Makalah Kimia Unsur

Oleh:
1. Alifiea Zalifa Mumtaza
2. Rahmawati
 Daftar Isi

a. KELIMPAHAN UNSUR GAS MULIA

b. SIFAT FISIKA GAS MULIA
c. SIFAT KIMIA GAS MULIA
d. PEMBUATAN GAS MULIA
e. KEGUNAAN GAS MULIA
 A. Kelimpahan Gas Mulia
 Kelimpahan gas mulia dalam  udara kering
Unsur Kelimpahan (ppm)
He 5,24
Ne 18,21
Ar 9340
Kr 1,14
Xe 0,087

 Kelimpahan gas mulia dalam  kerak bumi

Unsur Kelimpahan (ppm)
He 3 x 10-3
Ne 7 x 10-5
Ar 4 x 10-2
Kr -
Xe -

Kelimpahan helium dialam semesta (±23%) adalah yang terbesar setelah hidrogen (±76%).
Helium berasal dari reaksi fusi hidrogen di matahari. Sebagian kecil unsur tersebut terjebak
dibawah kerak bumi pada waktu pembentukannya yang juga berlangsung di matahari. Partikel
alfa yang dihasilkan oleh peluruhan radioaktif meningkatkan jumlah atom-atom He dalam kerak
bumi, oleh karena itu helium sudah berhasil diekstrkasi sebagai hasil samping gas alam dari
daerah-daerah tertentu, misalya di Amerika Utara. Adapun helium di atmosfir kadarnya hanya
sedikit, sebab gas helium sangat ringan sekali sehingga mudah lolos dari tarikan gravitasi
bumi. Unsur gas mulia yang paling banyak terdapat di udara adalah Argon. Kelimpahan Helium
diudara 5,24 ppm, Neon 18,21 ppm, dan Argon 9340 ppm membuat dua unsur ini lebih banyak
dari kebanyakan unsur lainnya, seperti arsenik dan bismut, di kerak bumi. Kelimpahan Kripton
1,14 ppm, dan Xenon 0,087 ppm. Kelimpahan Helium di kerak bumi 3 x 10-3 ppm, Neon 7 x 10-
5 ppm, Argon 4 x 10-2 ppm, sedangkan Kripton dan Xenon tidak ditemukan di bawah kerak
bumi.
 B. Sifat Fisika Gas Mulia
Gas mulia tidak berbau, tidak berwarna, tidak berasa dan berwujud gas.

Energi Titik Titik Jari-jari

Lamb Nomor Konfigurasi
Ionisasi didih Leleh atom Afinitas
. Atom Elektron Terluar
(Kj/mol) (°C) (°C) (pm)

He 2    2639 -267 -272 93 48

Ne 10    2079 -246 -249 112 -120

Ar 18    1519 -186 -189 154 -96

Kr 36    1349 -152 -157 169 -96

Xe 54    1169 -107 -112 190 -77

Rn 86    1042 -62 -71 – –

Titik didih dan titik leleh gas mulia selaras dengan makin besarnya nomor atom. Titik didih dan
titik leleh gas mulia sangat rendah. Hal itu menunjukkan gaya tarik menarik antaratom (ikata
Van Der Waals) sangat lemah. Helium merupakan zat yang titik didihnya paling rendah
dibandingkan semua zat yang ada dialam semesta ini.

C. Sifat Kimia Gas Mulia

Sifat kimia berhubungan erat dengan sifat fisika, misalnya kereaktifan suatu unsur berikatan erat
dengan energi ionisasi unsur tersebut. Dengan begitu kita dapat melihat sifat kimia dari sifat
fisikanya.

1. Kereaktifan Gas Mulia

Gas mulia merupakan gas monoatomik (atom yang berdiri sendiri) maka dari itu gas mulia
sukar bereaksi (inert). Penyebab gas mulia sukar bereaksi karena konfigurasi elektronnya
yang stabil. Konfigurasi gas mulia dengan 8 elektron pada kulit terluar, kecuali helium 2
elektron pada kulit terluar. Kestabilan gas mulia terlihat pada energi ionisasinya yang besar
dan afinitas elektron yang kecil. Hal itu menunjukkan gas mulia sukar melepas elektron dan
mempunyai kecendrungan yang kecil untuk menangkap elektron.
 2. Hubungan Kereaktifan Gas Mulia dan Jari-jari Atomnnya

Semakin besar nomor atom gas mulia makin besar jari-jari atom gas mulia maka kereaktifannya
makin besar sesuai dengan tabel diatas. Jika jari-jari atom bertambah maka gaya tarik inti atom
terhadap elektron terluar makin lemah sehingga elekttron terluar itu mudah ditarik oleh zat lain
(lebih reaktif).

3. Senyawa Gas Mulia

- Bilangan Oksidasi +2
Kripton dan xenon dapat membentuk KrF2 dan XeF2. XeF2 dapat terbentuk jika xenon padat
direaksikan dengan difluorooksida pada :
Xe(s) + F2O2(g) ➝ XeF2(s) + O2(g)
Molekul XeF2 dan KrF2 berbentuk linear.

- Bilangan Oksidasi +4
KrF4 lebih tidak stabil dibandingkan dengan XeF4. XeF4dapat dibuat dengan memanaskan
campuran xenon dan fluorin pada suhu 400°C dan tekanan 6 atm dengan katalis nikel. Xe(g) +
2F2(g) ➝ XeF4(g). Bentuk molekul XeF4 adalah bujur sangkar (segi empat datar).

- Bilangan Oksidasi +6
Ditemukan hanya Xenon yang dapat membentuk XeF6. XeF6 dibuat dengan 50 atm pada
suhu 3OO C.

Xe(g) + 3F2(g) ➝ XeF6(g)

XeF6 pada suhu kamar (25 C, 1 atm) berbentuk kristal berwarna dengan titik leleh 48 C. Sampai
sekarang bentuk molekul XeF6 masih diperdebatkan, tetapi dugaan bentuk molekulnnya
oktrahedral yang terdistrosi (distorted) atau secara teori adalah segi lima piramida.
XeF6 dapat bereaksi dengan silika membentuk senyawa oksi gas mulia yang paling stabil.
Reaksinya sebagai berikut.

SiO2(s) + 2XeF6 (g) ➝ SiF4 + 2XeOF4

Pada suhu kamar XeOF4 berbentuk cairan tidak berwarna.

Senyawa XeOF4 dan XeO3 berbentuk segi empat piramida dan segitiga piramida.

- Bilangan Oksidasi +8
Xe (VI) dapat dioksidasi menjadi Xe(VIII) oleh ozon dalam larutan basa. Xe(VIII) hanya stabil
dalam larutan. Xe(VIII) yang terpenting adalah NaH XeO4 (natrium xenat)
dan Na4Xe06 (natrium perxenat). Garam perxenat ini merupakan oksidator yang sangat kuat.
Selain Xenon, telah berhasil dibuat kripton fluorida (KrF2) dan radon fluorida (RnF2). Senyawa
helium, neon, dan argon belum pernah dilaporkan.
 D. Pembuatan Gas Mulia

Pembuatan gas mulia dapat diperoleh dengan cara cara dibawah ini :

 Gas Mulia diperoleh dengan cara sulingan bertingkat udara cair, dengan cara sebagai
berikut :
Udara dicairkan dengan jalan didinginkan dengan tekanan yang besar, yaitu sampai suhu di
bawah titik didihnya. Kemudian suhu dinaikkan perlahan-lahan, maka gas mulia akan menyuling
kembali pada titik didihnya.

 Gas Argon (Ar) dapat pula diperoleh dengan memanaskan campuran udara dengan
kalsium karbida CaC2, pada pemanasan ini gas N2 dan gas O2 di udara berikatan dengan
CaC2.
Reaksinya : 

O2 +  N2 + 3 CaC2 → Ca(CN)2 + 2 CaO + 5 C + Ar

 Radon diperoleh dari peluruhan radioaktif isotop Radium-226

Reaksinya :

88Ra226 →  86Rn222 + 2α4

Pembuatan Senyawa Gas Mulia

Pembuatan senyawa gas mulia pertama kali dilakukan oleh Neil Bartlett, orang pertama yang
membuat senyawa gas mulia XePtF6 (Xenon heksafluoro platinat) caranya dengan mereaksikan
Xenon dengan suatu oksidator kuat PtF6 (xenon heksa fluorida)

Reaksi :

Xe + PtF6 → XePtF6  (serbuk berwarna kuning kemerahan)

Dengan penemuan ini maka hilanglah anggapan bahwa unsur gas mulia tidak dapat bereaksi
dengan unsur/senyawa lain. Sampai saat ini hanya Kr, Xe dan Rn yang baru dapat disintesis
dengan unsur lain karena memiliki energi ionisasi yang rendah dibanding He dan Ne. Unsur
yang dapat bereaksi dengan Kr, Xe dan Rn hanya unsur yang keelektronegatifannya tinggi
seperti F (flour) dan O (oksigen). Jika campuran Xe dan gas F2 berlebih dipanaskan pada suhu
400 °C pada tekanan 6 atm selama 6 jam, maka akan terjadi reaksi :

Xe + F2 → XeF2 (xenon difluorida)

Xe + 2 F2 → XeF4 (xenon tetrafluorida)
Xe + 3 F2 → XeF6 (xenon heksafluorida)
ketiga senyawa tersebut sangat reaktif, oksidator kuat dan apabila bereaksi dengan air akan
memnghasilkan HF

2 XeF2 (s) + 2 H2O (l) → 2 Xe (g) + O2 (g) + 4 HF (aq/g)

6 XeF4 (s) + 12 H2O (l) → 4 Xe (g) + 3 O2 (g) + 2 XeO3 (s) + 24 HF (aq/g)
XeF6 (s) + H2O (l) → XeOF4 (s) + 2 HF (aq/g)

Senyawa Kripton dan Radon

 Senyawa kripton : KrF2

Kr (g) + F2 (g) → KrF2 (s)

 Senyawa radon : RnF2

Rn (g) + F2 (g) → RnF2 (s)
 E. Kegunaan

Helium

 Sebagai pengisi balon udara, hal ini dikarenakan helium adalah gas yang tidak mudah
terbakar dan ringan
 Campuran helium dan oksigen (80% : 20%) untuk pengisi tabung penyelam, pekerja
tambang, penderita penyakit asma
 He digunakan oleh penyelam karena memiliki kelarutan yang rendah sehingga tidak larut
dalam darah meskipun pada tekanan yang tinggi
 Helium cair untuk refrigerant/pendingin (misalnya pada reaktor nuklir)
Neon

 Neon biasanya digunakan untuk mengisi lampu neon, lampu reklame, dan mengisi
tabung televisi.
Argon

 Digunakan untuk pengisi bola lampu pijar/lampu filamen

 Digunakan argon didalam lampu karena ternyata logam filamen dalam bola lampu tidak
terbakar ketika didalamnya ada gas argon
 Digunakan dalam tabung pemadam kebakaran
 Untuk menghasilkan atmosfer inert dalam proses metalurgi pada suhu tinggi (misalnya
pengelasan), atmosfer inert ini untuk menghindari oksidasi
Kripton

 Kripton digunakan buat lampu pada landasan pacu pesawat

 Lampu kilat untuk fotografi kecepatan tinggi
Xenon

 Xenon dapat digunakan dalam pembuatan lampu untuk bakterisida (pembunuh bakteri)
 Pembuatan tabung electron
 Digunakan buat anastesi (pembiusan)
Radon

 Radon dapat digunakan dalam terapi radiasi pengobatan kanker

 Radon juga dapat berperan sebagai sistem peringatan gempa, Karena bila lempeng bumi
bergerak kadar radon akan berubah sehingga bisa diketahui bila adanya gempa dari
perubahan kadar radon