Anda di halaman 1dari 38

LABORATORIUM KIMIA FISIKA

Percobaan Kelompok

: PELAPISAN LOGAM : III A

Nama : 1. M. Bayu Prasetyo 2. Vonindya Khoirun N.M. 3. Maulana Adi W.

NRP. NRP. NRP.

2313 030 049 2313 030 021 2313 030 025

Tanggal Percobaan Tanggal Penyerahan Dosen Pembimbing Asisten Laboratorium

: 30 September 2013 : 01 Oktober 2013 : Nurlaili Humaidah, S.T., M.T. : Dhaniar Rulandri W.

PROGRAM STUDI D3 TEKNIK KIMIA FAKULTAS TEKNOLOGI INDUSTRI INSTITUT TEKNOLOGI SEPULUH NOPEMBER SURABAYA 2013

ABSTRAK
Tujuan melakukan percobaan ini adalah untuk melapisi logam besi (Fe) yang mudah mengalami korosi dengan logam tembaga (Cu) menggunakan metode elektroplating, sehingga dapat meningkatkan ketahanan produk terhadap gesekan dan dapat memperbaiki penampilan. Prosedur percobaan ini dimulai dengan membersihkan lempengan besi dengan menggunakan larutan HCl pekat. Menimbang lempengan besi dengan menggunakan neraca elektrik untuk mengetahui berat mula-mulanya (Wo). Menuangkan larutan CuSO4 0,3 N pada suatu wadah. Mencelupkan lempengan besi dan tembaga pada wadah yang telah berisi larutan CuSO4. Menghubungkan lempengan besi dan tembaga ke amperemeter pada variabel kuat arus 100 mA, 300mA, 500 mA. Menghitung dengan stopwatch untuk reaksi selama 5 menit. Menimbang lempengan besi dengan menggunakan neraca elektrik untuk mengetahui berat akhir (W). Mengulangi langkahlangkah tersebut sesuai dengan variabel waktu yang telah ditentukan dan dengan larutan CuSO4 dengan konsentrasi yang berbeda.. Dari hasil percobaan yang telah dilakukan menyatakan bahwa proses elektroplating menghasilkan peningkatan berat pada logam yang dilapisi atau yang kali ini digunakan adalah logam besi. Kondisi optimum pelapisan logam besi terjadi pada arus 500mA pada menit ke 25 dengan berat 17,5 gram dan 300 mA pada menit ke 25 dengan berat 18,5 gram. Sedangkan kondisi minimum terjadi pada penggunaan arus listrik 300 mA yaitu pada menit ke 5 dengan berat 16 gram. Pertambahan berat logam pada kondisi optimum terjadi pada menit ke 25 dengan penambahan berat logam yaitu 2 gram. Sedangkan pada kondisi minimum tidak terjadi penambahan berat yaitu pada arus 300mA pada menit ke 5. Kata kunci : pelapisan logam, reaksi redoks, elektroda

DAFTAR ISI

ABSTRAK ...................................................................................................................... . i DAFTAR ISI .................................................................................................................... ii DAFTAR GAMBAR ....................................................................................................... iii DAFTAR TABEL ............................................................................................................ iv DAFTAR GRAFIK .......................................................................................................... v BAB I PENDAHULUAN I.1 Latar Belakang ............................................................................................... I-1 I.2 Rumusan Masalah ........................................................................................... I-1 I.3 Tujuan Percobaan ........................................................................................... I-2 BAB II TINJAUAN PUSTAKA II.1 Dasar Teori ..................................................................................................... II-1 BAB III METODOLOGI PERCOBAAN III.1 Variabel Percobaan ...................................................................................... III-1 III.2 Bahan yang Digunakan ................................................................................ III-1 III.3 Alat yang Digunakan ................................................................................... III-1 III.4 Prosedur Percobaan ...................................................................................... III-1 III.5 Diagram Alir Percobaan .............................................................................. III-2 III.6 Gambar Alat Percobaan ............................................................................... III-4 BAB IV HASIL PERCOBAAN DAN PEMBAHASAN IV.1 Hasil Percobaan ........................................................................................... IV-1 IV.2 Pembahasan ................................................................................................. IV-1 BAB V KESIMPULAN ................................................................................................... V- 1 DAFTAR PUSTAKA ...................................................................................................... vi DAFTAR NOTASI .......................................................................................................... vii APENDIKS ...................................................................................................................... viii LAMPIRAN Laporan sementara Fotokopi Referensi Lembar revisi

ii

DAFTAR GAMBAR

Gambar II.1 Proses Electroplating .................................................................................. . II-2 Gambar II.2 Skema Pelapisan Logam ............................................................................ . II-7 Gambar III.1 Gambar Alat Percobaan ............................................................................ . III-4

iii

DAFTAR TABEL

Tabel IV.1 Pelapisan Logam 100 A (I) konsentrasi CuSO4 0,5 N .................................. . III-1 Tabel IV.2 Pelapisan Logam 300 A (I) konsentrasi CuSO4 0,5 N .................................. . III-2 Tabel IV.3 Pelapisan logam 100 A (I) konsenstrasi CusO4 0,3N .................................... . III-3 Tabel IV.4 Pelapisan logam 500 A (I) Konsentrasi CuSO4 0,5 N ................................... . III-4

iv

DAFTAR GRAFIK

Grafik IV.1 Pelapisan Logam 100 A (I) konsentrasi CuSO4 0,5 N ................................. . III-1 Grafik IV.2 Pelapisan Logam 300 A (I) konsentrasi CuSO4 0,5 N ................................. . III-2 Grafik IV.3 Pelapisan logam 100 A (I) konsenstrasi CusO4 0,3N................................... . III-3 Grafik IV.4 Pelapisan logam 500 A (I) Konsentrasi CuSO4 0,5 N .................................. . III-4

DAFTAR NOTASI

No 1. 2. 3. 4. 5. 6. 7. 8. 9. 10

Simbol WO Wt N V1 V2 M1 M2 N M BM

Keterangan Berat awal Berat akhir Netrallisasi Volume Awal Volume Akhir Molaritas Awal Molaritas Akhir Mol Massa Berat Molekul

vi

APENDIKS Percobaan I Tabel IV.1 Pelapisan Logam 100 A (I) konsentrasi CuSO4 0,5 N NO t (waktu) Berat pada larutan CuSO4 0.5 N wo 1 2 3 4 5 Percobaan II Tabel IV.2 Pelapisan Logam 300 A (I) konsentrasi CuSO4 0,5 N NO t (waktu) 5 menit 10 menit 15 menit 20 menit 25 menit Berat pada larutan CuSO4 0.5 N wo 16 gram 16 gram 16 gram 16 gram 16 gram wt 16,0 gram 16,5 gram 17 gram 17 gram 18,5 gram 16 16 = 0 gram 16,5 16 = 0,5 gram 17 16 = 1 gram 17 16 = 1 gram 18,5 16 = 2,5 gram W 5 menit 10 menit 15 menit 20 menit 25 menit 16 gram 16 gram 16 gram 16 gram 16 gram wt 17,0 gram 17,5 gram 18,0 gram 18,0 gram 18,0 gram 17 16 = 1 gram 17,5 16 = 1,5 gram 18 16 = 2 gram 18 66 = 2 gram 18 16 = 2 gram W

1 2 3 4 5

Percobaan III Tabel IV.3 Pelapisan logam 100 A (I) konsenstrasi CusO4 0,3N NO t (waktu) 5 menit 10 menit 15 menit 20 menit 25 menit Berat pada larutan CuSO4 0.3 N wom 16 gram 16 gram 16 gram 16 gram 16 gram wt 16,5 gram 17 gram 17 gram 17,5 gram 17,5 gram 16,5 16 = 0,5 gram 17 16 = 1 gram 17 16 = 1 gram 17,5 16 = 1,5 gram 17,5 16 = 1,5 gram W

1 2 3 4 5

vii

Percobaan IV Tabel IV.4 Pelapisan logam 500 A (I) Konsentrasi CuSO4 0,5 N NO t (waktu) 5 menit 10 menit 15 menit 20 menit 25 menit Berat pada larutan CuSO4 0.5 N wom 15 gram 15 gram 15 gram 15 gram 15 gram wt 17 gram 16,5 gram 16,5 gram 17 gram 17,5 gram 17 15 = 2 gram 16,5 15 = 1,5 gram 16,5 15 = 1,5 gram 17 15 = 2 gram 17,5 15 = 2,5 gram W

1 2 3 4 5

viii

BAB I PENDAHULUAN I.1 Latar Belakang Pelapisan logam (metallic coatings) adalah cara yang dilakukan untuk memberikan sifat tertentu pada permukaan logam yang tujuannya agar logam mengalami perbaikan yang lebih baik dari hal struktur, mikro maupun tekanannya. Pada proses pelapisan ini banyak faktor yang mempengaruhi pembentukan pelapisan logam, antara lain pengadukan, rapat arus, temperature, pH larutan elektrolit dan waktu yang digunakan selama proses berlangsung. Praktikum pelapisan logam dilakukan karena bertujuan untuk mengetahui reaksi redoks pada proses sel elektrokimia. Selain merupakan reaksi redoks, pelapisan logam juga bertujuan untuk mengetahui manfaat dari praktikum dari pelapisan logam. Dari praktikum ini dapat diaplikasikan di kehidupan sehari-hari, misalnya untuk pelapisan emas, besi yang digunakan untuk struktur bangunan rumah, dan sebagainya agar tidak mudah mengalami korosi. Dalam praktikum ini, korosi menjadi titik yang penting untuk diadakannya pelapisan logam dimana korosi merupakan proses degradasi, deteorisasi, pengerusakan material yang disebabkan oleh pengaruh lingkungan sekelilingnya. Adapun prosesnya yakni merupakan reaksi redoks antara suatu logam dengan berbagai zat disekelilingnya tersebut. Dalam bahasa sehari-hari korosi disebut dengan perkaratan. Kata korosi berasal dari bahasa latin corrodere yang artinya pengrusakan logam atau perkaratan. Jadi jelas korosi dikenal sangat merugikan. Korosi merupakan sistem termodinamika logam dengan lingkungannya, yang berusaha untuk mencapai kesetimbangan. Sistem ini dikatakan setimbang bila logam telah membentuk oksida atau senyawa kimia lain yang lebih stabil. Pencegahan korosi merupakan salah satu masalah penting dalam ilmu pengetahuan dan teknologi modern. I.2 Rumusan Masalah Bagaimana reaksi redoks yang terjadi pada elektroda? I.3 Tujuan Percobaan Mengamati reaksi redoks pada elektroda.

I-1

BAB II TINJAUAN PUSTAKA


II.1 Dasar Teori Pelapisan adalah suatu cara yang dilakukan untuk memberikan sifat tertentu pada suatu permukaan benda kerja, dimana diharapkan benda tersebut akan mengalami perbaikan dalam hal struktur mikro maupun ketahanannya, dan tidak menutup kemungkinan pada perbaikan terhadap sifat fisiknya. Sementara logam adalah sebuah unsur kimia yang siap dan bisa membentuk ion atau kation dan memiliki ikatan logam. Jadi, dengan demikian pelapisan logam adalah cara yang dilakukan untuk memberikan sifat tertentu pada permukaan logam yang tujuannya agar logam mengalami perbaikan yang lebih baik dari hal struktur mikro maupun tekannanya. Struktur mikro logam merupakan penggabungan dari satu atau lebih struktur kristal. Dalam logam, kristal sering disebut sebagai butiran.Pada umumnya logam terdiri dari banyak kristal (majemuk), walaupun ada diantaranya hanya terdiri dari satu kristal saja (tunggal). Konsep dasar dalam melindungi logam adalah upaya agar tidak terjadi pertukaran ion antara logam dengan lingkungan.Pertukaran ion ini bisa terjadi saat proses perkaratan,dimana terjadi proses oksidasi-reduksi yang membuat sebagian oksigen dari udara larut dalam tetesan air,kemudian mengoksidasi Fe2+menjadi Fe3+ . Fe3+ inilah yang membentuk karat besi. Lapisan metalik merupakan penghalang yang sinambung antara permukaan logam dan lingkungan sekelilingnya. Sifat-sifat ideal bahan pelapis dari logam ini dapat diringkaskan sebagai berikut: 1. Logam pelapis harus jauh lebih tahan terhadap pengaruh lingkungan dibandingkan logam yang dilindungi. 2. Logam pelapis tidak boleh memicu korosi pada logam yang dilindungi senandainya mengalami goresan atau pecah dipermukaannya. 3. Sifat-sifat fisik, seperti kekuatan, keuletan dan kekerasannya, harus cukup memenuhi persyaratan operasional struktur/komponen bersangkutan. 4. Tebal lapisan harus merata dan bebas dari pori-pori (persyaratan ini hampir tidak mungkin terpenuhi).

II-1

II-2 BAB II Tinjauan Pustaka

Gambar II.1 Proses Electroplating Electroplating adalah proses pelapisan logam yang menggunakan prinsip elektrokomia. Dalam metode ini komponen bersama dengan batangan atau lempengan logam yang akan dilapisi, direndam dalam suatu larutan elektrolit yang mengandung garam-garam logam pelapis (chamberlain, 1991:270). Dalam metode ini ada istilah throwing power yang diartikan dengan kemampuan logam penyalut untuk menghasilkan ketebalan merata sejalan dengan terus berubahnya panjang lintasan antara anoda dan permukaan komponen selama pelapisan. Pada electroplating terdapat dua buah elektroda, dimana elekroda yang dihubungkan dengan kutub positif disebut anoda dan elektroda yang dihubungkan dengan kutub negatif disebut katoda. Ciri-ciri dari elektroda tersebut adalah: a. Anoda: 1. Kutub positip 2. Terjadi reaksi oksidasi 3. Terjadi pelepasan elektron keluar sirkuit b. Katoda: 1. Kutub negatif 2. Terjadi reaksi reduksi 3. Menerima elektron dari sirkuit luar Ada dua macam Anoda yang sering digunakan dalam proses electroplating, yaitu anoda larut, yang berarti anoda yang selama proses memberikan ion-ion logamnya kepada katoda sehingga makin lama makin habis terkikis. Contohnya adalah tembaga (Cu), seng (Zn), nikel (Ni), timah putih (Sn), perak (Ag), dll. Dan anda jenis yang kedua adalah anoda yang tidak dapat larut, yang berarti selama proses berlangsung anoda ini tidak terkikis. Contohnya adalah karbon (C), platina (Pt), imah hitam (Pb), dll.

Laboratorium Kimia Fisika Program Studi D3 Teknik Kimia FTI-ITS

II-3 BAB II Tinjauan Pustaka

Sementara katoda adalah logam yang akan dilapisi. Logam-logam dapat disususun dalam suatu deret menurut kenaikan potensial elektrodenya yang disebut Deret Volta. K Ba Ca Na Mg Al Mn Zn Cr Fe Ni Sn Pb H Cu Hg Ag Pt Au Semakin ke kiri posisi logam maka potensial elektodenya makin kecil, yang menyebabkan logam mudah mengalami oksidasi. Sebaliknya, semakin kekanan posisi logam maka potensial elektrodenya makin besar, yang menyebabkan logam sulit mengalami oksidasi melainkan mengalami reduksi. Proses pelapisan elekroplating memiliki kelebihan dan kekurangan dalam

penggunannya. Kelebihannya adalah: a. Temperatur proses rendah, 60-70C b. Ketebalan lapisan mudah dikendalikan c. Permukaan halus dan mengkilap d. Laju pengendapan cepat e. Porositas pada lapisan relatif rendah Kekurangannya adalah: a. Terbatas pada logam dan paduannya b. Perlu perlakuan awal terhadap benda kerja c. Terbatas pada benda kerja yang bersifat konduktur Arus yang digunakan pada proses pelapisan listrik adalah arus searah (DC). Arus ini didapat dari sumber arus seperti dari baterai kering, accumulator, dan DC power supply. Ditinjau dari kestabilan arus yang paling baik adalah DC power supply (catu daya arus searah). Istilah-Istilah dalam Proses Lapis Listrik Seperti pada proses-proses metal finishing lainnya, dalam pelapisan secara listrik (electroplating) banyak istilah-istilah yang digunakan dan perlu diketahui, sehingga dalam penerapannya atau prakteknya tidak akan menemui kesulitan, karena jelas perbedaan satu sama lainnya. Istilah-istilah dalam lapis listrik antara lain : Electroda

Suatu terminal dalam larutan elektrolit yang mana aliran listriknya mengalir ke dan dari nya. Anoda

Elektroda negatif yang padanya terjadi pelepasan ion negatif dan membentuk ion negatif (reaksi oksidasi). Laboratorium Kimia Fisika Program Studi D3 Teknik Kimia FTI-ITS

II-4 BAB II Tinjauan Pustaka

Katoda

Elektorda negatif yang padanya terjadi pelepasan ion Negatif dan membentuk ion negatif (reaksi reduksi). Elektrolit

Zat-zat yang molekul-molekulnya dapat larut dalam air dan terurai menjadi zat-zat (atomatom) yang bermuatan negatif dan negatif. Ion

Zat-zat yang terurai yang mana atom atau molekul-molekulnya bermuatan listrik negatif dan negatif. Zat yang bermatan negatif disebutanion (ion negatif) dan yang bermuatan Negatif disebut kation (ion negatif). Lumpur anoda

Sisa zat yang tidak larut dihasilkan dianoda dan mengotorinya. Lepuh (blister)

Pembengkakan pada bagian tertentu dari hasil pelapisan karena daya lekat (adhesif) lapisan yang kurang baik. pH

Derajat keasaman suatu asam dalam larutan yang merupakan logaritma dari konsentrasi asam dengan tanda negatif. Inhibitor

Bahan yang dapat mengurangi pemakanan atau pengrusakan oleh asam pada benda kerja. Cuci asam (Pickling)

Suatu cara menghilangkan karat (korosi) pada benda kerja dengan larutan asam. Cuci lemak (Degreasing)

Pembersihan permukaan logam dari lemak, minyak atau zat organik lainnya dengan larutan alkalin. Rapat arus (Current Density)

Jumlah arus yang mengalir perluas unit elektroda. Efisiensi arus (Current Efficiency)

Perbandingan antara jumlah teoritis arus listrik yang akan terpakai dengan jumlah arus listrik yang sebenarnya terpakai. Kerapuhan hidrogen (Hydrogen Embritlement)

Laboratorium Kimia Fisika Program Studi D3 Teknik Kimia FTI-ITS

II-5 BAB II Tinjauan Pustaka

Suatu kegetasan pada benda kerja akibat penyerapan gas hidrogen padaproses pencucian dan pelapisan. Stop of material

Suatu bahan yang berfungsi menutupi hasil pelapisan. Bahan pengkilat (Brightener)

Zat tambahan yang bersifat membentuk lapisan agar lebih mengkilapatau yang memperbaiki kecemerlangan diatas endapan/lapisan. Pengaktifan (Activation)

Pembersihan dari keadaan pasif, pada permukaan logam agar menjadilebih aktif. Polarisasi anodic (Anodic Polarization)

Penggeseran potensial elektroda katodik akibat adanya aliran listrik. Polarisasi katodik (Cathodic Polarization)

Penggeseran potensial elektroda kearah anodic akibat adanya aliranlistrik. Proses elektroles (Electroless Plating)

Pengendapan lapisan logam secara reaksi reduksi tanpa listrik, bertujuanuntu merubah bahan menjadi konduktif. Zat aktif permukaan (Surface active agent/Surfactant)

Zat kimia yang dimasukkan kedalam larutan sebagai zat pengaktip permukaan. Pembilasan (Rinsing)

Suatu busaha pencucian atau penetralan permukaan benda kerja dariasam atau alkali dengan air bersih. Free cyanide

Banyak cyanide yang melebihi dari pada kebutuhan diperlukan untuk mengubah larutan pelapis menjadi seperti logam yang termasuk garam cyanide kompleks. Covering power

Kemampuan suatu elektrolit untuk mengendapkan logam keseluruhpermukaan katoda yang bagimanapun bentuknya. Covering powertergantung pada proses persiapan permukaan dan kondisi dari proseslapis listriknya sendiri. Throwing power

Kemampuan elektrolit untuk menghasilkan lapisan yang sama tebalnyapada benda kerja yang rumit atau biasa. Macro throwing power

Laboratorium Kimia Fisika Program Studi D3 Teknik Kimia FTI-ITS

II-6 BAB II Tinjauan Pustaka

Kemampuan elektrolit untuk menghasilkan endapan yang kurang lebihsama tebalnya pada benda kerja yang tidak beraturan bentuknya. Faktoryang mempengaruhi macro throwing power adalah distribusi arus, kondisioperasi, efisiensi arus dan konduktivtas. Micro throwing power

Kemampuan elektrolit untuk menghasilkan endapan/lapisan yang samatebalnya pada setiap titik permukaan benda kerja. Difusi ion logammerupakan hal yang terpenting bagi micro throwing power. Levelling

Kemampuan untuk menghasilkan lapisan yang lebih tebal pada lekukandari pada permukaan yang rata. Chromat process (Chromating)

Teknik pengerjaan lapis lindung yang dilakuka secra kimia denganmencelupkan benda kerja yang sudah dilapisi seng kedalam larutanencer yang terdiri dari chromat atau bichromat sebagai bahan utama. Solvent cleaning

Suatu cara pembersihan gemuk, lemak dengan menggunakan bahanorganik (pelarut organik).

Skema Proses Pelapisan Logam Perpindahan ion logam dengan bantuan arus listrik melalui larutan elektrolit sehingga ion logam mengendap pada benda padat yang akan dilapisi, ion logam diperoleh dari elektrolit maupun berasal dari pelarut anoda logam di dalam elektrolit. Pengendapan terjadi pada benda kerja yang berlaku sebagai katoda.

Gambar II.2 Skema Pelapisan Logam

Laboratorium Kimia Fisika Program Studi D3 Teknik Kimia FTI-ITS

II-7 BAB II Tinjauan Pustaka

Reaksi kimia yang terjadi pada proses elektroplating dapat dijelaskan sebagai berikut: 1) Pembentukan lapisan nikel (Ni) Ni2+(aq) + 2e 2H+(aq) + 2e O2 (aq) + 2H+(g) Ni(s) H2 (g) H2O (g)

2) Pembentkan gas hidrogen (H)

3) Reduksi oksigen terlarut

Mekanisme terjadinya pelapisan adalah dimulai dari dikelilinginya ion-ion logam oleh molekul-molekul pelarut yang mengalami polarisasi. Didekat permukaan katoda, terbentuk daerah Electrical Double Layer (EDL) yang bertindak seperti lapisan dielektrik. Adanya lapisan EDL memberi beban tambahan bagi ion-ion untuk menembusnya. Dengan gaya dorong beda potensial listrik dan dibantu oleh reaksi-reaksi kimia, ion-ion logam akan menuju permukaan katoda dan menangkap elektron dari sambil mendeposisikan diri dipermukaan katoda. Dalam kondisi equilibrium, setelah ion-ion mengalami discharge menjadi atom-atom kemudian akan menempatkan diri pada permukaan katoda dengan mula-mula menyesuaikan mengikuti susunan atom dari material katoda. Salah satu tujuan plating/pelapisan ialah upaya mencegah korosi. Peristiwa korosi disebabkan oleh reaksi logam dari lingkungannya. 1. Lingkungan berwujud gas, udara dengan rentang temperatur -10C hingga +30C. Beberapa metode yang digunakan untuk mengurangi laju korosi udara bebas adalah: a. b. Menurunkan kelembaban relatif Menghilangkan komponen mudah menguap yang dihasilkan oleh bahan-bahan disekitar. c. d. Mengubah temperatur Menghilangkan kotoran, endapan yang akan membentuk katoda dan ion-ion agresif

2. Bahan terendam di air bebas yang cukup mengandung ion untuk menjadikannya sebuah elektrolit. a. Menurunkan konduktivitas ionik b. Mengubah pH c. Secara homogen mengurangi kandungan oksigen d. Mengubah temperatur Laboratorium Kimia Fisika Program Studi D3 Teknik Kimia FTI-ITS

II-8 BAB II Tinjauan Pustaka

Anode Anode adalah elektrode, bisa berupa logam maupun penghantar listrik lain, pada sel elektrokimia yang terpolarisasi jika arus listrik mengalir ke dalamnya. Arus listrik mengalir berlawanan dengan arah pergerakan elektron. Pada proses elektrokimia, baik sel galvanik (baterai) maupun sel elektrolisis, anode mengalami oksidasi (Wikipedia, Halaman Baca, 2006). Perlu diperhatikan bahwa tidak selalu anion (ion yang bermuatan negatif) bergerak menuju anode, ataupun tidak selalu kation (ion bermuatan positif) akan bergerak menjauhi anode. Pergerakan anion maupun kation menuju atau menjauh dari anode tergantung dari jenis sel elektrokimianya (Wikipedia, Halaman Baca, 2006).

Pada sel galvanik atau pembangkit listrik (baterai), anode adalah kutub negatif. Elektroda akan melepaskan elektron menuju ke sirkuit dan karenanya arus listrik mengalir ke dalam elektrode ini dan menjadikannya anode dan berkutub negatif. Dalam sel galvanik, reaksi oksidasi terjadi secara spontan. Karena terus menerus melepaskan elektron anode cenderung menjadi bermuatan positif dan menarik anion dari larutan (elektrolit) serta menjauhkan kation. Dalam contoh gambar diagram anode seng (Zn) di kanan, anion adalah SO4-2, kation adalah Zn2+ dan ZnSO4 elektrolit.

Pada sel elektrolisis, anode adalah elektrode positif. Arus listrik dari kutub positif sumber tegangan listrik luar (GGL) dialirkan ke elektrode sehingga memaksa elektrode teroksidasi dan melepaskan elektron.

(Wikipedia, Halaman Baca, 2006)

Pada proses pelapisan secara listrik, peranan anoda sangat penting dalam menghasilkan kualitas lapisan. Pengaruh kemurnian atau kebersihan anoda terhadap elektrolit dan penentuan optimalisasi ukuran serta bentuk anoda perlu dipikirkan atau diperhatikan. Dengan perhitungan atau pertimbangan yang cermat dalam menentukan anoda pada proses pelapisan dapat memberikan keuntungan yaitu meningkatkan distribusi endapan, mengurangi kontaminasi larutan, menurunkan biaya bahan kimia yang dipakai, meningkatkan efisiensi produksi dan mengurangi timbulnya masalah-masalah dalam proses pelapisan. Adanya arus listrik yang mengalir melalui larutan elektrolit diantara kedua elektroda, maka pada anoda akan terjadi pelepasan ion logam dan oksigen (reduksi), selanjutnya ion logam tersebut dan gas hidrogen diendapkan pada elerktroda katoda. Peristiwa ini dikenal sebagai proses pelapisan dengan anoda terlarut (soluble anoda), tetapi bila anoda tersebut hanya dipakai sebagai penghantar arus saja (conductor of current), anoda ini disebut anoda tak larut (unsoluble anoda). Dari anoda terlarut akan terbentuk ion logam sewaktu atom logam Laboratorium Kimia Fisika Program Studi D3 Teknik Kimia FTI-ITS

II-9 BAB II Tinjauan Pustaka

dioksidasi dan melepaskan elektron-elektron yang sebanding dengan elektron-elektron dari katoda. Ion logam direduksi kembali secara kontinyu dalam atom logam, selanjutnya diendapkan pada katoda. Anoda tidak larut adalah paduan dari bahan-bahan baja nikel, paduan timbal-tin, karbon, platina-titanium dan lain sebaginya. Anoda ini diutamakan selain sebagai penghantar yang baik juga tidak mudah terkikis oleh larutan dengan atau tanpa aliran listrik. Tujuan dipakainya anoda tidak larut adalah untuk: Mencegah terbentuknya logam yang berlebihan dalam larutan Mengurangi nilai investasi peralatan Menghindari dari kehilangan Kerugian penggunaan anoda tidak larut adalah cenderung teroksidasinya unsur-unsur tertentu dari anoda tersebut kedalam larutan. Oleh karena itu anoda jenis ini tidak bisa digunakan dfalam larutan yang mengandung bahan-bahan organik (organic agent) atau cyanid. Garam logam sering ditambahkan dalam larutan bertujuan untuk menjagakestabilan komposisi larutan dari pengaruh unsur-unsur yang larut dari anoda tidak larut. Bagi industri pelapisan, anoda tidak larut kurang begitu disenangi, mereka lebih menyukai memakai anoda terlarut. Hal ini dikarenakan harga anoda terlarut 2-4 kali lebih murah dibandingkan harga jumlah logam equivalen yang diserap atau diambil dari larutan garam logam. Beberapa kriteria yang perlu diperhatikan dalam memilih anoda terlarutantara lain adalah: Effisiensi anoda yang akan dipakai Jenis larutan elektrolit Kemurnian bahan anoda Bentuk anoda Rapat dan kapasitas arus yang disuplay Cara pembuatan anoda Effisiensi anoda akan turun atau berkurang akibat adanya logam pengotor (metallic impurities) dan kekasaran butiran yang terdapat dalam larutan. Pengotordalam anoda juga dapat menyebabkan terjadi pasivasi dan mengurangi effisiensi anoda secara drastis. Kemurnian anoda terlarut dapat meningkatkan effisiensi anoda, tetapirapat arus yang tinggi pada saat pelapisan berlangsung akan menyebabkan pasivasi pada anoda, sehingga perlu diperhitungkan besarnya rapat arus terhadap luas permukaan anoda. Pada proses lapis listrik yang umum dipakai perbandingan anida dengan katoda adalah 2 : 1, karena kontaminasi

Laboratorium Kimia Fisika Program Studi D3 Teknik Kimia FTI-ITS

II-10 BAB II Tinjauan Pustaka

anoda adalah penyebab atau sumber utama pengotor, maka usahakan penggunaan anoda yang semurni mungkin. Tergantung pada sifat-sifat elektrolit yang diinginkan. Sebagai contoh pelapisan tembaga, larutn yang dipakai dibuat dari garam logam cupper sulfat (CuSO4) dan H2O yang akan terurai seperti berikut : CuSO4 Cu2+ + SO42H2O H+ + OHOleh karena larutan elektrolit selalu mengandung garam dari logam yangakan dilapis. Garam-garam tersebut sebaiknya dipilih yang mudah larut, tetapianionnya tidak mudah tereduksi.Walau anion tidak ikut langsung dalam proses terbentuknya lapisan, tapi jika menempel pada permukaan katoda akan menimbulkan gangguan bagiterbentuknya microstructur lapisan. Kemampuan atau aktivitas dari ion logam ditentukan oleh konsentrasi dari garam logamnya, derajat disosiasi dan konsentrasi unsur-unsur lain yang ada di dalam larutan. Bila konsentrasi logamnya tidak mencukupi untuk diendapkan, akan terjadi endapan atau lapisan yang terbakar pada rapat arus yang relatip rendah. Selain itu, larutan elektrolit harus mempunyai sifat-sifat seperti Covering power, throwing power dan levelling yang baik. Adanya ion klorida dalam larutan yang bersifat asam berfungsi : Mempercepat terkorosi atau terkikisnya anoda atau mencegah pasipasianoda. Menaikkan koefisien difusi dari ion logamnya atau menaikkan batasrapat arus (limiting current density). Sedangkan larutan yang bersifat basa (alkali) yang banyak digunakan padaproses lapis listrik adalah garam komplek cyanida, karena cyanid komplek terekomposisi oleh asam. Fungsi natrium hidroksida dan kalsium hidroksida pada larutan yangbrsifat basa adalah untu memperbaiki konduktivitas dan mencegah leberasi dariasam hydrocyanat oleh karbon dioksida (CO2) yang masuk ke dalam larutan dari udara. Beberapa bahan atau zat kimia sengaja dimasukkan atau ditambahkan kedalam larutan elektrolit bertujuan untuk mendapatkan sifat-sifat lapisan tertentu. Sifat-Sifat tersebut antara lain tampak rupa (appearance), kegetasan lapisan (brittlness), keuletan (ductility), kekerasan (hardness) dan struktur mikro lapisanyang terjadi (microstructur).Untuk mengatur pH, maka ditambah atau dimasukkan unsur yang berfungsi sebagai penyangga (buffer atau pengatur pH), misalnya pada larutan nikel digunakan asam borat dan sodium hidroksida pada larutan yang bersifat basa. Metode-metode Pelapisan dengan Logam Laboratorium Kimia Fisika Program Studi D3 Teknik Kimia FTI-ITS

II-11 BAB II Tinjauan Pustaka

1. Electroplating dengan merendam bagian yang akan dilapisi dalam larutan logam yang akan dilapisi melalui melewati arus searah antara bagian dan elektroda lain. karakter deposito tergantung pada banyak faktor termasuk suhu, densitas arus, waktu, dan komposisi dari sistem. variabel-variabel ini dapat disesuaikan untuk menghasilkan lapisan yang tebal atau tipis, kusam atau cerah, lembut atau keras, dan kuat atau rapuh. Pelapisan keras dimanfaatkan, untuk memerangi korosi erosi. electroplating bisa menjadi logam tunggal, lapisan beberapa logam, atau bahkan komposisi paduan. bumper dari mobil dilengkapi flash plat tembaga. lapisan menengah nikel (untuk perlindungan korosi), dan lapisan atas tipis kromium. sebagian besar logam dapat diterapkan oleh electroplating

Gambar II.1 Proses Electroplating Electroplating adalah proses pelapisan logam yang menggunakan prinsip elektrokomia. Dalam metode ini komponen bersama dengan batangan atau lempengan logam yang akan dilapisi, direndam dalam suatu larutan elektrolit yang mengandung garam-garam logam pelapis. Pada Electroplating terdapat dua buah elektroda, dimana elekroda yang dihubungkan dengan kutub positif disebut anoda dan elektroda yang dihubungkan dengan kutub negatif disebut katoda. Ciri-ciri dari elektroda tersebut adalah: a) Anoda: 1. Kutub positif 2. Terjadi reaksi oksidasi 3. Terjadi pelepasan elektron keluar sirkuit b) Katoda: 1. Kutub negatif 2. Terjadi reaksi reduksi Laboratorium Kimia Fisika Program Studi D3 Teknik Kimia FTI-ITS

II-12 BAB II Tinjauan Pustaka

3. Menerima elektron dari sirkuit luar Ada dua macam Anoda yang sering digunakan dalam proses Electroplating, yaitu anoda larut, yang berarti anoda yang selama proses memberikan ion-ion logamnya kepada katoda sehingga makin lama makin habis terkikis. Contohnya adalah tembaga (Cu), seng (Zn), nikel (Ni), timah putih (Sn), perak (Ag), dll. Dan ada jenis yang kedua adalah anoda yang tidak dapat larut, yang berarti selama proses berlangsung anoda ini tidak terkikis. Contohnya adalah karbon (C), platina (Pt), Timah hitam (Pb), dll. Sementara katoda adalah logam yang akan dilapisi. Logam-logam dapat disusun dalam suatu deret menurut kenaikan potensial elektrodenya yang disebut Deret Volta. K Ba Ca Na Mg Al Mn Zn Cr Fe Ni Sn Pb H Cu Hg Ag Pt Au Semakin ke kiri posisi logam maka potensial elektrodenya makin kecil, yang menyebabkan logam mudah mengalami oksidasi. Sebaliknya, semakin kekanan posisi logam maka potensial elektrodenya makin besar, yang menyebabkan logam sulit mengalami oksidasi melainkan mengalami reduksi. Proses pelapisan Elektroplating memiliki kelebihan dan kekurangan dalam penggunannya. Kelebihannya adalah: 1. Temperatur proses rendah sekitar 60-70C 2. Ketebalan lapisan mudah dikendalikan 3. Permukaan halus dan mengkilap 4. Laju pengendapan cepat 5. Porositas pada lapisan relatif rendah Kekurangannya adalah: 1. Terbatas pada logam dan paduannya 2. Perlu perlakuan awal terhadap benda kerja 3. Terbatas pada benda kerja yang bersifat konduktur

2. Flame Spraying Proses ini juga disebut metallizing, terdiri dari kawat logam atau bubuk melalui api sehingga logam mencair, dalam partikel cairan halus yang terpisah, ditiup

Laboratorium Kimia Fisika Program Studi D3 Teknik Kimia FTI-ITS

II-13 BAB II Tinjauan Pustaka

ke permukaan yang akan dilindungi. oksigen dan asetilen atau propana biasanya digunakan untuk melelehkan. lapisan biasanya berpori dan tidak protektif bawah logam korosif basah parah - seng, timah, dan timbal yang lebih baik dari titik berdiri ini dari baja atau stainless steel. permukaan yang akan disemprot harus yang kasar untuk mendapatkan ikatan mekanik. kadang-kadang lapisan cat diaplikasikan di atas logam membuat dasar yang baik untuk cat sebuah ikatan yang baik. flame spraying adalah cara ekonomis membangun permukaan dikenakan pada bagian-bagian seperti shafting. logam tinggi mencair dapat disimpan oleh plasma-jet penyemprotan 3. Cladding Proses ini melibatkan lapisan permukaan lembaran logam biasanya mengenakan oleh bergulir dua lembaran logam bersama-sama. misalnya, nikel dan lembaran baja bekerja bersama-sama untuk menghasilkan lembaran komposit dengan. mengatakan, 1/8 inci nikel dan 1 inci baja. cladding biasanya tipis dalam kaitannya dengan bahan lain. kekuatan tinggi paduan aluminium sering dilapisi dengan kulit aluminium murni komersial untuk menyediakan penghalang korosi karena paduan rentan terhadap stress korosi. kadang-kadang liner tipis adalah tempat yang dilas ke dinding tangki baja. nikel, aluminium, tembaga, titanium, stainless steel, dan bahan lainnya yang sering digunakan sebagai cladding untuk baja 4. Pengendapan dengan metode uap (Vapor Deposition) Proses ini dilakukan pada ruangan hampa dengan uap temperatur tinggi. Pelapis logam diupakan oleh pemanas elektrik dan pelapis logam akan diendapkan pada bagian yang akan dialpisi, metode pelapisan mengahbiskan biaya yang lebuh mahal daripada metode pelapisan logam yang lainnya. contoh dari pelapisan jenis ini biasanya digunakan pada pelapisan bagian dari kerangka roket. 5. Penyebaran (Diffusion) Pelapisan dengan metode penyebaran melibatkan pemanasan pada bentukan alloy yang kemudian dipanasakan dan disebarkan dari satu alloy ke permukaan logam lainnya yang akan dilapisi. 6. Reaksi Kimia (Chemical Conversion) Pelapisan logam melalui reaksi kimia dilakukan untuk menghindari dari perkaratan corroding pada sebuah permukaan logam. 7. Modifikasi Permukaan (Surface Modification) Laboratorium Kimia Fisika Program Studi D3 Teknik Kimia FTI-ITS

II-14 BAB II Tinjauan Pustaka

Perlakuaan pada permukaan logam untuk pelapisan logam membutuhkan energi langsung guna meningkatkan daya tahan logam tersebut. misalnya saja ingin melapisi logam dengan alloy atau chrom sehingga tahan karat. 8. Penanaman Ion (Ion Implantation) Pengaplikasian penanaman ion pada permukaan logam untuk memodifikasi permukaan logam agar tahan karat.
(Fontana, 1987)

Laboratorium Kimia Fisika Program Studi D3 Teknik Kimia FTI-ITS

BAB III METODOLOGI PERCOBAAN


III.1 Variabel Percobaan III.1.1 Variabel Bebas : Waktu Kuat Arus : 5 menit ; 10 menit ;15 menit ; 20 menit ; 25 menit : 100mA ; 300mA(I) ; 300mA(II) ; 500mA(I) ; 500mA(II)

III.1.2 Variabel Kontrol : Konsentrasi CuSO4 (0,3 N dan 0,5 N) Volume CuSO4 III.1.3 Variabel Terikat : Berat besi (Fe) Kekerasan permukaan besi (Fe) III. Alat dan Bahan Alat: 1. Gelas Beaker 1000 ml 2. 3. 4. 5. 6. 7. 8. 9. Bahan: 1. 2. 3. HCl CuSO4 Air PipetTetes Spatula Beaker Glass 200 ml LabuErlemeyer 250 ml GelasUkur 500 ml Amperemeter LempenganBesi LempenganTembaga

III.3 Prosedur Percobaan 1. Persiapkan alat dan bahan sesuai yang dibutuhkan pada proses pelapisan logam. 2. Timbang massa awal lempengan besi (Fe) menggunakan neraca 3. Buat larutan CuSO4 1 N dengan cara menimbang sebesar 161.6 gram CuSO4 padat kemudian dilarutkan dengan air 1 liter.

III-1

III-2 BAB III Metodologi Percobaan

4. Setelah itu, buatlah larutan CuSO4 0.5 N dengan cara mengencerkan CuSO4 1N dengan 100 ml air. 5. Ulangi hal yang sama untuk pembuatan larutan CuSO4 0.3 N 6. Kemudian setelah larutan siap, tuangkan larutan CuSO4 0.5 N terlebih dahulu ke dalam wadah lalu rendam lempengan besi serta tembaga didalamnya yang kemudian sambungkan lempengan besi dan lempengan tembaga dengan kutub anoda dan katoda pada amperemeter, nyalakan sekaligus hitung untuk perubahan waktu 5 menit, 10 menit, 15 menit, 20 menit, dan 25 menit. 7. Setelah itu timbang berat lempengan besi yang sudah dilakukan proses elekroplating dengan larutan CuSO4. Catat perubahan yang terjadi. 8. Ulangi hal yang sama untuk larutan 0.3 N.

Laboratorium Kimia Fisika Program Studi D3 Teknik Kimia FTI-ITS

III-3 BAB III Metodologi Percobaan

III.5 Diagram Alir

MULAI
Persiapkan alat dan bahan sesuai yang dibutuhkan pada proses pelapisan logam

Timbang massa awal lempengan besi (Fe) menggunakan neraca

Buat larutan CuSO4 1 N dengan cara menimbang sebesar 161.6 gram CuSO4 padat kemudian dilarutkan dengan air 1 liter

Setelah itu, buatlah larutan CuSO4 0.5 N dengan cara mengencerkan CuSO4 1N dengan 100 ml air

Ulangi hal yang sama untuk pembuatan larutan CuSO4 0.3 N

Kemudian setelah larutan siap, tuangkan larutan CuSO4 0.5 N terlebih dahulu ke dalam wadah lalu rendam lempengan besi serta tembaga didalamnya yang kemudian sambungkan lempengan besi dan lempengan tembaga dengan kutub anoda dan katoda pada voltmeter, nyalakan sekaligus hitung untuk perubahan waktu 5 menit, 10 menit, 15 menit, 20 menit, dan 25 menit

Setelah itu timbang berat lempengan besi yang sudah dilakukan proses elekroplating dengan larutan CuSO4. Catat perubahan yang terjadi.

Ulangi hal yang sama untuk larutan 0.3 N

SELESAI

Laboratorium Kimia Fisika Program Studi D3 Teknik Kimia FTI-ITS

III-4 BAB III Metodologi Percobaan

III.6 Gambar Alat


Terminal negative (-)

Skala ampere

Terminal positif (+)

Gelas Beaker

Amperemeter

Pipet Tetes

Spatula

Erlenmenyer

Gelas Ukur

Laboratorium Kimia Fisika Program Studi D3 Teknik Kimia FTI-ITS

BAB IV HASIL PERCOBAAN DAN PEMBAHASAN IV.1 Hasil percobaan dan pembahasan Hasil percobaan Percobaan I Tabel IV.1 Pelapisan Logam 100 A (I) konsentrasi CuSO4 0,5 N NO t (waktu) 5 menit 10 menit 15 menit 20 menit 25 menit Berat pada larutan CuSO4 0.5 N wo 16 gram 16 gram 16 gram 16 gram 16 gram wt 17,0 gram 17,5 gram 18,0 gram 18,0 gram 18,0 gram 1 gram 1,5 gram 2 gram 2 gram 2 gram W

1 2 3 4 5

18,5 18 17,5

Wt (gram)

17 16,5 16

10

15

20

25

Waktu (menit) Grafik IV.1 HubunganantaraWaktudanBeratAkhirsetelahElektroplating Pada percobaan menggunakan arus 100 A dan konsentrasi CuSO40,5 N menunjukan pada variabel waktu 5 menit berat akhirnya 17 gram, pada waktu 10 menit memiliki berat akhir 17,5 gram, pada waktu 15 menit memiliki berat akhir 18,0, gram, pada waktu 20 menit memiliki berat akhir 18 gram, dan pada waktu 25 menit memiliki berat akhir 18 gram. Terjadi kenaikan berat lempengan besi sebelum dan sesudah dilakukanya percobaan elktroplating, namun pada variabel waktu 15 menit, 20 menit, dan 25 menit memiliki berat akhir yang sama, hal ini dikarenakan kurang teliti dalam melakukan percobaan serta neraca yang tersedia

IV-1

IV-2 BAB IVHasil Percobaan dan Pembahasan

memiliki ketelitian 0,5 gram sehingga perubahan yang terjadi tidak dapat terbaca secara akurat, kesalahan saat menimbang tidak menutup pintu saat proses penimbangan juga mempengaruhi harga yang muncul dalam neraca juga tidak dapat dikatakan akurat. Penggunaan kertas saat membawa hasil elektroplating untuk dilakukanya proses penimbangan juga mempengaruhi berat hasil karena lapisan tembaga yang terbentuk mengelupas dan menempel pada kertas.

Percobaan II Tabel IV.2 Pelapisan Logam 300 A (I) konsentrasi CuSO4 0,5 N NO t (waktu) 5 menit 10 menit 15 menit 20 menit 25 menit Berat pada larutan CuSO4 0.5 N wo 16 gram 16 gram 16 gram 16 gram 16 gram wt 16,0 gram 16,5 gram 17 gram 17 gram 18,5 gram 0 gram 0,5 gram 1 gram 1 gram 2,5 gram W

1 2 3 4 5

18 17,5 17 16,5 16 5 10 15 20 25

Wt (gram)

Waktu (menit) Gravik IV.2 HubunganantaraWaktudanBeratAkhirsetelahElektroplating Pada percobaan pelapisan Logam 300 A (I) konsentrasi CuSO4 0,5 Ndiatas menunjukan pada variabel waktu 5 menit berat akhirnya 16 gram, pada waktu 10 menit memiliki berat akhir 16 gram, pada waktu 15 menit memiliki berat akhir 17,0 gram, pada waktu 20 menit memiliki berat akhir 17 gram, dan pada waktu 25 menit memiliki berat akhir 18 gram. Terjadi kenaikan berat lempengan besi sebelum dan sesudah dilakukanya percobaan elktroplating, namun terulang kembali terjadinya kesamaan berat akhir pada percobaan kedua Laboratorium Kimia Fisika Program Studi D3 Teknik Kimia FTI

IV-3 BAB IVHasil Percobaan dan Pembahasan

ini yaitu pada variabel waktu 15 menit dan 20 menit, dan pada variabel 5 menit lempengan besi tidak menunjukkan perubahan berat akhir setelah dilakukanya proses elektroplating jadi berat awal lempengan sebelum dan sesudah dilakukanya percobaan menunjukan berat yang sama. Hal ini dikarenakan kurang teliti dalam melakukan percobaan serta neraca yang tersedia memiliki ketelitian 0,5 gram sehingga perubahan yang terjadi tidak dapat terbaca secara akurat, kesalahan saat menimbang tidak menutup pintu saat proses penimbangan juga mempengaruhi harga yang muncul dalam neraca juga tidak dapat dikatakan akurat. Penggunaan kertas saat membawa hasil elektroplating untuk dilakukanya proses penimbangan juga mempengaruhi berat hasil karena lapisan tembaga yang terbentuk mengelupas dan menempel pada kertas.

Percobaan III Tabel IV.3 Pelapisan logam 100 A (I) konsenstrasi CusO4 0,3N NO t (waktu) 5 menit 10 menit 15 menit 20 menit 25 menit Berat pada larutan CuSO4 0.3 N wom 16 gram 16 gram 16 gram 16 gram 16 gram wt 16,5 gram 17 gram 17 gram 17,5 gram 17,5 gram 0,5 gram 1 gram 1 gram 1,5 gram 1,5 gram W

1 2 3 4 5

18 17,5 17

Wt (gram)

16,5

16
5 10 15 20 25

Waktu (menit) Grafik IV.3 HubunganantaraWaktudanBeratAkhirsetelahElektroplating

Laboratorium Kimia Fisika Program Studi D3 Teknik Kimia FTI

IV-4 BAB IVHasil Percobaan dan Pembahasan

Pada percobaan pelapisan logam 100 A (I) konsenstrasi CusO4 0,3N diatas menunjukan pada variabel waktu 5 menit berat akhirnya 16,5 gram, pada waktu 10 menit memiliki berat akhir 17,0 gram, pada waktu 15 menit memiliki berat akhir 17,0 gram, pada waktu 20 menit memiliki berat akhir 18 gram, dan pada waktu 25 menit memiliki berat akhir 18 gram. Terjadi kenaikan berat lempengan besi sebelum dan sesudah dilakukanya percobaan elktroplating. Pada percobaan ketiga ini pada variabel waktu tertentu memiliki berat akhir yang sama setelah dilakukanya proses elektroplating yaitu pada variabel waktu 10 menit dan 15 menit yang menujukan hasil yang sama yaitu 17 gram serta pada variabel waktu 20 menit dan 25 menit menunjukan berat akhir yang sama 18 gram. Sama halnya dengan percobaan sebelumnya, faktor yang mempengaruhi hasil yang tidak akurat dikarenakan kurang teliti dalam melakukan percobaan serta neraca yang tersedia memiliki ketelitian 0,5 gram sehingga perubahan yang terjadi tidak dapat terbaca secara akurat, kesalahan saat menimbang tidak menutup pintu saat proses penimbangan juga mempengaruhi harga yang muncul dalam neraca juga tidak dapat dikatakan akurat. Penggunaan kertas saat membawa hasil elektroplating untuk dilakukanya proses penimbangan juga mempengaruhi berat hasil karena lapisan tembaga yang terbentuk mengelupas dan menempel pada kertas. Pada percobaan dengan menggunakan larutan CusO4yang lebih encer menunjukan hasil berat akhri yang lebih besar dari pada menggunakan larutan CusO40,5 N. Hal ini dikarenakan kurang teliti dalam menimbang padatan CuSO4 yang digunakan dalam pembuatan larutan, sehingga konsentrasi larutan yang dihasilkan juga tidak akrurat untuk nilai normalitasnya,

Percobaan IV Tabel IV.4 Pelapisan logam 500 A (I) Konsentrasi CuSO4 0,5 N NO t (waktu) 5 menit 10 menit 15 menit 20 menit 25 menit Berat pada larutan CuSO4 0.5 N wom 15 gram 15 gram 15 gram 15 gram 15 gram wt 17 gram 16,5 gram 16,5 gram 17 gram 17,5 gram 2 gram 1,5 gram 1,5 gram 2 gram 2,5 gram W

1 2 3 4 5

Laboratorium Kimia Fisika Program Studi D3 Teknik Kimia FTI

IV-5 BAB IVHasil Percobaan dan Pembahasan

18 17,5

17

Wt 16,5 (gram)
16 15,5 15 5 10 15 20 25

Waktu (menit)
Grafik IV.4 HubunganantaraWaktudanBeratAkhirsetelah Elektroplating Pada percobaan pelapisan Logam 500 A (I) konsentrasi CuSO4 0,5 N diatas menunjukan pada variabel waktu 5 menit berat akhirnya 17 gram, pada waktu 10 menit memiliki berat akhir 16,5 gram, pada waktu 15 menit memiliki berat akhir 16,5 gram, pada waktu 20 menit memiliki berat akhir 17 gram, dan pada waktu 25 menit memiliki berat akhir 17,5 gram. Terjadi kenaikan berat lempengan besi sebelum dan sesudah dilakukanya percobaan elktroplating dengan perubahan yang besar, namun terjadi kesalahan dalam percobaan yang ke empat ini karena juga terjadi penurunan berat akhir pada variabel waktu 10 menit dan 15 menit dan pada kedua variabel waktu tersebut juga memiliki berat yang sama. Hal ini dikarenakan kurang teliti dalam melakukan percobaan serta neraca yang tersedia memiliki ketelitian 0,5 gram sehingga perubahan yang terjadi tidak dapat terbaca secara akurat, kesalahan saat menimbang tidak menutup pintu saat proses penimbangan juga mempengaruhi harga yang muncul dalam neraca juga tidak dapat dikatakan akurat. Penggunaan kertas saat membawa hasil elektroplating untuk dilakukanya proses penimbangan juga mempengaruhi berat hasil karena lapisan tembaga yang terbentuk mengelupas dan menempel pada kertas. Electroplating merupakan salah satu cara yang biasa digunakan dalam proses pelapisan suatu logam dengan logam lain yang lebih tahan terhadap korosi. Selain itu, teknik ini juga dimanfaatkan untuk memperindah suatu logam. Pada praktikum ini, logam yang kita lapisi yaitu lempeng besi dengan logam pelapis tembaga. Yang mana sifat dari besi yang mudah mengalami korosi ketika kontak dengan udara. Oleh karena itu perlu adanya pelapisan dengan logam lain agar besi tidak mudah

Laboratorium Kimia Fisika Program Studi D3 Teknik Kimia FTI

IV-6 BAB IVHasil Percobaan dan Pembahasan

mengalami korosi. Sifat besi yang pada dasarnya rentan terhadap korosi maka sebelum dilakukan Electroplating perlu adanya pembersihan permukaan lempeng tersebut. Proses Proses pembersihan karat dilakukan dengan menggunakan larutan HCl, yang mana pada tahap ini bertujuan untuk menghilangkan karat. Penghilangan karat pada tahap ini hanya sebagian saja yang bisa dihilangkan. Asam klorida merupakan asam yang sangat kuat sehingga mampu memutuskan ikatan antara logam dan oksidanya. Pada tahap ini peristiwa yang bisa diamati adalah terjadinya gelembung-gelembung dalam larutan dan juga larutan menjadi warna keruh akibat karat besi yang terlepas dari lempeng besi. Penghilangan karat ini bertujuan agar lapisan yang terbentuk relative lebih kuat dan tidak mudah mengelupas. Setelah dilakukan tahap persiapan, maka kita telah mendapatkan lempeng besi yang telah siap untuk dilapisi dengan tembaga. Pada tahap pelapisan, lempeng besi yang ditempatkan pada posisi katoda dan tembaga pada posisi anoda menyebabkan terbentuknya lapisan pada bagian katoda (bahan kerja). Pada praktikum ini kita menggunakan larutan elektrolit asam yang terdiri dari CuSO4. Pada saat arus mengalir, maka akan terjadi reaksi kimia dalam sistem, yang mana ion postif dalam larutan akan bergerak mendekati kutub negative (katoda) dan ion negative akan bergerak mendekati kutub positif (anoda). Rekasi reduksi terjadi dikatoda dan reaksi oksidasi terjadi di anoda. Dalam hal ini, tembaga yang kita gunakan sebagai anoda akan mengalami oksidasi sehingga melepaskan elektronnya. Sementara lempeng besi akan mengalami reduksi sehingga akan menerima Electron. Hasil pelapisan yang kita lakukan memiliki permukaan yang kasar dan mudah sekali terlepas. Warna yang tebentuk adalah warna tembaga karena pelapisnya yang kita gunakan adalah tembaga. Sementara itu, hasil yang kita peroleh sangat tergantung pada beberapa factor yaitu arus yang mengalir, pH, dan konsentrasi larutan, serta logam dasar itu sendiri. Permukaan lapisan yang kasar disebabkan karena kondisi-kondisi tersebut tidak sesuai. Dimana rapat arus yang tinggi akan mempercepat pembentukan lapisan akan tetapi hasilnya kasar, selain itu juga kemungkinan disebabkan karena konsentrasi larutan yang terlalu tinggi sehingga berdampak pada lapisan hasil yang kasar. Akan tetapi jika dikarenakan konsentrasi yang tinggi maka lapisan yang didapatkan sangat kuat. Sementara pada percobaan ini lpisan sangat rapuh dan mudah terkelupas. Hal ini menunjukan bahwa yang lebih utama menyebabkan hasil yang kasar adalah rapat arus yang tinggi. Selain itu juga permukaan logam yang kurang halus menambah resiko munculnya hasil yang kasar.

Laboratorium Kimia Fisika Program Studi D3 Teknik Kimia FTI

IV-7 BAB IVHasil Percobaan dan Pembahasan

Lapisan logam yang mudah terlepas bisa disebabkan karena penampang logam yang dilapisi masih banyak mengandung kotoran seperti lemak dan minyak, ataupun masih banyak mengandung karat. Karena besi sangat rentan terserang korosi ketika sedikit kontak dengan udara. Selain itu satu hal penting yang perlu kita perhatikan adalah arus yang mengalir. Ketika amperemeter belum dihubungkan dengan larutan, arus yang terbaca memang 1 A. Tetapi ketika logam kerja dicelupkan, ternyata arus yang terbaca menurun tidak mencapai 1 Ampere. Padahal dalam system terdapat larutan dan elektroda yang sebenarnya memiliki nilai hambatan. Sehingga perlu diperhitungkan ketika kita ingin mendapatkan arus yang sesuai dengan keinginan.

Laboratorium Kimia Fisika Program Studi D3 Teknik Kimia FTI

BAB V KESIMPULAN
Dari percobaan yang kami lakukan dapat diambil kesimpulan sebagai berikut : 1. Massa zat (m) yang timbulpadaelektrodaberbandinglurusdenganjumlaharuslistrik (I) yang mengalir. Hali inisesuaidenganHukum Faraday I. 2. Semakin lama waktupelapisanmakanilai Faraday I W denganbunyi semakinbesar. Massa zat Hal yang yang inidikarenakansesuaidenganHukum mengalirpadaelektrolisis tersebut 3. Kondisi optimum pelapisanlogambesiterjadipadaarus 500mA padamenitke 25 sebesar 17,5 gram dan 300 mA padamenit 25 sebesar 18,5 gram. Sedangkankondisi minimum terjadipadapenggunaanaruslistrik 300mA yaitupadamenitke 5 sebesar 16 gram. 4. Pelapisanlogambesiterjadipadaarus denganpenambahanberatlogamyaitu 500mA 2 dan 300 mA padamenitke 25

terbentukpadamasing-masingelektrodasebandingdengankuatarusatauaruslistrik

gram.Sedangkanpenambahanberatlogamkondisi

minimum padaarus 300mA sebesar 0 gram.

V-1

DAFTAR PUSTAKA
Aditama, r. (2011, desember -). kimia analitik. Retrieved oktober 03, 2013, from majalah kimia: http://majalahkimia.blogspot.com/2011/12/elektroforesis.html Akbar. (2012, june 19). -. Retrieved November 2, 2013, from http://akbarcules46.blogspot.com/2012/06/makalah-destilasi-vakum.html blogspot:

Daniels, f. (1949). ezperimental physical chemistry. Tokyo: McGraw Hill Kogakusha. Devi, F. (2013, mei -). home. Retrieved oktober http://www.ilmukimia.org/2013/05/destilasi.html 03, 2013, from ilmu kimia:

Fontana, M. G. (1987). Corrosion Engineering. Kurniati, n. (2011, februari -). blog archive. Retrieved oktober 03, 2013, from al chemist: http://alchemistviolet.blogspot.com/2011/02/ekstraksi.html Lando, S. H. (1944). Fundamentals of Physical Chemistry. New York: Macmillan Publishing Co. Inc. Lando, S. H. (1944). Fundamentals of Physical Chemistry. New York: Macmillan Publishing Co. Inc. Putri, T. P. (2012, November 20). home. Retrieved November 2, 2013, from wordpress: http://theprincess9208.wordpress.com/2012/11/20/destilasi-refluks/ Setyowati, S. (2009, 08 29). Beranda. Retrieved oktober 03, 2013, from chem-is=try: http://www.chem-is-try.org/materi_kimia/kimia-industri/teknologi-proses/absorbsi/ Sinaga, G. (2010, Desember 5). home. Retrieved November 2, 2013, from blogspot: http://lifechemicals.blogspot.com/2010/12/destilasi-uap.html Tya. (2012, november 20). home. Retrieved oktober 03, 2013, from the princess: http://theprincess9208.wordpress.com/2012/11/20/destilasi-bertingkat-fraksionasi/ USU. (2013). minyak atsiri. medan: usu. Wikipedia. (2006, Nopember 28). Halaman Baca. Retrieved Nopember 19, 2013, from Halaman Baca: http://id.wikipedia.org/wiki/Anode Wikipedia. (2013, april 06). halaman baca. Retrieved oktober 03, 2013, from wikipedia: http://id.wikipedia.org/wiki/Elektrolisis Wikipedia. (2013, juli 25). home. Retrieved http://id.wikipedia.org/wiki/Adsorpsi oktober 3, 2013, from wikipedia:

Zulfikar. (2011, januari 03). beranda. Retrieved oktober 03, 2013, from chem-is-try: http://www.chem-is-try.org/materi_kimia/kimia-kesehatan/pemisahan-kimia-dananalisis/kristalisasi/