdiri atas Transmissionansi, absorbansi, dan
reflektansi yang memiliki kaitan dengan interaksi antara material dengan gelombang
elektromagnetik seperti cahaya, khususnya cahaya tampak. Transmitansi merupakan
perbandingan antara intensitas cahaya yang ditransmisikan dan intensitas cahaya
sebelum melewati bahan.Besarnya transmitansi material dalam persen (%) dapat
dituliskan sebagai:
I
T= … … … … … …[2.1]
I0
Dan absorbansi merupakan perbandingan logaritmik antara radiasi yang dijalarkan atau
dipaparkan pada suatu bahan dan radiasi yang ditransmisikan menembus bahan.
Absorbansi dapat dituliskan sebagai :
I
A=−log =−logT … … … … … …[2.2]
I0
Intensitas radiasi akan berkurang secara eksponensial terhadap ketebalan film, secara
matematis dapat dituliskan sebagai :

9
I
=e−αb … … … … … … … … …...[2.3]
I0
Dengan b yang merupakan ketebalan film dan α koefisien absropsi optic, diperoleh
hubungan transmitansi dengan ketebalan film, yaitu :
−αb
T =e … … … … … … … … [2.4 ]
Nilai transmitansi akan mengecil jika ketebalan film semakin besar, karena molekul yang
terlibat dalam penyerapan energi cahaya yang diberikan akan semakin banyak, sehingga
fraksi energi yang dilewatkan akan berkurang.
Pada saat gelombang cahaya mengenai suatu material, amplitudo gelombang akan
berkurang secara eksponensial dan intensitas gelombang tersebut akan mengalami
atenuasi atau peredaman pada jarak yang pendek. Peredaman intensitas ini berbeda untuk
material yang berbeda. Untuk mengetahui efek peredaman , terdapat suatu parameter
bernama konstanta peredaman :
αλ
k= … … … … … …... [2.5]
4π
Dengan :
−α b=lnT … … … … …[2.6]
−ln T
α= m… … … … …[2.7]
b
Lapisan film yang semakin tebal lapisannya menyebabkan semakin besarnya konstanta
redaman. Karena molekul yang berperan dalam proses penyerapan cahaya akan semakin
banyak. Sehingga, semakin banyak fraksi energi yang bisa diserap.
Selain itu, pembuatan lapisan tipis juga sangat dipengaruhi oleh metode preparasinya.
Sifat elektris lapisan tipis dapat diatur melalui parameter-parameter fisis saat proses
pembuatannya. Pengendapan lapisan tipis dengan metode CBD, dipengaruhi oleh
berbagai macam parameter seperti banyaknya substrat, pH larutan, preparasi larutan,
konsetrasi larutan, pH larutan, waktu deposisi atau waktu pembenaman, temperatur
pembenaman, serta temperatur kalsinasi atau pemanasan demi menghasilkan lapisan tipis
yang berkualitas dengan cara yang lebih cepat dan mudah. Dengan penggunaan
temperatur pembenaman yang semakin tinggi saat proses deposisi, diharapkan lapisan
tipis yang terbentuk akan semakin homogen serta laju reaksi pembentukan lapisan tipis
akan lebih cepat dengan melibatkan reaksi kimia

10
2.4 Keunggulan dan Kelemahan Teknik CBD.
1) Keunggulan CBD
 Hanya butuh substrat perangkat pemasangan dan wadah larutan
 Dibandingkan metode yang lain,Metode CBD memberikan hasil yang
seragam,stabil dan
 Efisien karena cara yang sederhana
2) Kelemahan CBD
 Boros larutan disetiap
 Faktor yang sangatlah penting untuk mendapatkan film yang baik yaitu
pembersihan media yang baik dan tepat
Diatara berbagai teknik atau metode yang tersedia untuk sintesis lapisan tipis,
teknik chemical bath deposition atau CBD memiliki beberapa keunggulan. Teknik
CBD ini merupakan teknik sederhana dan senyawa terner serta kuaterner dapat
dengan mudah disintesis tanpa menggunakan instrumentasi yang canggih dan kontrol
proses, sehingga teknik ini dikenal sebagai teknik sintesis dengan biaya yang paling
rendah dan ramah lingkungan. Dengan metode CBD, sejumlah besar substrat dapat
dilapisi dalam sekali proses dengan desain chemical bath yang tepat. Beberapa sifat
elektris beserta faktor pertumbuhan seperti morfologi, ukuran kristal, dan tingkat
kristalinitas juga dapat dikontrol dengan mudah dengan memvariasikan pH larutan,
temperatur deposisi, dan konsentrasi larutan. Metode ini dilakukan pada suhu rendah
yaitu antara sehingga terhindar dari oksidasi dan korosi substrat logam. Metode ini
juga mampu dilakukan pada substrat yang memiliki ukuran luas serta dapat
menghasilkan metal oksida dengan ukuran kristal yang kecil. Metode CBD yang
mutakhir telah berhasil digunakan untuk menyimpan banyak film tipis semikonduktor
yang berbeda termasuk . Namun, teknik ini juga memiliki kelemahan seperti terjadi
pemborosan larutan dalam setiap proses depoisisi memerlukan substrat yang bersih
serta lapisan yang dihasilkan terkadang kurang merata, Substrat yang digunakan
dalam proses pendeposisian dibersihkan menggunakan aquades agar tidak
terkontaminasi oleh debu, sehingga dapat diperoleh hasil pendeposisian yang
maksimal.

11
 BAB III

PENUTUP

3.1 Kesimpulan
Chemical Bath Deposition sangatlah efektif digunakan karena metode ini terjangkau
untuk menyimpan film tipis dan bahan nano dan tidak bergantung pada peralatan yang
mahal dan merupakan teknologi terukur yang dapat digunakan untuk pemrosesan batch
area luas atau deposisi kontinu. Dengan hasil deposisi berupa film yang menempel pada
permukaan substrat yang dicelupkan dalam larutan akan terus mengkatalisis reaksi
reduksi, sehingga proses deposisi menjadi autokatalisis. Pengendapan lapisan tipis dengan
metode CBD, dipengaruhi oleh berbagai macam parameter seperti banyaknya substrat,
pH larutan, preparasi larutan, konsetrasi larutan, pH larutan, waktu deposisi atau waktu
pembenaman, temperatur pembenaman, serta temperatur kalsinasi atau pemanasan demi
menghasilkan lapisan tipis yang berkualitas dengan cara yang lebih cepat dan mudah.

12
 DAFTAR PUSTAKA

Amelia, Resdina. (2015). PENGARUH PENAMBAHAN ETHYLENE DIAMINE TETRA

ACETAT (EDTA) DAN pH LARUTAN TERHADAP KARAKTERISTIK
NANORODS ZnO YANG DITUMBUHKAN DI ATAS FILM KACA. Skripsi.
Universitas Negeri Semarang, Semarang.
Fianti, S. (2017). Transistor Film Tipis Organik. Yogyakart: Penerbit Deepublish.
Hone, F. G., & Abza, T. (2019). Short Review of Factors Affecting Chemical Bath
Deposition Method for Metal Chalcogenide Thin Films. International Journal of
Thin Films Science and Technology, 43-53.
Kassim, A., Tee, T. W., Abdullah, D. K., Haron, M., Min, H. S., Monohorn, S., &
Nagalingam, S. (2010). PREPARATION AND CHARACTERIZATION OF PbSe
THIN FILMS. Jurnal Kimia, 1-6.
Kusumaningtyas, Shita Agustin. (2016). PENGARUH pH DALAM SINTESIS TiO2
ANATASE DENGAN METODE CHEMICAL BATH DEPOSITION TERHADAP
KARAKTERISTIK SENSOR GAS VOLATILE ORGANIC COMPOUND
(METHANOL). Tugas Akhir. Institut Teknologi Sepuluh Nopember, Surabaya.
Maddu, A., Sirait, J. D., Wahyudi, S. T., & Zuhri, M. (2007). PENUMBUHAN FILM
CdO DENGAN METODECHEMICAL BATH DEPOSITION(CBD). Jurnal Sains
Materi IndonesiaIndonesian Journal of Materials Science, 7-11.
Muhammad, A. J., Anas, M., & Erniwati. (2017). Karakterisasi Struktur Lapisan Tipis
Tin Sulfida (SnS) yang Dideposisi dengan Metode Chemical Bath Depotition
(CBD). JURNAL APLIKASI FISIKA, 7-13.
Pathan, H. M., & Lokhande, C. D. (2004). Deposition of metal chalcogenide thin films
by successive ionic layer adsorption and reaction (SILAR) method. Bull. Mater.
Sci, 85-111.
Saputra, D. 2006. Pengaruh Suhu Pemanasan Terhadap Sifat Optik Lapisan Tipis MnS
Yang Ditumbuhkan Dengan Metode Chemical Bath Deposition. Diakses pada 02
Mei 2021, dari https://docplayer.info/50542495-Pengaruh-suhu-pemanasan-
terhadap-sifat-optik-lapisan-tipis-mns-yang-ditumbuhkan-dengan-metode-
chemical-bath-deposition-dhoni-saputra.html.

13