PENGENDALIAN

PROCESS
VARIABLE DASAR
 Flow
 Level
 Pressure
 Temperature
 Sistem Pengendalian Flow
 Elemen proses flow (gas/zat cair) bereaksi cepat terhadap perubahan bukaan
control valve.
 Dinamika Proses: Orde-1 dengan Time Constant relatif kecil (0,5 – 1 detik)
 Time constant elemen proses jauh lebih kecil daripada elemen-elemen
instrumentasinya  perioda response sistem pengendalian flow (1 – 10 detik) lebih
ditentukan oleh elemen-elemen instrumentasi daripada elemen prosesnya
 Sifat pengukuran flow selalu mengandung riak, gelombang, atau noise  diredam
dengan menggunakan damping di transmitter/controller  damping menyebabkan
kelambatan sistem pengukuran  usahakan transmisi sependek mungkin
 Resiko adanya riak/gelombang pada pengukuran flow  PB tidak boleh terlalu
kecil sehingga pengendalian memerlukan unsur integral untuk mengurangi offset
akibat keterbatasan PB  pengendali PI (atau I saja)
 Resiko banyaknya noise  tidak dapat menggunakan unsur D
 Unsur D tidak dibutuhkan karena kecilnya time constant elemen proses flow
 Valve positioner tidak dapat dipakai untuk menghilangkan hysteresis di dalam flow
loop (cascade, master loop jauh lebih cepat dari pada slave  tidak stabil)
Pengukuran Flow
 Metoda pengukuran flow berdasarkan sifat sinyalnya:
 Linier
 Positive displacement, Current, Fluid Dynamic, Magnetic Flowmeter, Sonic, Thermal
 Tidak Linier
 Berasas differential head/differential pressure
 Hubungan antara flow dan beda tekanan ada dalam fungsi kuadratis
 Jika ingin linier diperlukan square root extractor (ketelitian kurang baik di daerah flow
rendah)
 Hubungan antara flow dan beda tekanan:
 P = k.F2
 P = beda tekanan
 k = flow coefficient
 F = flow
 GFE = (perubahan P) / (perubahan F) = dP/dF
 GFE = gain sistem pengukuran
 P = k.F2 dP = 2k.F.dF  GFE = (2k.F.dF)/(dF) = 2k.F = 2(P/F2).F = 2P/F
 GT = (flow normal – flow min)/(flow max – flow min)
 GT = gain transmitter
Sistem Pengendalian Liquid Pressure
 Zat cair memiliki sifat yang berbeda dari gas karena incompressible (tidak
termampatkan)  tidak banyak mengandung unsur kapasitas dan juga tidak
mengandung dead time
 Time constant elemen liquid pressure relatif kecil (0,5 – 1 detik)
 Sifat pengukuran liquid pressure umumnya linier
 Gain elemen prosesnya tidak linier
 Sistem pengendalian liquid pressure pada hakikatnya serupa benar dengan sistem
pengendalian flow  pada dasarnya yang dikendalikan juga flow
 Hubungan antara flow dan tekanan sifatnya kuadratis
 Untuk mengatasi hubungan antara flow dan tekanan yang kuadratis:
 Menggunakan root extractor, atau
 Membuat gain total seluruh loop menjadi linier dengan memakai control valve
dengan karakteristik equal percentage
 Gain elemen proses pressure biasanya tidak sebesar proses flow  PB berkisar
antara 50% - 200%
 Perlu diperhatikan noise dalam sistem pengukuran  penempatan pressure sensor
merupakan salah satu kunci sukses sistem pengendalian liquid pressure (pressure
sensor tidak boleh terlalu dekat dengan sumber tekanan pulsatif)
Hubungan antara liquid pressure dengan
flow pada sistem pengendalian pressure
 Liquid pressure dikendalikan dengan cara mengatur flow di control valve
 P : liquid pressure
 F : flow
 k : flow coefficient

 P = k.F2
 P = P0 + P
= P0 + k.F2

 Gain proses (GP) = perubahan tekanan (output) yang terjadi oleh adanya perubahan
flow (input)
 GP = dP/dF
= 2k.F
= 2(P/F2).F
= 2P/F
= 2 (P – P0)/F
Sistem Pengendalian Level
 Elemen proses level (permukaan zat cair) dapat berupa:
 Proses orde-1 self-regulation, atau
 Proses orde-1 non-self-regulation
 Proses orde-1 self-regulation
 Gain proses (GP) = perubahan level (output) yang terjadi oleh adanya perubahan
flow (input)
 GP sangat tergantung pada besarnya load : pertambahan load (flow-out) akan
membuat GP semakin rendah
Sistem Pengendalian Level ... lanjutan
 Perubahan set-point juga mempengaruhi besarnya GP : pertambahan set-point akan
diikuti oleh bertambahnya flow-in  diikuti oleh kenaikan level  diikuti oleh
bertambahnya flow-out (load) yang akan membuat GP semakin rendah
 Naiknya set-point dari 60% ke 70% memerlukan lebih banyak penambahan flow-in
dibandingkan dengan naiknya set-point dari 30% ke 40% meskipun keduanya
mengalami kenaikan set-point yang sama (10%), hal ini disebabkan karena set-
point tinggi akan membuat GP rendah.
 Ketidaklinieran gain proses (GP) dapat diatasi dengan 2 cara:
 Memasang Control Valve yang mempunyai karakteristik yang cocok dengan proses
 Memasang Divider atau Signal Characterizer
Sistem Pengendalian Level ... lanjutan
 Tidak semua linierisasi dapat berjalan secara sempurna (terutama linierisasi analog
ataupun kompensasi control valve)  ada daerah kerja yang tidak linier  respon
sistem pengendalian berubah:
 Normal, atau

 Respon lambat, atau

 Tidak stabil

 Tuning diprioritaskan pada daerah gain tinggi dan sedikit mengorbankan respon di
daerah gain rendah (respon lebih lambat)

 Time constant elemen proses level sangat tergantung pada kapasitas dan jumlah
suplay
 Mode pengendali yang biasa dipakai: P-only atau PI
 Sistem pengukuran level biasanya masih mengandung noise  unsur derivative
nyaris tidak pernah dipakai
 Gain elemen proses level biasanya cukup kecil  P-only dengan PB kecil, offset
dapat ditolerir
Dinamika Proses
Sistem Pengendalian Level

 Ro = h/Fo
 C dh/dt = Fi – Fo = Fi – h/Ro
 RoC dh/dt + h = Ro Fi
Sistem Pengendalian Level
Kondisi Steady State

 Fi = Fo = Ao(2gh) = kh

 Gain proses (GP) = perubahan level (output) yang terjadi oleh adanya perubahan
flow input (input)
 GP = dh/dFi
 dFi = k.dh/(2h) = (Fi/h).dh/(2h) = (Fi/2h).dh
 GP = dh/dFi = 2h/Fi
Sistem Pengendalian
Surge Tank
 Tidak semua sistem pengendalian level menghendaki process-variable yang selalu
sama dengan set-point  yang penting vessel tidak sampai kosong sama sekali
atau tidak sampai terjadi overflow (tumpah)
 Tujuan utama sistem pengendalian level di surge drum (surge tank) memang bukan
mengendalikan level secara akurat  yang lebih dipentingkan adalah Fo yang tidak
terlalu berfluktuasi seperti Fi (filterasi Fo terhadap Fi). Jika kerja LIC dibuat terlalu
ketat agar PV = SP maka tujuan sistem pengendalian justru tidak tercapai.
 Disebut averaging level control karena level hanya perlu secara rata-rata ada di
sekitar set-point
 Menggunakan pengendali PI. LIC ditune sangat lambat dengan membuat PB besar.
TR dibuat besar agar koreksi level cukup lama.
Sistem Pengendalian
Gas Pressure

 Dinamika proses elemen gas pressure: Orde-1, mirip dengan dinamika proses
elemen level dengan time constant yang lebih kecil.
 Time constant berkisar dalam satuan menit, besarnya sangat tergantung dari
kapasitas maupun sumber energinya
 Semua aspek yang perlu diperhatikan di pengendalian level juga perlu diperhatikan
di pengendalian gas pressure
 Gain proses cukup kecil, PB dapat dibuat kecil
 Sistem pengendalian gas pressure adalah sistem yang sangat stabil
 Pemasangan valve positioner sangat membantu mengurangi hysteresis pada
seluruh sistem pengendalian
Dinamika Proses
Sistem Pengendalian Gas Pressure

 R2 = (P2 – P3)/Fo
 C dP2/dt = Fi – Fo = Fi – (P2 – P3)/R2
 R2C dP2/dt + P2 = R2 Fi + P3
Sistem Pengendalian Temperatur
 Ciri khas: kapasitas elemen besar
 Dinamika proses elemen: selalu lambat, orde banyak (perpindahan
panas)  didekati dengan sistem orde-1 dengan dead time, time
constant bisa dalam satuan menit atau jam
 Elemen pengukuran hampir selalu dilengkapi dengan thermal well
atau thermo well (pelindung elemen pengukuran terhadap fluida
proses yang biasanya korosif atau bertekanan tinggi dan untuk
menghindari terhentinya proses pada waktu mengganti sensor atau
elemen pengukuran)
 Thermo well berupa tabung logam yang dipasang secara ulir di
pipa proses
 Measurement variable bersih dari riak atau noise
 Selalu menggunakan mode PID, bahkan untuk lebih mempercepat
reaksi sistem diperlukan sistem pengendalian feedforward
Sistem Pengendalian Temperatur ...
lanjutan