adalah dengan mencuci dalam air hangat dan dengan menggunakan bantuan

deterjen namun cemaran masih terdapat cemaran mikroba yang disebabkan

kurang sterilnya sistem penyimpanan baju tersebut. Salah satu penggunaan untuk
menunjang sistem steril adalah dengan melapisi Titanium dioksida (Ti02) yang
mempunyai kemampuan antimilcroba yang dimiliki dalam proses fotokatalisis.
Sehingga dapat mengurangi cemaran mikroba yang dapat dihasilkan dalam proses
produksi.

Tujuan dari percobaan ini adalah mengoptimasi pelapisan film ke nilon

yang kita ketahui mempunyai ketahanan terhadap panas yang sangat rendah.
Fotokatalisis Titanium dioksida (Ti02) sangat dipengaruhi oleh ukuran, porositas
dan struktur film pada permukaan tekstil. Suhu yang rendah dapat menyebabkan
kristalisasi Titanium dioksida (Ti02) tidak terbentuk yang menyebabkan kurang
alctifnya sistem fotokatalisis.

Beberapa cara sudah dikembangkan untuk melapisi film Titanium dioksida

(Ti02) pada tekstil dan bersuhu rendah seperti yang dilakukan Yuranova et al.,
mensintesis film TiO2 dengan menggunakan prekursor titanium isopropoksid
(TTIP) dan ditambahkan asam cuka, diaduk dengan magnetic stirrer sembari
ditambahkan asam nitrat dan dipanaskan hingga 80 °C selama 30 menit. Hasil
koloid tetap diaduk dengan magnetic stirrer selama dua jam. Kemudian dicampur
dengan koloid Si02 dengan perbandingan 1:1 untuk membuat campuran koloid.
Kemudian substrat pada percobaan ini adalah katun diaduk bersama campuran
koloid TiO2 — Si02 dan dikeringkan diudara dan dipanaskan pada suhu 100°C