UNIVERSITAS GUNADARMA

FAKULTAS TEKNOLOGI INDUTRI

JURUSAN / PROGRAM STUDI TEKNIK MESIN

RENCANA PEMBELAJARAN SEMESTER (RPS)

Nama Mata Kuliah Kode Mata Kuliah Semester Tgl Penyusunan
Bobot (sks)
Teknologi Proses Nano dan Mikro AK042254 2 7
Otorisasi Nama Koordinator Pengembang RPS Koordinator Bidang Keahlian (Jika
Ka PRODI
Ada)

Haris Rudianto, ST, M.Eng, PhD Dr. RR. Sri Poernomo Sari, MT

. .
Capaian Pembelajaran CPL-PRODI (Capaian Pembelajaran Lulusan Program Studi)Yang Dibebankan Pada Mata Kuliah
(CP) CPPS1
Kemampuan menguasai konsep fundamental mengenai teknik yang digunakan dalam desain dan fabrikasi sistem nano dan mikro.

Kemampuan dalam melakukan desain dan analisa mengenai sifat-sifat dan proses fabrikasi atau manufakturnya.
CPPS3
CPMK (Capaian Pembelajaran Mata Kuliah)
CPMK 1 Kemampuan dalam melakukan penelitian, eksperimen termasuk dalam analisis.
CPMK 2 Kemampuan untuk menafsirkan data, mengidentifikasi, merumuskan, dan memecahkan masalah- masalah sistem mekanika.
CPMK 5 Kemampuan dalam merancang sistem mekanika dan komponen-komponennya.
CPMK 7 Kemampuan dalam membuat sistem mekanika dan komponen-komponen, serta keberlanjutan.
Diskripsi Singkat MK Mata kuliah ini membahas tentang proses fabrikasi teknologi nano dan mikro dan bagaimana sifat-sifatnya.
Bahan Kajian / Materi 1. Pengertian proses fabrikasi teknologi nano dan mikro
Pembelajaran 2. Jenis-jenis teknologi fabrikasi sistem nano dan mikro
3. Proses Manufaktur
4. Sifat-sifatnya
5. Aplikasi-aplikasinya
Daftar Referensi Utama:
1. Stephen A. Campbell, The Science and Engineering of Microelectronic Fabrication
2. Richard C.Jaeger Introduction To Microelectronic Fabrication
3. Prof. Dr. Helmut F Electronic Materials http://www.tf.uni-kiel.de/matwis/amat/elmat_en/index.html
4. Milton Ohring Materials Science of Thin Films http://www.sciencedirect.com/science/book/9780125249751
5. Chris Mack Fundamental Principles of Optical Lithography
Media Pembelajaran Perangkat lunak: Perangkat keras :
- Notebook danLCDProjector
Nama Dosen Pengampu Abdul Muchlis, ST., MT

Matakuliah prasyarat -
(Jika ada)
Minggu Penilaian
Sub-CPMK Bahan Kajian (Materi Bentuk Estimasi Pengalaman
Ke- Kriteria & Indikator Bobot
(Kemampuan Pembelajaran) dan Waktu Belajar Mahasiswa
akhiryg Metode Bentuk (%)
direncanakan) Pembelaja
ran
(1) (2) (3) (4) (5) (6) (7) (8) (9)
1,2,3 Mahasiswa dapat Perkenalan mengenai teknik • Bentuk: 2x(2x60”) Mahasiswa mampu Kriteria : Mahasiswa 10
memahami konsep fabrikasi mikro dan nano Kuliah Menit memiliki penguasaan Partisipasi mengerti dan %
dasar dari teknik meliputi • Metode: tentang konsep teoretis Mahasiswa, memahami konsep
fabrikasi mikro 1. MEMS ceramah, sains, prinsip-prinsip, Bentuk non-test dasar dari teknik
dan nano serta (Microelectromechanical dan sains rekayasa MEMS, NEMS
problem
aplikasinya Systems) mengenai teknologi dan aplikasinya.
based
2. NEMS mikro dan nano
(Nanoelectromechanical learning fabrikasi
Systems) EVALUASI AKHIR SEMESTER (mg ke 16)
3. Aplikasi dari teknik MEMS
dan NEMS
[CPPS 1 , CPMK
4,5,6 Mahasiswa 1]: mampu menjelaskan
Perkenalantentang teknik-teknik
mengenai teknik fabrikasi
 Bentuk: 2x(2x60”) Mahasiswa mampu Kriteria : Mahasiswa 10
terbaru mampu
(Mg ke 14 dan 15) deposisi meliputi Kuliah Menit memiliki penguasaan Partisipasi mengerti dan %
menjelaskan 1. Teknik thin film  Metode: tentang teknik deposisi Mahasiswa, memahami konsep
teknik-teknik deposition meliputi thin film presentasi teoretis mengenai
ceramah,
2. Teknik Chemical deposition dan mahasiswa thin film
deposisi problem
Vapour Deposition chemical vapour
[CPPS 1 CPMK 2, 7]: Kemampuan mampu deposition dan
menjelasakan
based deposition (CVD)
(CVD) learning tentang konsep dasar teknik fabrikasi nanochemical vapour
atau NEMS
deposition (CVD)
(Nanoelectromechanical Systems) (Mg ke 12 dan 13)

7,8 Mahasiswa Perkenalan mengenai konsep  Bentuk: 2x(2x60”) Mahasiswa mampu Kriteria : Menguasai 5%
mampu dasar dan teknik dari Menit memiliki penguasaan
Kuliah EVALUASI TENGAH SEMESTER (mg ke 11) Partisipasi tentang konsep
menjelaskan photolithography  Metode: tentang konsep Mahasiswa, dan mampu
teknik pemolaan photolithography presentasi memahami
ceramah,
atau patterning mahasiswa photolithography
problem
dengan teknik
photolithography based
[CPPS [CPPS
1, CPMK3 CPMK Kemampuanmenjelaskan
1] : 5]:Kemampuan menjelaskan teknik
teknik pemolaan
pemolaan atau
learning
patterning dengan dengan
atau patterning teknik photolithography
teknik etching (mg ke 7 dan 8).
(mg ke 9 dan 10).
9,10 Mahasiswa mampu Perkenalan mengenai teknik Kuliah, 2x (2x60”) mahasiswa mampu Kriteria : mahasiswa mampu
menjelaskan teknik etching meliputi tanya jawab, Menit memiliki penguasaan Partisipasi mengetahui
pemolaan atau patterning 1. Wet etching diskusi kelas tentang konsep Mahasiswa, metoda wet dan
dengan teknik etching 2. Dry etching [CPPS
mengenai wet 1, 3,
dan1dry
[CPPS CPMK 1, 5]
presentasi
, CPMK : Kemampuan
1]: Kemampuan mampu menjelaskan
menguasai
dry etching teknik-
konsep dasar dari
etching teknik deposisi (Mg ke
mahasiswa
teknik fabrikasi 4, 5, 6
mikro dan nano serta aplikasinya
(Mg ke 1, 2, 3) M
FORMAT RANCANGAN TUGAS 1
Nama Mata Kuliah : Teknologi Proses Nano dan Mikro SKS : 2
Program Studi : Teknik mesin Pertemuan ke : 1-5
Fakultas : Teknologi Industri

A. TUJUAN TUGAS :
Menjelaskan teknik-teknik Microelectromechanical Systems (MEMS) termasuk teknik deposisi
B. URAIAN TUGAS :
a. Obyek Garapan
Komponen kelistrikan
b. Metode atau Cara pengerjaan
 Carilah referensi berupa artikel ilmiah dan artikel mengenai elektronika dasar (dioda)
 Rangkumlah referensi tersebut
 Rangkuman dibuat dalam bentuk paper minimal 15 lembar dan disiapkan dalam ppt minimal 10 halaman
 Presentasikan hasil rangkuman tersebut di depan kelas
c. Deskripsi Luaran tugas yang dihasilkan :
Tayangan presentasi minimal 10 halaman dengan font Arial dan ukuran 16 disesuaikan
C. KRITERIA PENILAIAN (5 %)
Kelengkapan isi rangkuman
Kebenaran isi rangkuman
Daya tarik komunikasi/presentasi

FORMAT RANCANGAN TUGAS 2

Nama Mata Kuliah : Teknologi Proses Nano dan Mikro SKS : 2
Program Studi : Teknik Mesin Pertemuan ke : 6-10
Fakultas : Teknologi Industri

A. TUJUAN TUGAS :
Menjelaskan teknik patterning dengan menggunakan photolithography

B. URAIAN TUGAS :
a. Obyek Garapan
Dapat mengetahui teknik patterning dengan menggunakan photolithography
Metode atau Cara pengerjaan
 Carilah referensi berupa jurnal / artikel ilmiah / data skunder (dari internet)
 Rangkumlah referensi tersebut
 Rangkuman dibuat dalam bentuk paper minimal 15 halaman dan disiapkan juga dalam bentuk tayangan ppt minimal 10 halaman
 Presentasikan hasil rangkuman tersebut di depan kelas
b. Deskripsi Luaran tugas yang dihasilkan :
Paper minimal 10 halaman dengan spasi 1.5 dan font Times New Roman ukuran 12, berserta tayangan presentasi minimal 10 halaman dengan font Arial ukuran 16

C. KRITERIA PENILAIAN (10%)

Kelengkapan isi rangkuman
Kebenaran isi rangkuman
Daya tarik komunikasi/presentasi
 FORMAT RANCANGAN TUGAS 3

Nama Mata Kuliah : Teknologi Proses Nano dan Mikro SKS : 2

Program Studi : Teknik Mesin Pertemuan ke : 12-15
Fakultas : Teknologi Industri

A. TUJUAN TUGAS :
Memahami konsep etching, NEMS (Nanoelectromechanical Systems)
B. URAIAN TUGAS :
a. Obyek Garapan
Mengetahui konsep etching, NEMS (Nanoelectromechanical Systems)
b. Metode atau Cara pengerjaan
 Carilah referensi berupa jurnal / artikel ilmiah / data skunder (dari internet)
 Rangkumlah referensi tersebut
 Rangkuman dibuat dalam bentuk paper minimal 15 halaman dan disiapkan juga dalam bentuk tayangan ppt minimal 10 halaman
 Presentasikan hasil rangkuman tersebut di depan kelas
c. Deskripsi Luaran tugas yang dihasilkan :
Paper minimal 10 halaman dengan spasi 1.5 dan font Times New Roman ukuran 12, berserta tayangan presentasi minimal 10 halaman dengan font Arial
ukuran 16

C. KRITERIA PENILAIAN (10 %)

Kelengkapan isi rangkuman
Kebenaran isi rangkuman
Daya tarik komunikasi/presentasi
 GRADING SCHEME COMPETENCE

KRITERIA 1 : Kelengkapan isi rangkuman

DIMENSI Sangat Memuaskan Memuaskan Batas Kurang Memuaskan Di bawah SKOR
standard
Lengkap dan terpadu Lengkap Masih kurang Hanya menunjukkan Tidak ada konsep 2
Kelengkapa beberapa aspek yang sebagian konsep saja
n konsep belum terungkap

KRITERIA 2 : Kebenaran isi rangkuman

DIMENSI Sangat Memuaskan Memuaskan Batas Kurang Di bawah SKOR
Memuaskan standard
Kebenaran Diungkapkan dengan Diungkap dengan tepat Sebagian besar Kurang dapat Tidak ada konsep 2
konsep tepat, terdapat aspek tetapi deskriptif konsep sudah mengungkapkan yang disajikan
penting, analisis dan terungkap, aspek penting,
membantu memahami namun masih ada melebihi halaman,
konsep yang terlewatkan tidak ada proses
merangkum hanya
mencontoh
KRITERIA 3 : Daya tarik komunikasi/presentasi
KRITERIA 3a : Komunikasi tertulis

DIMENS Sangat Memuaskan Memuaskan Batas Kurang Memuaskan Di bawah SKOR

I standard
Bahasa Bahasa menggugah Bahasa menambah Bahasa deskriptif, Informasi dan data yang Tidak ada hasil 1
Paper pembaca untuk mencari informasi pembaca tidak terlalu disampaikan tidak
tahu konsep lebih dalam menambah menarik dan
pengetahuan membingungkan
Kerapian Paper dibuat dengan Paper cukup Di jilid biasa Dijilid namun kurang Tidak ada hasil 1
Paper sangat menarik dan menarik, walau tidak rapi
menggugah semangat terlalu mengundang
membaca

KRITERIA 3b : Komunikasi verbal

DIMENSI Sangat Memuaskan Memuaskan Batas Kurang Memuaskan Di bawah SKOR
standard
Isi Memberi inspirasi Menambah wawasan Pembaca masih Informasi yang Informasi yang 2
pendengar untuk mencari harus disampaikan tidak disampaikan
lebih dalam menambah lagi menambah wawasan bagi menyesatkan
informasi dari pendengarnya atau salah
beberapa
sumber
Organisasi Sangat runtut dan Cukup runtut dan Tidak didukung Informasi yang Tidak mau 1
integratif sehingga memberi data pendukung data, namun disampaikan tidak ada presentasi
pendengar dapat fakta yang disampaikan menyampaikan dasarnya
mengkompilasi isi dengan informasi yang
baik benar
Gaya Presentasi Menggugah semangat Membuat pendengar Lebih banyak Selalu membaca catatan Tidak berbunyi 1
pendengar paham, hanya sesekali membaca (tergantung pada catatan)
saja memandang catatan catatan
 KRITERIA 4a : Kelengkapan cara dan jawaban

Sangat Di bawah
DIMENSI Memuaskan Memuaskan Batas Kurang Memuaskan standard SKOR
Kelengkapan cara Lengkap, terpadu dan Lengkap Dapat menentukan rumus yang Hanya mengetahui data Tidak ada 2
dan jawaban sistematis digunakan dalam menyelesaikan yang diketahui jawaban apapun
persoalan

KRITERIA 4b: Kebenaran penggunaan rumus dan jawaban

Sangat Di bawah
DIMENSI Memuaskan Memuaskan Batas Kurang Memuaskan standard SKOR
Lengkap, terpadu Tidak ada
Kebenaran dan Lengkap Dapat menentukan rumus Hanya mengetahui data yang jawaban 2
penggunaan sistematis yangdigunakan dalam diketahui apapun
rumus dan menyelesaikan persoalan
jawaban
 Rubrik Mata Kuliah

No. Nama NPM Quis UTS UAS( Tugas / CPMK Nilai Akhir A B C D E
(20% (30%) 30%) Project (20%)
)
1.
2.
3.
4.
5.
6.
7.
8.
9.
10.
11.
12.
13.

14.
15.
Keterangan : A = Sangat Baik (≥81), B = Baik (61-80), C = Cukup (41-60), D= Kurang (21-40), E= Sangat Kurang (≤20)

Assement Rekapan Hasil Nilai Tugas, Quis, UTS, UAS, dan Project
 NPM CPMK CPPS Hasil Penilaian TOTAL
No. Mahasiswa
Quis UTS UAS Tugas/Project
1.
2.
3.
4.
5.
6.
7.
8.
9.
10.
11.
12.
13.
14.
15.