Cold Plasma :

Cold Plasma digunakan untuk peralatan industri dan peralatan sehari-

hari,
ini tidak melibatkan temperatur "real" yang tinggi seperti di atas,
umumnya pada lingkungan suhu ruang biasa. Ini digunakan misalnya :

proses industri semikonduktor dan optik: untuk membuat lapisan

tipis (thin film) di atas permukaan substrat. e.g. lapisan
interkoneksi pada chip silikon, lapisan antipantul pada lensa,
lapisan logam pemantul pada CD-ROM, dsb. dsb.

untuk display device, sebagai alternatif dari LED dan LCD misalnya.
>
Pada buku berjudul "Cold Plasma" di atas memang disebutkan secara
eksplisit, bahwa Plasma adalah wujud zat ke-empat, dan dibedakan
berdasarnya tingkat "suhu elektron" (apakah ini mewakili energi
kinetik elektron? dinyatakan dalam satuan electron volt <eV> ? ):

--------------------------------------------------------------------
wujud zat Suhu / energi kinetik elektron (eV) /state of
matters
--------------------------------------------------------------------

1. Zat Padat rendah

2. Zat Cair sedang
3. Gas sedang-tinggi
4. Plasma (Cold) tinggi
(Hot) sangat-tinggi
---------------------------------------------------------------------

Pengertian saya mengenai Cold Plasma : suatu "entitas" terdiri dari

gas
yang terionisasi, tersusun dari gugus-gugus atom/molekul ynag netral,
ion, dan elektron. Dalam alat plasma (buatan manusia), ini dibangkitkan
di dalam suatu lingkungan yang terwadah (container). Gas tersebut
di ionisasi oleh medan listrik (bisa DC bisa AC), misalnya dengan
memberi tegangan (DC atau AC, typically 100V - 1000V) di antara
2 plat/elektroda sejajar (boleh juga tidak sejajar) di dalam ruang
yang divakumkan (tekanan udaranya rendah). Salah satu syarat terjadinya
plasma (dengan kata lain, syarat agar "state gas sebagai plasma"
tersebut
tercapai, maka tekanan di dalam ruang/chamber harus cukup rendah, agar
panjang lintasan bebas rata-rata / mean free-path partikel di dalam nya
cukup panjang / peluang terjadinya tumbukan antar partikel rendah).
kondisi "vakum" ini di capai dengan mengosongkan udara di dalam bejana
menggunakan berbagai jenis (dan kelas) pompa vakum.

Di Indonesia saya kira sudah banyak peralatan proses plasma : di

industri
(mungkin industri lensa kacamata), dan di universitas-universitas serta
lembaga penelitian : UI, ITB, UGM (?), LIPI, Batan, etc. etc. ).
Tim kami di Bandung juga sudah seringkali menggunakan alat plasma
untuk pembuatan divais semikonduktor. Beberapa rekan Indonesia di milis
ini bahkan sudah berpengalaman merancang dan membuat sendiri peralatan
proses Cold Plasma yang canggih) di Indonesia (bukan di luar negeri
lho).

Gas yang sering digunakan sebagai plasma di dalam peralatan proses

lapisan tipis (semikonduktor/optik), misalnya : Ar, O2, gas sejenis
Freon (umumnya mengandung Halogen : F, Cl, dan CH4).