Nama : Riga Abdul Aziz / 142019015

Firman / 142019005

Kelompok 4

Tugas 2

Berikan 3 metode sintesis bottom up beserta gambarnya ?

1. Metode sol-gel
Metode sol gel merupakan salah satu metoda sintesis nanopartikel yang menerapkan 2
tahapan fasa penting yaitu sol dan gel. Sol merupakan suatu suspensi koloid dimana fasa
terdispersinya berupa zat padat yang masih mengalami Brownian motion ( gerak Brownian )
atau diffusion Brownian ( difusi Brownian ) dan pendispersinya berupa zat cair. Sedangkan gel
merupakan suatu zat yang memiliki pori semirigid yang terdiri dari jaringan kontinu dalam tiga
dimensi yang terbentuk dari rantai polimer. Metode sol-gel merupakan metode yang digunakan
untuk membuat suatu material padat dari nonopartikel atau molekul yang berukuran kecil
terutama digunakan untuk fabrikasi dari oksida logam seperti silikon(Si)(79) dan titanium(Ti)(80).
pada umumnya, tahapan proses sol gel terbagi atas tiga bagian, yaitu hidrolisis,
kondensasi alkohol, dan kondensasi air.
a. Hidrolisis
Pada tahap hidolisis terjadi reaksi penggantian gugus alkoksida –OR oleh gugus karboksil –
OH. Hidrolisis ini dapat terjadi dalam kondisi asam dan basa. Mekanisme hidrolisis pada
kondisi asam dapat dilihat pada reaksi di bawah ini

Mekanisme hidrolisis pada kondisi basa dapat dilihat pada reaksi di bawah ini :

b. Kondensasi
Mekanisme kondensasi dalam suasana asam dan basa dapat dilihat pada reaksi di bawah
ini:
 Asam

Bassa

c. Aging (pematangan)
Pada proses pematangan ini, terjadi reaksi pembentukan jaringan gel yang lebih kaku, kuat,
dan menyusut di dalam larutan Fase cair yang masih mengandung partikel padat dan
menggumpal akan terus bereaksi dan akan mengembun saat gel mengering. Gel yang
dihasilkan sangat fleksibel. Gel tersebut akan semakin kental yang disebabkan oleh
kelompok-kelompok cabang disampingnya yang mengembun. Hal ini menyebabkan cairan
yang terdapat di dalam gel akan diserap oleh kolompok-kelompok cabang tersebut
sehingga gel mengalami penyusutan. Proses ini akan terus berlanjut selama di dalam gel
masih terdapat fleksibilitas(2).

d. Drying (Pengeringan)
Fase cair atau pelarut yang tersisa perlu dihilangkan atau dibuang melalui proses drying
atau pengeringan yang disertai dengan penyusutan dan densifikasi

Metode sol gel ini dapat diterapkan dalam bidang optik, elektronik, energi, ruang, biosensor, serta obat.
Ada banyak produk-produk yang dapat dihasilkan melalui metode sol-gel ini diantaranya :

 Film tipis dan serat

 Serbuk nanoscale
 Opto-mechanical
 Obat A

Ada beberapa keunggulan dari teknik sol gel diantaranya homogenitas hasil yang tinggi, senyawa yang
dihasilkan memiliki kemurnian yang tinggi, dan suhu yang digunakan relatif rendah. Diantara keunggulan
dari teknik sol gel tadi, ada juga beberapa kelemahan dari teknik sol gel antara lain, prekursor yang
digunakan mahal, waktu yang dibutuhkan lama, dan menghasilkan zat sisa berupa hidroksil dan karbon.
2. CHEMICAL VAPOR DEPOSITION
Chemical Vapor Deposition merupakan metode deposisi yang digunakan untuk menghasilkan
bahan padat berkualitas tinggi dan berkinerja tinggi yang biasanya dibawah vakum. Deposisi uap
kimia (CVD) adalah teknologi pengolahan material yang banyak digunakan. Kebanyakan
aplikasinya melibatkan penerapan lapisan tipis-film padat ke permukaan, tetapi juga digunakan
untuk memproduksi bahan curah dengan kemurnian tinggi dan bubuk, serta fabrikasi komposit
melalui teknik infiltrasi
Salah satu keuntungan besar dari pengolahan CVD adalah dapat menciptakan lapisan dengan
ketebalan yang seragam bahkan dalam bentuk yang kompleks. Misalnya, CVD dapat digunakan
untuk menyatukan tabung karbon nanotube silinder kecil dari karbon murni yang jauh lebih
ramping daripada rambut seperti untuk memodifikasi sifat mekanik mereka dan membuat
mereka bereaksi secara kimia terhadap zat tertentu(86-89). CVD juga memiliki sejumlah
kerugian. Salah satu kelemahan utama terletak pada sifat-sifat prekursor. Idealnya itu prekursor
harus mudah berubah di dekat ruangan suhu. Ini bukan angka sepele elemen dalam tabel
periodik, meskipun penggunaan prekursor logam-organik telah mereda. Prekursor CVD juga bisa
sangat beracun (Ni (CO)), eksplosif, atau korosif (SiCl2). Produk sampingan dari reaksi CVD bisa
juga berbahaya (CO,atau HF). Beberapa prekursor ini, terutama prekursor logam-organik, juga
bisa sangat mahal. Kerugian utama lainnya adalah kenyataan bahwa film-film tersebut biasanya
disimpan pada suhu tinggi. Ini memberi batasan pada jenis media yang bisa dilapisi. Lebih
penting lagi, mengarah kepada menekankan pada film yang disimpan pada bahan dengan
koefisien ekspansi termal yang berbeda, yang dapat menyebabkan ketidakstabilan mekanik di
film yang disimpan.
Proses CVD ( Chemical Vapor Deposisi ) dibuat dalam dua langkah, pirolisis prekursor dari bahan
untuk membentuk karbon, dan pembentukan struktur karbon graphene menggunakan atom
karbon dipisahkan.Tahap pertama, pirolisis ke atom karbon yang dipisahkan, harus dilakukan
pada permukaan substrat untuk mencegah pengendapan gugusan karbon (jelaga) selama fase
gas. Masalah dengan ini adalah bahwa dekomposisi prekursor pirolitik membutuhkan tingkat
panas yang ekstrim, dan oleh karena itu katalis logam harus digunakan untuk mengurangi suhu
reaksi Tahap kedua menciptakan struktur karbon dari atom karbon yang dipisahkan, juga
membutuhkan tingkat panas yang sangat tinggi (lebih dari 2500 derajat Celcius tanpa katalis),
jadi katalis sangat penting pada tahap ini untuk mengurangi suhu yang diperlukan untuk reaksi
terhadap terjadi pada sekitar 1000 derajat Celcius. Masalah dengan menggunakan katalis adalah
bahwa Anda secara efektif memasukkan lebih banyak senyawa ke dalam ruang reaksi, yang akan
memiliki efek pada reaksi di dalam ruangan.Salah satu contoh dari efek ini adalah cara atom
karbon larut ke dalam substrat tertentu seperti Nikel selama fase pendinginan
Salah satu contoh awal dari Aplikasi CVD dengan skala besar adalah proses karbonil
untukpemurnian nikel. Aplikasi lainnya melibatkan deposisi pelapis untuk ketahanan aus dan
korosi, dan pembuatan bentuk struktural dan komponen.
 Seperti terlihat pada gambar di samping, pelapisnya berupa gas yang akan bereaksi dengan
permukaan material saat pemanasan berlangsung dan menghasilkan lapisan yang keras serta
menghasilkan produk gas yang akan dibuang melalui reactor.

3. Pyrolisis
Pirolisis berasal dari dua kata yaitu pyro yang berarti panas dan lysis berarti penguraian atau
degradasi, sehingga pirolisis berarti penguraian biomassa karena panas pada suhu lebih dari
150oC. Pirolisis atau bisa di sebut thermolisis adalah proses dekomposisi kimia dengan
menggunakan pemanasan tanpa kehadiran oksigen. Proses pirolisis menghasilkan produk
berupa bahan bakar padat yaitu karbon, cairan berupa campuran tar dan beberapa zat lainnya.
Produk lain adalah gas berupa karbon dioksida (CO2), metana (CH4) dan beberapa gas yang
memiliki kandungan kecil. Hasil pirolisis berupa tiga jenis produk yaitu padatan (charcoal/arang),
gas (fuel gas) dan cairan (bio-oil). Umumnya proses pirolisis berlangsung pada suhu di atas 300°C
dalam waktu 4-7 jam.
Menurut Kamaruddin et al.(1999) dalam pirolisis terdapat dua tingkatan proses, yaitu pirolisis
primer dan pirolisis sekunder.
 Pirolisis primer adalah pirolisis yang terjadi pada bahan baku dan berlangsung pada suhu
kurang dari 600 oC, hasil penguraian yang utama adalah karbon (arang). Pirolisis primer
dibedakan atas pirolisis primer lambat dan cepat. Pirolisis primer lambat terjadi pada
proses pembuatan arang. Pada laju pemanasan lambat (suhu 150 oC – 300 oC) reaksi
utama yang terjadi adalah dehidrasi (kehilagan kandungan air), dan hasil reaksi
keseluruhan adalah karbon padatan (C=arang), air (H2O), karbon monoksida (CO) dan
karbonmonoksida (CO2). Pirolisis primer cepat terjadi pada suhu lebih dari 300 oC dan
menghasilkan gas, karbon padatan (arang) dan uap
 Pirolisis sekunder yaitu pirolisis yang terjadi atas partikel dan gas/uap hasil pirolisis
primer dan berlangsung diatas suhu 600 oC. hasil pirolisis pada suhu ini adalah
karbonmonoksida (CO), hydrogen (H2), dan hidrokarbon
Gambar di atas merupakan rancangan reactor pirolisis batu bara