Eliminasi
Eliminasi
Mekanisme:
2. Bila substrat merupakan halida sekunder, basa kuat akan menghasilkan produk E2 lebih
banyak daripada produk S N2
3. Bila substrat merupakan halida tersier, efek sterik sangat besar, sehingga reaksi S N2 tidak
berlangsung. Reaksi menghasilkan produk eliminasi dengan jumlah besar. Reaksi substitusi
yang dapat berlangsung adalah reaksi dengan mekanisme S N1.
4. Selain dengan menggunakan substrat yang efek steriknya besar, peningkatan jumlah produk
eliminasi dapat pula dilakukan dengan melangsungkan reaksi pada temperatur tinggi
6. Basa kuat yang polarizabilitasnya kecil (misalnya ion hidroksida, ion amida, ion alkoksida
terutama yang meruah) meningkatkan reaksi eliminasi (E2). Basa lemah (misalnya ion
klorida atau asetat) atau basa lemah yang polarizabilitasnya besar (misalnya ion bromida,
iodida, atau ion RS-) meningkatkan reaksi substitusi (SN2)
2. Reaksi E1 dan E2 dapat dibedakan dari kekuatan basa yang digunakan. Pada reksi
dengan mekanisme E1, basa tidak terlibat dalam tahap penentu laju. Karena itu, reaksi
E1 memerlukan basa lemah. Pada mekanisme reaksi E2 basa terlibat dalam tahap
penentu laju. Karena itu, reaksi E2 memerlukan basa kuat
1. nukleofil yang baik tetapi merupakan basa lemah, reaksi substitusi lebih cepat daripada reaksi
eliminasi
2. basa meruah bukan nukleofil, reaksi eliminasi berlangsung lebih cepat daripada reaksi substitusi
3. alkil halida tersier sebagai substrat, reaksi akan berlangsung dengan mekanisme S N1, E1 atau E2
a. nukleofil kuat, reaksi yang berlangsung adalah reaksi substitusi dengan mekanisme S N2
5. alkil halida sekunder, reaksi berlangsung dengan mekanisme S N1, SN2, E1 atau E2