PEMBAHASAN BASIC PROCESS

CONTROL UNIT (BPCU)

PRAKTIKUM SIMULASI PROSES

Dosen pengampu: Ari Susanti S.T, M.T.

Disusun oleh:

Naufal Fadhila

2141420029

Kelas 3A-D4

PROGRAM STUDI D-IV TEKNOLOGI KIMIA INDUSTRI

JURUSAN TEKNIK KIMIA

POLITEKNIK NEGERI MALANG

2023
Unit pengendali proses adalah suatu unit yang berfungsi untuk mengendalikan
parameter dalam suatu proses yang sedang berlangsung agar hasil dari proses sesuai
dengan yang dikehendaki. Sebuah proses memiliki tiga elemen dasar, yakni control
element, correction element, dan proses. Di dalam proses itu sendiri unit pengendali
secara umum tersusun atas sebuah sensor, controller, aktuator (Final Control
Element) (Bolton, 2021).

Pada praktikum kali ini dilakukan pengendalian suhu dalam small process vessel
dengan menggunakan variabel pengendali berupa heater yang mampu bekerja dengan
kondisi ON/OFF, sedangkan variabel yang dijadikan sebagai disturbance adalah laju
alir air dingin yang masuk ke dalam coil melalui Proportional Solenoid Valve (PSV).
Nilai bukaan dari hot pump dan PSV dijadikan sebagai variabel yang divariasikan,
dengan variasi hot pump dan PSV secara berturut-turut adalah 55%;80% dan
30%;75%.

Pada unit BPCU temperature control juga terdapat beberapa sensor suhu yang
digunakan untuk mengukur suhu pada beberapa titik, dimana T 1 merupakan sensor
yang digunakan untuk mengukur suhu pada small process vessel, T2 untuk mengukur
suhu air dingin yang keluar dari coil, dan T 3 untuk mengukur suhu air dingin yang
masuk ke dalam coil.

Hot pump atau pompa panas adalah suatu unit yang digunakan untuk menyirkulasikan
fluida panas/dingin untuk dialirkan sebagai media penukar panas, media yang
disirkulasikan bisa berupa media pemanas atau pendingin (Kusnandar, 2016). Pada
praktikum kali ini, hot pump digunakan untuk menyirkulasikan air di dalam small
process vessel untuk diresirkulasi ke dalam tangki sehingga ketinggiannyastabil.

Hasil percobaan yang didapatkan kali ini seperti yang bisa dilihat pada gambar 2 dan
3 di bagian lampiran, suhu pada variabel hot pump 55% lebih stabil pada set point
(60°C) dibandingkan dengan pada variabel hot pump 80% (82°C). Pada percobaan
dengan variabel hot pump 80% dapat diketahui bahwa suhu dalam small process
vessel tidak pernah menyentuh set point meskipun heater (MV) terus berada dalam
posisi ON. Hal ini kemungkinan besar diakibatkan oleh pengaturan set point yang
terlalu tinggi melampaui kapasitsas dari alat itu sendiri sehingga mengakibatkan suhu
di dalam small process vessel tidak bisa meningkat /stagnan meskipun heater sudah
dinyalakan.
 LAMPIRAN

Gambar 1. Percobaan dengan Hot Pump 55%

 Hot Pump 55%
70.0

60.0

50.0
Temperatur (°C)

40.0 T1
T2
30.0 T3

20.0

10.0

0.0
00:00 00:43 01:26 02:09 02:52 03:36 04:19 05:02 05:45 06:28
Waktu (detik)

Gambar 2. Hot Pump 55%

Gambar 3. Tabel Hot Pump 80%
 Hot Pump 80%
80.0

70.0

60.0

50.0
Temperatur (°C)

T1
40.0 T2
T3
30.0

20.0

10.0

0.0
00:00 01:26 02:52 04:19 05:45 07:12 08:38 10:04

Waktu (detik)