Praktikum: Elektropengendapan

Laboratorium Material & Nanoteknologi

Jurusan Fisika – Universitas Andalas

Oleh:
Dr. Dahyunir Dahlan

Tujuan Khusus:
Pembentukan Lapisan Tipis (Thin Film)
 Pendahuluan
• Pada masa kini lapisan ultra-tipis yang terdiri dari pertikel
berukuran nanometer telah menarik perhatian peneliti, bukan hanya
dalam aspek penyelidikan teori tetapi juga bagi pengembangan
penggunaannya. Nanopartikel dan nanofilem mempunyai kegunaan
penting sebagai bahan pelapis, katalis, konduktor listrik dan bahan
magnet. Sementara itu sifat kesuperparamagnetannya telah
diselidiki dengan meluas, di antaranya nanopartikel nikel yang
dilapisi dengan karbon (Mandhal et al. 2003) dan nanopartikel nikel
multilapisan bagi meningkatkan kapasitas penyimpan data (Sun et
al. 2002).

• Teknik pelapisan secara elektropengendapan telah digunakan

dengan meluas dalam penyediaan nanopartikel dan nanolapisan,
kerana lebih murah dan mudah dibandingkan dengan kaedah lain
(Natter et al. 2003). Teknik ini juga merupakan kaedah yang
menarik, karena keadaan pertumbuhan dapat dipantau secara
langsung berdasarkan energi listrik yang digunakan.
Contoh2-contoh Aplikasi Lapisan Tipis
 Teori
• [1] M+n + ne- ==> M
• [2] Q = m n Na Qe
• [3] m = Q / (n F)
• [4]
• [5]
• [6] D = w / V = w / (A T)
• [7]
Metodologi
• Proses elektropengendapan:
Sel 3 elektroda
– Platinum sebagai elektroda
penghitung (counter
electrode).
– Substrat Al, lapisan tipis
Al, lapisan tipis Cu dan
lapisan tipis Au, ITO
sebagai elektroda kerja
(working electrode)
– Elektrod Kalomel Jenuh
(SCE) sebagai elektroda
referensi (reference
electrode)
 contoh persiapan proses
elektrodeposisi
• Penyediaan larutan:
- 0.1M dan 0.6 M NiSO4
- 15 g/l H3BO3 (0.243M)
- % bt. Glukopon 215 CSUP
- (Surfaktan)
 Proses elektropengendapan lapisan
-0.650

-0.700
lapisan 1 lapisan 2 lapisan 3 lapisan 4 lapisan 5 lapisan 6 lapisan 7 lapisan 8
tipis nanpartikel Ni diatas substrat
lapisan tipis Au menggunakan
Keupayaan (V) vs EKt

-0.750

larutan
-0.800

-0.850

-0.900

-0.950

hanya 0.1M NiSO4

0.0E+00 2.0E+01 4.0E+01 6.0E+01 8.0E+01 1.0E+02 1.2E+02
Masa (saat)

-0.820

lapisan 1 lapisan 2 lapis an 3 lapisan 4 lapisan 5 lapisan 6 lapisan 7 lapisan 8

-0.830
Keupayaan (V) vs EKT

-0.840

-0.850

-0.860

-0.870

-0.880

0.1M NiSO4 + 15 g/l H3BO3

0.0E+00 2.0E+01 4.0E+01 6.0E+01 8.0E+01 1.0E+02 1.2E+02
Masa (saat)

-0.880

-0.890 lapisan 7
lapisan 1 lapisan 2 lapisan 3 lapisan 4 lapisan 5 lapisan 6 lapisan 8
Keupayaan (V) vs EKT

-0.900

-0.910

-0.920

-0.930

-0.940
0.1M NiSO4 + 15 g/l H3BO3 +
0.0E+00 2.0E+01 4.0E+01 6.0E+01 8.0E+01 1.0E+02 1.2E+02
Masa (saat)
3% bt. glukopon
Hasil yang diharapkan
Imej SEM permukaan dan tampang lintang multi
lapisan nikel. Elektropengendapan dilakukan keatas
lapisan tipis emas menggunakan larutan, (a) hanya
0.1M NiSO4, (b) dan (c) 0.1M NiSO4 + 15 g/l H3BO3,
serta (d) dan (e) 0.1M NiSO4 +15 g/l H3BO3 + 3% bt
glukopon.
Beberapa karakterisasi Lapisan Tipis

Proses pengujian sifat korosi dan data Tafel Mikroskop elektron imbasan (SEM)
menggunakan perisian lunak Gamry Ins.

VSM kawalan mikroprosesor model 9500 Spektroskopi impedansi High Frequency

Response Analyzer Solartron HF 1255