Toyota Diffusion Process

Toyota Diffusion Process atau lebih dikenal dengan TD Process adalah teknik perlakuan
pelapisan permukaan yang dikembangkan oleh Toyota Central Research development
laboratories, inc di Jepang. Proses pelapisan tersebut menghasilkan lapisan tipis, keras dan
seragam pada permukaan baja. Bahan yang digunakan pada pembentukan lapisan TD adalah V,
Nb, Ta, Ti, W, Mo, Cr, dan lain-lain sebagai bahan adiktif utama dan borak sebagai pereduksi
tetapi yang sering digunakan adalah campuran vanadium (v) dan borak. Keduanya dicampur dan
dipanaskan dalam tungku pada suhu 950-1050C.
Baja (material) direndam dalam tungku yang terisi campuran vanadium dan borak (salt bath)
pada suhu 950-1050C. Karbon pada material akan bereaksi dengan vanadium yang ada pada salt
bath dan kemudian membentuk lapisan vanadium carbide pada permukaan material seperti yang
ditunjukan pada Gambar 2.2. Lapisan yang terbentuk pada TD Process merupakan lapisan
terkeras diantara lapisan yang dihasilkan dari proses pelapisan yang lain seperti

niobium

karbida (NbC), kromium karbida (Cr-C),dan lain-lain, tetapi karbida vanadium (VC) yang paling
banyak digunakan di antara lainnya. Kekerasan lapisan TD yang terbentuk dapat mencapai 3000
HV .

Metode pelapisan TD Process

Lapisan karbida dibentuk dengan merendamkan material ke dalam salt bath (campuran
vanadium dan boraks) yang menyatu dan diatur dalam furnace seperti yang ditunjukkan pada
Gambar 2.3 pada suhu dari 800 sampai 1.050 C selama 10 jam [2]. Karbon pada material akan
bereaksi dengan vanadium pada salth bath dan membentuk lapisan vanadium carbide pada
permukaan material. Setelah itu material diquenching dan diproses lanjut untuk pengerasan dan
tempering.

Alur pengerjaan TD Process

Alur pengerjaan TD Process harus dilakukan dengan urut agar didapatkan lapisan TD
yang baik. Berikut adalah alur pengerjaan dari TD Process :
1.
2.
3.
4.
5.
6.
7.

Persiapan dan setting material pada jig.

Preheating pada temperatur 400C-600Cselama 2 jam.
Heating pada temperatur 1050Cselama 10 jam.
Quenching dengan menggunakan N2.
Tempering pada suhu 180 Cselama 4-5 jam.
Washing dengan menggunakan air bertemperatur 70Cdan 27C.
Polishing untuk untuk memperoleh permukaan sampel yang halus bebas goresan dan
mengkilap seperti cermin.
Keuntungan dari TD Process
TD Process merupakan teknik pelapisan permukaan yang paing baik dan menguntungkan
diantara teknik pelapisan permukaan yang lain. Berikut ini adalah beberapa keuntungan dari TD
Process:

1.
2.

Lapisan yang terbentuk seragam.

Proses polishing tidak terlalu sulit.

3.
4.
5.

Proses mudah dilakukan.

Ketahanan korosi yang tinggi pada lapisan.
Pembentukan lapisan dapat mencapai bentuk bentuk yang sulit atau komplek.
Aplikasi dari TD Process
Lapisan TD yang terbentuk memiliki beberapa kelebihan dibandingkan pelapisan
permukaan yang lain sehingga proses pelapisan ini sering digunakan dalam bebrapa aplikasi
dalam dunia indutri. Berikut ini adalah beberapa penerapan pada TD Process:

1.
2.
3.
4.
5.
6.
7.
8.

Blangking dies
Core pins
Drawing dies
Swaging dies
Flange dies
Notch dies
Forming punches
Cold forging dies