“ SILIKON KARBIDA”
Disusun Oleh :
Kelompok II
Penulis
DAFTAR ISI
KATA PENGANTAR......................................................................................i
DAFTAR ISI.....................................................................................................ii
BAB I PENDAHULUAN.................................................................................1
1.1 Latar Belakang .......................................................................................1
1.2 Rumusan Masalah...................................................................................2
1.3 Tujuan Masalah......................................................................................2
BAB II TINJAUAN PUSTAKA......................................................................3
2.1 Pengertian Silicon Carbide ...................................................................3
2.2 Karakterisasi Silicon Carbide ……………………………………….3
2.3 Sifat-sifat Fisika dan Kimia …………………………………………4
2.4 Pengaplikasian Silicon Carbide …………………………………….4
BAB III KESIMPULAN..................................................................................5
3.1 Kesimpulan ………………………………………………………….5
DAFTAR PUSTAKA………………………………………………………..6
BAB I
PENDAHULUAN
1.1 Latar Belakang
Dalam bidang industri elektronik telah dilakukan penelitian-penelitian
untuk mendapatkan material-material baru yang bersifat semikonduktor. Bahan
semikonduktor dapat berupa unsur maupun senyawa kimia tertentu. Salah satu
yang paling penting adalah silikon (Si). Bahan silikon adalah bahan
semikonduktor yang mendominasi teknologi elektronik dan fotonik. Bahan
semikonduktor lainnya adalah germanium (Ge). Sedangkan bahan semikonduktor
senyawa bahkan jauh lebih banyak seperti senyawa Zn (ZnO, ZnS, ZnSe), GaAs,
dan beberapa senyawa kimia lainnya. Beberapa senyawa silikon juga merupakan
bahan semikonduktor yang banyak diteliti seperti silikon nitrida (SiN) dan silikon
karbida (SiC).
SiC dijumpai di alam hanya dalam bentuk lempengan heksagonal
berukuran kecil dalam besi meteorik. Bahan yang sama (-SiC) pertama kali
disintesa secara komersial oleh E. J. Acheson (1891) dengan memanaskan
campuran clay dan serbuk C menggunakan panas busur listrik elektroda C pada
temperatur >1600oC.2 Hingga saat ini SiC (-SiC) komersial dibuat dengan
proses Acheson ini. Namun demikian banyak proses baru telah dikembangkan
untuk pembuatan SiC dengan grade lebih tingggi (murni) dalam bentuk fibers,
platelets, whiskers, serbuk, dan lapisan film. Tersedianya bentuk fibre dan platelet
SiC melahirkan ketersediaan komposit bermatriks logam dan keramik dengan
particulate (aplikasi untuk connecting rod dan piston untuk otomotif terbuat dari
matriks Al)3 dan fibrous reinforcement terbuat dari SiC.
SiC dapat diperoleh dengan mudah, karena sebagian besar bahan baku
yang memiliki kandungan silikon (Si) dan karbon (C) dapat dijadikan sebagai
prekursor untuk sintesis SiC (Anggono et al. 2007). Beberapa prekursor seperti,
SiCl4, TEOS, CH3SiCl3, dan SiO2 dapat dijadikan sebagai sumber silikon,
sedangkan karbon dapat diperoleh dari gas CO2, CH4 dan serbuk grafit C (Yang
et al. 2004, Taguchi et al. 2005, Guo et al., 2007, Ju et al. 2007, Dasog et al. 2013,
Prakash et al. 2015).
1.3 Tujuan
1. Mendeskripsikan pengertian silicon carbide.
2. Mendeskripsikan sifat fisika dan kimia dari silicon carbide.
3. Mendeskripsikan karakteristik silicon carbide.
BAB II
TINJAUAN PUSTAKA
2.1 Pengertian Silicon Carbide
Silicon Carbide (SiC) merupakan material keramik non-oksida yang
memiliki sifat fisika dan kimia yang baik seperti, tingginya tingkat kekerasan, titik
leleh, temperatur dekomposisi, dan konduktivitas termal. Selain berperan sebagai
material keramik, SiC juga dapat berperan sebagai material semikonduktor dan
penguat komposit sehingga dapat diaplikasikan pada bidang optoelektronik,
abrasif, dan nuklir (Anggono et al. 2007, Su et al. 2016, Avincola et al. 2017).
Silkon karbida terbentuk melalui ikatan kovalen antara unsur Si dan C.
Unsur C memiliki nomor atom 6 dengan jari-jari atom 0,078 nm. Nomor atom
unsur Si adalah 14 dengan jari-jari atom 0,117 nm (Pierson, 1996). Berbagai
bentuk SiC, seperti batang, kawat nano, lapisan tipis, busa dan serat kontinu telah
dikembangkan sejak awal 1980-an dan aplikasinya semakin meluas seperti pada
bidang militer, dirgantara, otomotif, elektronik dan industri nuklir. Secara khusus,
serat SiC digunakan sebagai penguat komposit untuk keramik suhu tinggi,
substrat pada katalis atau filter suhu tinggi (Richerson, D. W. 2006).
BAB III
KESIMPULAN
3.1 Kesimpulan
Silicon Carbide (SiC) merupakan material keramik non-oksida yang
memiliki sifat fisika dan kimia yang baik seperti, tingginya tingkat kekerasan, titik
leleh, temperatur dekomposisi, dan konduktivitas termal. Selain berperan sebagai
material keramik, SiC juga dapat berperan sebagai material semikonduktor dan
penguat komposit sehingga dapat diaplikasikan pada bidang optoelektronik,
abrasif, dan nuklir.
DAFTAR PUSTAKA
Anggono, J., Anggono, J., Tjitro, S., Wijaya, E., Teknik, J., & Petra, M. K., 2007.
Pembuatan Keramik Silikon Karbida Menggunakan Campuran Serbuk
Kayu Meranti dan Silikon.
Dasog, M., Smith, L.F., Purkait, T.K., & Veinot, J.G.C., 2013. Low temperature
synthesis of silicon carbide nanomaterials using a solid-state method.
Chemical Communications, 49 (62), Page: 7004–7006.
Guo, J.Z., Zuo, Y., Li, Z.J., Gao, W.D., & Zhang, J.L., 2007. Preparation of SiC
nanowires with fins by chemical vapor deposition. Physica E: Low-
Dimensional Systems and Nanostructures, 39 (2), Page: 262–266.
Ju, Z., Ma, X., Fan, N., Li, P., Xu, L., & Qian, Y., 2007. High-yield synthesis of
singlecrystalline 3C-SiC nanowires by a facile autoclave route. Materials
Letters, 61 (18), Page: 3913–3915.
Lee, W. E. dan Rainforth, W. M. (1994), Ceramic Microstructures: Property
Control by Processing, London: Chapman and Hall.
Richerson, D. W. (2006), Modern Ceramic Engineering, pp. 373, Boca Raton:
CRC Press (Taylor and Francis).
Sharma, N.K., Williams, W.S., dan Zangvil, A. (1984), Formation and Structure
of Silicon Carbide Whiskers from Rice Hulls, J. Am. Ceram. Soc., 67 (11),
715.
Taguchi, T., Igawa, N., Yamamoto, H., Shamoto, S.I., & Jitsukawa, S., 2005.
Preparation and characterization of single-phase SiC nanotubes and C-SiC
coaxial nanotubes. Physica E: LowDimensional Systems and
Nanostructures, 28 (4), Page: 431–438.
Yang, W., Araki, H., Hu, Q., Ishikawa, N., Suzuki, H., and Noda, T., 2004. In situ
growth of SiC nanowires on RS-SiC substrate(s). Journal of Crystal
Growth, 264 (1–3), 278–283.