Latar Belakang
Dewasa ini perkembangan ilmu pengetahuan dan teknologi sedang mengalami
kemajuan yang cukup pesat. Wawasan dan pengetahuan manusia makin hari makin
berkembang, sehingga menyebabkan adanya pergeseran nilai dari peradaban manusia
itu sendiri. Memang pada dasarnya setiap perubahan mempunyai arti nilai yang
berlainan, baik itu yang berdampak positif maupun yang berdampak negatif. Hanya
saja kita sebagai manusia harus lebih arif dan bijaksana dalam mengambil makna dari
adanya perubahan tersebut.
Sebagai orang teknik terutama orang yang berkecimpung dalam bidang
permesinan, tentu menginginkan adanya tambahan wawasan dan pengetahuan dasar
yang perlu dipelajari, karena dapat dijadikan sebagai sarana penunjang dalam
mempelajari ilmu permesinan lebih jauh. Pengetahuan tentang logam perlu dipelajari
karena berhubungan dengan pemakaian logam pada berbagai keperluan.
Logam banyak dipergunakan oleh manusia, karena mempunyai sifat-sifat
yang tidak dipunyai oleh unsur lain seperti sifat kuat, liat, keras, mengkilap,
penghantar listrik dan penghantar panas yang baik juga logam mempunyai titik cair
yang cukup tinggi. Pemakaian logam di bidang teknik pada umumnya tidak tunggal.
Hal ini bermaksud agar peralatan dari logam berkemampuan baik.
Seperti halnya dalam pelapisan dudukan gagang telepon umum di PT. Pindad
Persero Bandung, baja dilapisi kembali permukaannya dengan tembaga, nikel dan
khrom. Tujuan pemaduan tersebut selain untuk menambah kekuatan juga keindahan,
agar tidak mudah korosi. Korosi terjadi selain disebabkan oleh reaksi kimia biasa,
juga disebabkan oleh proses elektrokimia.
Di negara yang sudah maju, masalah korosi telah mendapat perhatian yang
serius sehingga dibentuk lembaga-lembaga yang menangani secara sungguh-sungguh.
Fakta membuktikan bahwa kerugian yang diakibatkan korosi sangatlah besar, sebagai
contoh seperti berikut.
: $ 70.000.000.000 (uhlig)
: $ 1.000.000.000 (uhlig)
: $ 1.000.000.000 (Indicor)
Dengan melihat bahaya dan kerugian akibat korosi yang begitu besar,
mendorong manusia untuk mencari berbagai cara agar dapat mengurangi terjadinya
korosi tersebut. Salah satu upaya untuk umur pakai peralatan dari logam terhadap
pengaruh korosi, diantaranya adalah dengan pelapisan. Untuk mengetahui lebih lanjut
bagaimana cara pelapisan logam sebagai proteksi terhadap korosi, maka menulis
merasa perlu mengkaji lebih jauh melalui skripsi ini.
Tabel 2.1
Potensial Elektroda (25oC; larutan mol)
Reaksi setengah
+ 1,50
+ 1,23
+ 1,20
+ 0,80
+ 0,77
+ 0,40
+ 0,34
0,000
- 0,13
- 0,14
- 0,25
- 0,44
- 0,74
-0,76
- 1,66
- 2,36
- 2,71
- 2,92
- 2,96
Potensial elektroda
yang digunakan oleh
ahli Kimia fisika dan
ahli termodinamika*
Katodi
k
(mulia
)
Refere
ns
Anodi
k
(Aktif)
- 1,50
- 1,23
- 1,20
- 0,80
- 0,77
- 0,40
- 0,34
0,000
+ 0,13
+ 0,14
+ 0,25
+ 0,44
+ 0,74
+ 0,76
+ 1,66
+ 2,36
+ 2,71
+ 2,92
+ 2,96
Anoda
(-) : Fe(s)
Katoda
(+) : 2 H2O(l)
Pengendapan
2Fe
(s)
O2 (g)
+ 4e-
+ 2H2O(l) + O2(g)
(aq),
4(OH-)
2Fe2+(aq) + 4OH- (aq)
disebut karat dan akan terbentuk pada besi dengan adanya elektrolit.
Dari tabel di bawah makin ke bawah kedudukannya makin kurang mulia atau
logam berada di bawah menjadi anoda (larut) di banding yang ada di atas. Makin jauh
perbedaan kedudukan kedua logam dalam deret ini makin besar sifat aktifitasnya.
Tabel 2.2
Deret Galvanik Beberapa Paduan
Katodik
Grafit
Perak
Baja 12 % Ni, 18 % Cr, 3 %
Mo - P
Baja 20 % Ni, 25 % Cr - P
Baja 23 30 % Cr P
Baja 14 % Ni, 23 % Cr P
Baja 8 % Ni, 18 % Cr P
Baja 7 % Ni, 17 % Cr P
Baja 16 18 % Cr P
Baja 12 14 % Cr P
Baja 80 % Ni, 20 % Cr P
Inconel P
60 % Ni, 15 % Cr P
Anodik
Nikel P
Logam monel
Tembaga nikel
Nikel perak
Perunggu
Tembaga
Kuningan
80 % Ni, 20 % Cr A
Inconel A
60 % Ni, 15 % Cr A
Nikel A
Timah putih
Timah hitam
Timah patri. Pb Sn
Baja 12 % Ni, 18 % Cr, 3 %
Mo A
Baja 20 % Ni, 25 % Cr - A
Baja 14 % Ni, 23 % Cr - A
Baja 8 % Ni, 18 % Cr - A
Baja 7 % Ni, 17 % Cr - A
Ni resist
Baja 23 30 % Cr - A
Baja 16 - 18 % Cr - A
Baja 12 - 14 % Cr - A
Baja 4 - 6 % Cr A
Besi cor
Baja tembaga
Baja karbon
Paduan aluminium 2017 T
Kadmium
Aluminium, 1100
Seng
Paduan magnesium
Magnesium
(Djafri, 1989: 505)
B. Faktor-faktor Terjadinya Korosi
Di tinjau dari mekanisme korosi dari sudut elektrokimia, pada prinsipnya
korosi terjadi karena,
a. Adanya ketidakhomogenan baik dalam jenis maupun mikro
termasuk ketidakhomogenan dalam beban fisik dan kimia (tegangan,
suhu, konsentrasi oksigen dan sebagainya)
b. Adanya kontak
c. Adanya larutan, air atau embun yang mengandung garam sebagai
elektrolit.
(Wahyudin, 1994: 6)
Marsudi dalam Hand Out Teknik Pelapisan meninjau dari segi material
faktor-faktor yang mempengaruhi kecepatan korosi, adalah:
a. Homogenitas fisik dan kimia
b. Nilai elektro potensial di dalam larutan
c. Kemampuan membentuk lapisan pelindung
d. Hidrogen- over voltage
e. Selain air dan oksigen sebagai elektrolit juga gas pembentuk asam (CO 2, SO2,
NaCl) yang pada musim penghujan atau pada kelembaban tinggi.
proses mengendapkan bahan logam pelapis terhadap bahan yang akan dilapisi
melalui pertukaran elektron secara konduktif melalui proses oksidasi-reduksi.
Jenis-jenis proses pelapisan listrik menurut Hartomo dalam bukunya
Mengenal Pelapisan Logam (Elektroplating),(1999), di kenal antara lain:
1). pelapisan cadmium
2). pelapisan seng
3). pelapisan tembaga
4). pelapisan nikel
5). pelapisan khrom
6). pelapisan timah
7). pelapian timbal
8). pelapisan perak
9). pelapisan emas
10). pelapisan rodium
11). pelapisan kuningan
12). pelapisan brons
13). pelapisan logam pada plastik
Proses pelapisan listrik ini telah memberikan dampak yang cukup besar pada
penghematan pemakaian logam, serta dapat memberikan alternatif pemakaian
bahan yang lebih murah.
2. Galvanisasi
Proses galvanisasi sebenarnya hampir sama dengan proses elektroplating,
hanya saja pada proses galvanisasi tidak terjadi perpindahan elektron tapi terjadi
10
11
sedikit ke dalam suatu zat koroden (lingkungan yang korosif), dapat secara efektif
memperlambat atau mengurangi laju pengkorosian yang ada. Ada beberapa jenis
inhibitor, yaitu:
a. Inhibitor pemasif (passivating inhibitor)
b. Inhibitor katodik (catodic inhibitor)
c. Inhibitor organis (organic inhibitor)
d. Inhibitor penyebab pengendapan (preccipitate inducing inhibitor)
e. Inhibitor berbentuk uap (Vapor phase inhibitor)
12
13
a.
b.
c.
d.
e.
D. Proses Elektrolisa
Elektrolisa adalah suatu proses di mana reaksi kimia terjadi pada elektroda
yang tercelup dalam elektrolit, ketika tegangan diterapkan pada elektroda itu.
Elektroda yang hanya mentransfer elektron ke atau dari larutan, seperti platina
disebut elektroda inert. Elektroda reaktif adalah elektroda yang secara kimia
memasuki elektroda. Selama proses elektrolisa terjadi reduksi pada katoda dan
oksidasi pada anoda.
Prinsip dasar elektrolisis berlawanan dengan sel elektrokimia, yaitu sebagai
berikut.
a. Proses elektrolisis, mengubah energi listrik menjadi energi kimia
b. Merupakan reaksi tidak spontan karena melibatkan energi listrik dari
luar
c. Reaksi berlangsung di dalam sel elektrolisa, yang terdiri dari satu
jenis larutan atau leburan elektrolit dan memiliki dua macam
elektroda, yaitu:
Elektroda (-) : elektroda yang dihubungkan dengan kutub negatif
(-) sumber arus listrik
Elektroda (+) : elektroda yang dihubungkan dengan kutub
positif (+) sumber arus listrik.
(Kuswati,2000: 111)
Penggunaan elektrolisis dalam industri diantaranya untuk pelapisan logam
yang disebut penyepuhan (elektroplating), misalnya penyepuhan sendok yang dilapisi
14
perak, aksesoris mobil atau sepeda motor dari logam dan sebagainya. Tujuan
pelapisan ini sebagai pelindung (protektif) dan hiasan/ keindahan (dekoratif). Prinsip
penyepuhan logam adalah sebagai berikut.
Katoda
Anoda
: logam penyepuh
15
(1)
(2)
Berat zat hasil elektrolisis baik yang terbentuk di katoda maupun yang
terbentuk di anoda dapat dirumuskan dengan hukum Faraday
W = e . F
(Surakiti, 1989: 224)
di mana
Massa ekivalen (e) suatu zat adalah massa atom dibagi valensi
Ar
Ar = massa atom
v = valensi
e =
v
I X t
F =
96,500
Ar
I.t
W =
V
96,500
(Surakiti, 1989: 225)
Pada reaksi elektrolisa dapat dihasilkan gas yang merupakan molekul sehingga Ar
dalam rumus dapat diganti dengan Mr.
Mr
I.t
W =
V
96,500
16
17
18
emas
dalam
industri
cenderung
meningkat
sehingga
19
Hasil pelapisan vernikel dan verchrom lebih awet, lebih indah, lebih memikat
dan berkilauan, yang biasa dipakai adalah tembaga, nikel serta khrom.
20
1. Tembaga (Cu)
Tembaga mempunyai sifat ulet, lunak, liat, tidak terlalu teroksidasi oleh udara.
Tembaga mempunyai dua macam senyawa yaitu
a. Kupri atau tembaga, hanya larut air bila terkompleks oleh logam seperti,
sianida, amonia, khlorida atau asetonitril.
b. Senyawa tembaga, stabil dalam larutan berair.
Karena bersifat mulia (elektroplating), tembaga mudah diendapkan dengan
deret gaya derek listrik lebih tinggi seperti besi, atau seng.
Alloy utama ialah perunggu (dengan Seng) dan kuningan (timah) Aluminiumkuningan, tembaga-berilium. Plating tembaga mudah, yang penting terjadi
deposif-celup pada logam yang kurang mulia, reaksinya.
Cu+
+ M
Cu +
M+
(Hartomo, 1999: 50)
(%M)
0,46
0,10
0,31
0,13
0,5
60
3-4
500
21
Strike
Rochelle
100-300
100
50-63
2,5
150-600
300
55-70
13
Efisiensi
Tinggi
100-1000
500
63-82
25 lebih
22
mo,
58)
Bak Encer (% M)
0,98
0,02
100
(Harto
1999:
23
b. Rectivier
c. amplere meter
d. kabel-kabel dan penjepit
e. tempat-tempat larutan dari bahan plastik atau gelas
2.
Larutan Pencuci
Menurut Marsudi dalam Hand Out Teknik Pelapisan, mengklasifikasikan
: 30 gr/l
: 15 gr/l
: 1 gr/l
24
air (H2O)
: 54 ml/l
Pelaksanaan pelapisan
Pelaksanaan praktek pelapisan menurut Masudi dalam buku Petunjuk Praktek
25
26
Proses Pelapisan Cu Ni - Cr
Pelapisan logam dengan menggunakan lapis Cu Ni - Cr, langkah prosesnya
Bagan 2.1
Proses Pelapisan Cu-Ni-Cr
Jika diperlukan
(diampelas)
Pekerjaan mekanis
Bilas
Cuci Asam (Pickling)
27
Bahan Alumunium
Bilas
Lapisan Zincate
Lapisan Tembaga
Bilas
Bilas
Lapisan Nikel
Bilas
Lapisan Krom
Bilas
Pengeringan
(Marsudi, 2000: 5)
6. Elektrolit yang digunakan
a. Komposisi larutan pada pelapisan Zincate
1) Zinc Iksid (ZnO)
97,5 gr/liter
: 525 gr/liter
1 gr/liter
10 gr/liter
: 80 gr/l
28
2) Cu(CN)2
: 53 gr/l
3) Liquid CU-60
: 2 ml/liter
: 250 gr/liter
2) NiCl2
: 50 gr/liter
3) H3BO3
: 40 gr/liter
4) Brigtener MU
: 2 ml/liter
5) Brigtener Mnt
: 2 ml/liter
: 250 gr/liter
2) H2SO4
3) Chrom Mist
: seperlunya
2,5 gr/liter
A. Metode Penelitian
Metode yang digunakan dalam hal ini menggunakan penelitian deskriptif.
Metode deskriptif adalah metode yang hakekatnya didasarkan pada faktor yang ada
atau fenomena yang memang secara empiris hidup dalam penurunannya. Pelaksanaan
metode ini tidak hanya terbatas pada pengumpulan data, tetapi juga adanya analisis
interprestasi data.
Tujuannya adalah untuk membuat gambaran atau lukisan secara sistematis,
faktual dan akurat, mengenai fakta, sifat-sifat serta fenomena yang diselidiki. Metode
tersebut sesuai dengan objek yang di teliti dalam penelitian ini yaitu proses pelapisan
29
logam (elektroplating) pada pelapisan dudukan gagang telpon umum di PT. Pindad
Persero.
B. Objek Penelitian
Dalam penelitian ini yang menjadi objek penelitian adalah proses pelapisan
logam (Elektroplating ) pada pelapisan dudukan gagang telpon umum.
C. Prosedur Penelitian
Prosedur pengambilan data ini terbagi atas beberapa tahap, yaitu sebagai
berikut.
1. Tahap persiapan
Dalam tahap persiapan ini, penulis malaksanakan kegiatan ini yang meliputi :
survey tempat dan objek penelitian, pemilihan judul, mengadakan studi, ,
menyusun poposal penelitian dan menyiapkan instrumen penelitian.
2. Tahap pelaksanaan
Pada tahap pelaksanaan ini penulis mengumpulkan data dari observasi
langsung dan wawancara melalui konsultasi dengan pihak yang lebih mengerti
tentang proses elektroplating. Setelah data terkumpul dilakukan penyusunan dan
penganalisaan data.
3. Tahap pelaporan
30
Pada tahap ini, penulis mengadakan penyempurnaan data yang telah disusun
dan dianalisis, setelah sempurna dilanjutkan dengan penyusunan dan penulisan
laporan hasil dari penelitian yang dilakukan.
31
instrumen dan sejumlah pertanyaan yang harus dijawab atau ditanggapi oleh
responden, sedangkan wawancara non struktur adalah dengan melakukan
wawancara secara bebas, tidak terencana dan bersifat spontan.
Teknik wawancara terstruktur dilakukan dengan menggunakan pertanyaan
yang dilakukan dengan menggunakan pertanyaan yang telah di susun terlebih
dahulu sebelum wawancara. Wawancara ini ditujukan kepada Kedepum. Divsin
bertempat di kantor kepala. Sedangkan wawancara non struktur dilakukan di
lapangan saat observasi langsung, secara spontan tanpa menyusun pertanyaan
karena kebanyakan hal yang ditanyakan berhubungan dengan proses kerja
dilapangan atau praktek lapangan. Data hasil wawancara digunakan sebagai data
penunjang untuk skripsi ini.
E. SUMBER DATA
Sumber data yang dimanfaatkan dalam penelitian ini berasal dari bebarapa
pihak, diantaranya.
1.
2.
3.
4.
5.
6.
7.
32
8.
9.
= e . F
(Surakiti, 1989: 224)
Ar
I.t
=
V
96,500
(Surakiti, 1989: 225)
dan perhitungan untuk uji mutu secara analisis kimia atau stripping, yaitu tebal ratarata di hitung dari:
Berat jenis
Volume
=
Berat total benda
Volume
Tebal
=
luas permukaan
(PT. Pindad Persero)
33
2.
3.
Melakukan editing
4.
Mengklasifikasikan
data
atau
koding,
koding
adalah
usaha
6.
34
B. PROSES PELAPISAN
Tahapan proses pelapisan Tembaga Nikel Chrom adalah sebagai berikut.
1. Solvent degrasing
Pada proses ini benda kerja direndam di dalam cairan TCE (Tri Cloro Etilen)
atau dalam wash bensin selama 1 sampai dengan 2 menit. Tujuannya adalah untuk
menghilangkan lemak dari proses machining atau dari proses penyimpanan.
2. Elektro degreasing
Tujuan dari proses ini adalah untuk menghilangkan lemak yang masih
menempel pada benda kerja dengan menggunakan proses elektrolisa. Media yang
digunakan adalah Metal Cleaner dengan komposisi 60 120 gr/liter air,
temperatur 60oC dan voltage 5 6 volt.
3. Pembilasan dengan air mengalir
35
Beralih dari tahap pengerjaan satu ke tahap berikut, atau setelah pencucian,
karena masih ada bahan terdahulu menempel permukaan substrat bahan yang
dielektroplating maka perlu dilakukan pembilasan. Bila tidak dilakukan
pembilasan maka kotoran yang masih menempel pada benda kerja bekas proses
sebelumnya akan terbawa pada proses berikutnya sehingga akan menjadi
pengotor yang akan mempengaruhi pada hasil pelapisan berikutnya.
4. Proses pickling (celup)
Pada proses ini benda kerja dicelup pada larutan HCl 15% volume + korosiv,
pada suhu kamar selama 1 - 15 menit. Tujuan dari proses ini adalah untuk
menghilangkan karat yang menempel pada benda kerja. Proses ini memerlukan
waktu antara 1 - 15 menit. Hal ini disesuaikan dengan luasnya bahan yang
terkena karat, selama luas bahan yang terkena karat maka semakin lama waktu
diperlukan untuk membersihkannya dan begitu sebaliknya.
5. Pembilasan dengan air mengalir
Tujuannya sama dengan di atas.
6. Proses cianida diffing
Pada proses cianida diffing, benda kerja di celup dalam larutan Natrium
Cianida (NaCN) 15 gr/liter selama 1 - 5 menit, pada suhu kamar. Tujuannya
adalah untuk mengaktifkan permukaan yang akan dilapisi dan untuk
menyesuaikan kondisi pada larutan intinya.
7. Pembilasan dengan air mengalir
Tujuannya sama dengan di atas.
8. Proses Cuperplating
36
Tujuannya adalah untuk melapisi benda kerja dengan tembaga. Pada pelapisan
ini yang bertindak sebagai anoda adalah tembaga murni dan katodanya adalah
benda kerja sendiri.
Tabel 4.1
Bak Cuper plating
No.
1.
2.
3.
4.
5.
6.
7.
8.
9.
Bahan-bahan
CuCN
Na(CN)2
NaOH
Temperatur
Arus yang dipakai
Voltage
pH
Waktu proses berlangsung
Luas katoda dan anoda
Ukuran
22 gr/liter
33 gr/liter
15 gr/liter
30 50oC
1 1,5 Amp/dm2
6 volt
12 12,6 (basa)
5 15 menit
1: 2
37
Proses acidiving
Proses acidiving bertujuan untuk mengaktifkan permukaan. Bila tidak di
lakukan maka kemungkinan akan terjadi pecah hasil pelapisan, karena
teroksidasi dengan udara luar. Media yang dipakai dalam proses ini adalah
asam sulfat (H2SO4) 250 gr/liter pada temperatur 40oC dengan waktu 30 detik
sampai dengan 1 menit.
11.
12.
Proses Nikel-plating
Proses ini bertujuan untuk melapisi benda kerja dengan Nikel. Adapun media
yang digunakan adalah sebagai berikut.
Tabel 4.2
Bak Nikel-plating
No.
1.
2.
3.
4.
5.
6.
7.
8.
9.
Bahan-bahan
NiSO4
NiCl
H3BO3
Wetting agent
Brightening Nikel
Temperatur yang digunakan
pH laruta
CD (Current Density)
Luas katoda dan anoda
Ukuran
300 375 gr/liter
60 90 gr/liter
41 45 gr/liter
5 10 cc/liter
2,5 5 cc/liter
66 71oC
4 4,2 (bersifat asam)
6 8 Amp/dm2
1
: 1
38
Waktu yang digunakan untuk pelapisan nikel ini tergantung dari ketebalan
benda kerja yang akan dilapisi. Pengadukan atau agitasi dilakukan dengan
memakai blower udara.
13.
14.
Proses Acidiving
Proses ini bertujuan sama seperti di atas yaitu untuk mengaktifkan permukaan
agar tidak terjadi pecah hasil lapisan. Media yang digunakan biasa berupa
larutan HCl 15% atau larutan H2SO4 250 gr/liter. Untuk HCl temperaturnya
berada pada suhu kamar, sedangkan H2SO4 temperaturnya 40oC. Waktu yang
diperlukan untuk proses acidiving ini berkisar antara 20 detik 1 menit.
15.
16.
Bahan-bahan
CrO3
H2SO4
Temperatur
Ukuran
250 350 gr/liter
1 : 100
45 60 C
39
4.
5.
6.
17.
Ampere (CD)
Waktu yang digunakan
Luas katoda dan anoda
40 55 Amp/dm
1 5 Menit
1 : 1
18.
Pengeringan
Pengeringan ini biasanya dimasukkan ke dalam oven atau biasa juga di lap.
20.
Pemeriksaan
Proses pemeriksaan hasil lapisan dapat dilakukan secara visual (QA) atau
C. JENIS PELAPIS
Jenis pelapis yang di pakai untuk pelapisan dudukan gagang telepon dengan
menggunakan proses pelapisan Tembaga - Nikel Krom adalah sebagai berikut.
1. Proses pelapisan tembaga
Jenis pelapis yang digunakan adalah cuper murni yang bertindak sebagai
anoda (+) dan benda kerja (dudukan gagang telepon ) sebagaii katoda (-). Proses
cuper-platirng ini diperlukan sebagai proses pelapisan dasar dan bertujuan untuk
40
menambah kekuatan hasil pelapisan. Sebenarnya proses ini biasa saja tidak
dilakukan atau diabaikan seandainya kita hanya memikirkan kepentingan
dekoratif saja tanpa memikirkan kekuatan (umur pakai) dari benda kerja tersebut.
2. Proses pelapisan Nikel
Untuk proses pelapisan nikel, pelapis yang digunakan adalah nikel murni
yang bertindak sebagai anoda (+) dan dudukan gagang telepon sebagai katoda (-).
3.
yang merupakan anoda (+) dan benda kerja sebagai katoda (-).
41
Troli
Troli ini berfungsi sebagai alat Bantu untuk memindahkan benda kerja dari
3.
Rectivier
Rectivier berfungsi sebagai penyearah arus dari arus bolak-balik (AC) di ubah
menjadi arus searah (DC).
4.
Kabel-kabel
Alat penjepit ini berfungsi memegang atau menjepit benda kerja yang akan
dilapisi.
42
43
44
C. Perhitungan
Dalam perhitungan ini, di hitung berat endapan pelapis rata-rata dan tebal
lapisan rata-rata. Nilai-nilai farameter di ambil nilai tengahnya saja misalnya pada
cuper-plating, misalnya rapat arus 1 5 Amp/dm2, maka diambil 3 Amp/dm2.
Perhitungan luas permukaan benda terdapat pada Lampiran V.
45
Valensi = 2
Ar
v
63,54
=
31,77
2
I
F
=
96,500
1,25
600
=
96,500
0,00777 C/dm2
=
Berat endapan Cu tiap dm.
W
31,77
0,00777
0,2468 gram
Wtot
0,7518
0,1855 gram
0,2468
46
Tebal pelapisan
Berat
Volume
=
Berat jenis
0,1855
=
=
8,94
0,02075 dm2
Volume
Tebal pelapisan
=
Luas permukaan
0,02075
=
=
0,7518
0,0276 dm
Valensi = 2
Ar
e
=
V
58,81
=
= 29,405
2
47
i
F
=
96,500
7
900
=
96,500
=
0,06528 C/dm2
29,405
1,9196 gram
0,06528
=
=
0,7518
1,9196
1,4432 gram
=
Berat jenis
1,4432
=
=
8,9
volume
Tebal pelapisan
=
Luas pemukaan
0,1622
=
0,7518
0,1622 dm3
48
0,2157 dm
e
x
Ar
Valensi = 2
V
54,938
=
27,469
2
I
F
=
96,500
47,5
180
=
96,500
=
0,0886
C/dm2
27,469
2,4338 gram
0,0886
0,7518 x 2,4338
49
1,8297 gram
=
Berat jenis
1,8297
=
0,2545 dm3
0,3385 dm
7,19
volume
Tebal pelapisan
=
Luas permukaan
0,2545
=
0,7518
A. Simpulan
Berdasarkan hasil observasi dan pembahasan yang telah dilakukan terhadap
sistem proteksi korosi pada pelapisan dudukan gagang telepon umum dengan proses
pelapisan logam (elektro-plating), maka di peroleh beberapa kesimpulan sebagai
berikut.
1. Proses pelapisan yang digunakan pada pelapisan dudukan gagang telepon
umum di PT. Pindad Persero Bandung menggunakan pelapisan Cu Ni Cr.
50
B. Saran
Setelah melalui proses yang panjang dimulai dari awal penelitian hingga akhir
penelitian, maka kiranya penulis ingin memberikan saran-saran yang berhubungan
dengan kejadian selama penelitian.
1.
Untuk memperoleh hasil pelapisan yang berkualitas perlu adanya kontrol yang
baik terhadap tahapan proses pembuatannya.
2.
Pada proses pemeriksaan cacat dan tebal hasil pelapisan diambil sample dari tiap
produksi untuk mengurangi biaya.
3.
51
52
53
LAMPIRAN II
BENDA KERJA
PROSES AMPELAS
PROSES ROTOFINISHING
PROSES BLASTING
PROSES PENYIKATAN
SIAP DILAPISI
54
LAMPIRAN III
DIAGRAM PROSES PELAPISAN
BENDA KERJA
SOLVEN DEGRADASING
ELEKTRO DEGRADASING
PEMBILASAN
PICKLING
PEMBILASAN
CIANIDA DIFFING
PEMBILASAN
CUPER PLATING
PEMBILASAN
55
ACIDIVING
PEMBILASAN
NIKEL PLATING
PEMBILASAN
ACIDIVING
PEMBILASAN
CHROM PLATING
PEMBILASAN 2*
PENGERINGAN
PEMERIKSAAN
56
LAMPIRAN V
PERHITUNGAN LUAS PERMUKAAN BENDA KERJA
A. Komponen I
1. Luas lingkaran
(depan + blk)
2. Luas segi empat
= /4 ( D22 D12)
= 3,14 (742 - 482)
= 2490,02 mm2
= 2 (15 x 13)
= 390 mm2
= 5 x 13
= 65 mm2
= 2 ( 5 x 15 )
= 150 mm2
(depan + blk)
3. Luas segi empat
(bawah)
4. Luas sehi empat
(kiri + kanan)
5. Luas selimut
K1 =
x D1 x L
= 3,14 x 74 x 5
6. Luas selimut
K2 = x D2 x L
= 3,14 x 74 x 5
** Luas komponen
= 753,6 mm2
= 1161,8 mm2
mm2
=
5010,42 mm2
57
B. Komponen II
1. Luas segi empat
= 2 x 96 x 8
= 1536 mm2
(depan + belakang)
= 0,5 x 18 x 3
= 27 mm2
- Luas segitiga b
= 0,5 x 3 x 3
= 4,5 mm2
- Luas segitiga c
= 0,5 x 34 x 3
= 51 mm2
- Luas segitiga d
= 0,5 x 3 x 3
= 4,5 mm2
- Luas lingkaran a
= 3,14/4 x 52
= 19,625 mm2
- Luas lingkaran b
= 3,14 x 22
= 12,26 mm2
= 2 x 5 x 96
= 960 mm2
= 5x8
= 40 mm2
(atas = bawah)
3. Luas segi empat
(samping)
** Luas komponen II
= ( 1416,815 + 960 + 40 )
58
= 2416,815 mm2
luas ini akan dipakai dalam perhitungan berat endapan dan tebal
pelapisan.
LAMPIRAN VI
SKEMA
PROSES PELAPISAN
59
bilas dengan
air bersih
Trafo
\Ampere
Rectifier
Proses Pelapisan
Keringkan
LAMPIRAN IV
60
61
B. Cacat memanjang
Layar CRT
100%
d2
d1
50%
Gelombang ultrasonic di terima dan
dipantulkan kembali, maka terjadi
cacat memanjang.
C. Cacat sebagian
Layar CRT
100%
dd12
50%
0
D. Cacat sebagian
Layar CRT
100%
d2
62
d1
50%
0
Layar CRT
100%
50%
0
63
ANGLE GLOBE
d
tS1
S2
100%
50%
0
64
100%
t
50%