Nama : Rizqiy Nur Romadlon

NIM : 18/431899/SV/15870
Kelas : B2

Chemical Milling

Gambar 1. CHM setup

Chemical milling (CHM) adalah pelarutan material benda kerja dengan menggunakan larutan kimia.
Pelapis khusus yang dinamakan maskants mencegah bagian tertentu dari logam benda kerja untuk
dihilangkan. Proses CHM sebagaimana berikut:
 Mempersiapkan dan membersihkan terlebih dahulu (precleaning) permukaan benda kerja. Hal ini
memberikan sifat adhesi yang baik dari material masking dan mencegah adanya kontaminan yang
dapat mengganggu proses pemesinan.
 Masking menggunakan mask yang mudah untuk dilepas, dan memiliki ketahanan terhadap abrasi
kimia selama proses pemesinan.
 Membentuk pola pada mask sesuai dengan bentuk benda kerja yang diinginkan
dimana mask dihilangkan dari permukaan benda kerja yang akan menerima CHM. Jenis mask yang
dipilih tergantung dari ukuran benda kerja, jumlah parts yang akan dibuat dan detail yang diinginkan.
 Benda kerja dibersihkan dan mask dilepas sebelum proses pemesinan selesai.
Pada proses CHM, kedalaman pemakanan tergantung dari waktu perendaman. Untuk menghindari hasil
pemesinan yang tidak rata, bahan kimia yang digunakan pada CHM harus baru. Bahan kimia yang
digunakan pada CHM ini sangat korosif sehingga harus ditangani dengan tepat dan aman. Uap dan
limbah dari bahan kimia tersebut harus dikelola dengan baik untuk menjaga lingkungan. Temperatur
larutan kimia pada CHM berkisar antara 37 hingga 85 derajat Calcius. Proses pemesinan yang lebih cepat
akan diperoleh pada temperatur yang lebih tinggi.
 Gambar 2. Etch faktor setelah CHM

Ketika menggunakan mask, ada faktor yang harus dipertimbangkan yaitu etch factor.Etch factor adalah
rasio undercut (d) – kedalaman pemakanan (T) sebagaimana terlihat pada Gambar 2. Rasio ini harus
dipertimbangkan ketika memotong mask menggunakan templates. Etch factor 1:1 terjadi pada
kedalaman pemakanan 1,27 mm. Pemakanan yang lebih dalam bisa mengurangi rasio hingga
1:3. Radius fillet yang dihasilkan lebih kurang sama dengan depth of etch. Setelah membersihkan larutan
kimia dari benda kerja, mask bisa dilepas dengan menggunakan tangan, degan
menggunakan brush atau dilepaskan dengan menggunakan bahan kimia. Pada CHM, proses pemesinan
bisa dilakukan secara bertahap sebagaimana terlihat pada Gambar 3.

Gambar 3. Countour cuts by CHM

A. Tooling CHM

Peralatan untuk CHM relatif murah dan mudah untuk dimodifikasi. Empat jenis tool yang dibutuhkan untuk
CHM adalah: maskants, etchants, scribing templates dan asesoris.
 Maskants
Maskants secara umum digunakan untuk melindungi parts benda kerja dimana pelarutan kimia tidak
diinginkan. Material berbahan dasar sintetis atau karet sering digunakan sebagai maskants. Tabel 1
memperlihatkan berbagai jenis maskants dan etchants untuk beberapa jenis material berikut etch
rate dan etch factor. Maskants harus memiliki kriteria sebagai berikut:

1. Tidak mudah rusak ketika dikelola

2. Melekat dengan baik pada permukaan benda kerja
3. Mudah untuk ditulis
4. Tahan terhadap larutan kimia
5. Tahan terhadap panas yang dihasilkan dari proses pemesinan
6. Mudah untuk dilepas dan tidak mahal

Tabel 1. Maskants dan etchants untuk berbagai jenis material

Maskants yang berlapis seringkali digunakan untuk meningkatkan ketahanan terhadap pelarutan dan
menghindari pembentukan lubang kecil pada permukaan benda kerja.
 Etchants
Etchants adalah larutan asam atau basa dengan komposisi kimia dan temperatur tertentu (lihat Tabel 1).

 Scribing templates
Scribing templates digunakan untuk menentukan permukaan benda kerja yang akan dikenai larutan kimia
dalam proses pemesinan CHM. Gambar 4 memperlihatkan numerical control (NC) laser scribing of
masks untuk CHM dari area permukaan yang besar.

Gambar 4. Laser cutting of masks for CHM

 Asesoris
Asesoris CHM termasuk tangki, hooks, brackets, rak dan perlengkapan lainnya. Asesoris ini digunakan
untuk handling material benda kerja dan untuk pembilasan.

B. Parameter proses

Parameter CHM termasuk jenis larutan kimia, konsentrasi, properties, campuran, temperatur
pengoperasian dan sirkulasi. Parameter ini juga dipengaruhi oleh maskantdan penggunaannya.
Parameter ini akan secara langsung berpengaruh pada etch factor, etching and machining rate, toleransi
dan surface finish.
C. Material removal rate

Material removal atau etch rate tergantung dari keseragaman kimia dan metalurgi pada benda kerja dan
keseragaman temperatur larutan.

Gambar 5. Kekasaran permukaan dari pengerjaan CHM (El-Hofy, 1995)

 Gambar 6. Surface roughness and etch rate of some alloys

D. Keakuratan dan Surface Finish

Pada CHM, metal dilarutkan melalui metode pelarutan menggunakan larutan kimia. Gambar 5 dan 6
memperlihatkan surface roughnesses dari beberapa jenis material setelah menghilangkan 0,25 hingga
0,4 mm. Toleransi akan bertambah jika kedalaman semakin bertambah dan pada waktu pengerjaan yang
cepat. Aluminum dan magnesium alloys lebih bisa dikontrol dalam hal toleransi dibandingkan baja, nikel
dan titanium alloys. Etching rate 0,25 mm/min dengan toleransi ±10% dari lebar pemotongan bisa dicapai
oleh CHM tergantung dari material benda kerja dan kedalaman pemakanan.

Kekasaran permukaan dari penggunaan CHM juga dipengaruhi oleh kekasaran permukaan benda kerja
sebelum diproses. Rata-rata kekasaran permukaan (surface roughness) dari penggunaan CHM adalah
0,1 hingga 0,8 µm tergantung dari kekasaran material benda kerja sebelumnya. Adapun untuk perlakuan
khusus, kekasaran 0,025 hingga 0,05 µm menjadi memungkinkan.

E. Kelebihan CHM
 Pemakanan material dilakukan secara simultan atau terus menerus dari seluruh permukaan benda
kerja.
 Burrs tidak terbentuk.
 Material benda kerja tidak mengalami stress sehingga meminimalisir distorsi dan benda kerja yang
dihasilkan bisa lebih halus.
 Biaya yang dibutuhkan untuk peralatan relatif murah.
 Perubahan desain bisa diimplementasikan lebih cepat.
 Tidak membutuhkan operator yang begitu terampil.
 Biaya tool yang murah.
 Kualitas permukaan yang bagus dan rata-rata tidak membutuhkan pengerjaan finishing.
 Mempercepat pekerjaan untuk benda kerja yang banyak dengan menggunakan metode gang.
F. Kekurangan CHM
 Sulit untuk menangani dan membuang larutan kimia.
 Hand masking, scribing, dan stripping akan membutuhkan banyak waktu, dikerjakan berulang-ulang
dan membosankan.
 Bisa menghasilkan permukaan benda kerja yang tidak begitu sempurna.
 Unsur material benda kerja harus homogen untuk mendapatkan hasil terbaik.
 Pemotongan untuk bagian-bagian yang sempit sulit untuk dilakukan.
 Benda kerja hasil casting yang berpori menghasilkan permukaan yang tidak rata.

Referensi
Abdel, Hassan & El-Hofy, Gawad., Advanced Machining Processes, McGraw-Hill, 2005.