9.

Unsur-Unsur Golongan IVA Lainnya: Si

Unsur-unsur lain dalam golongan IVA selain karbon adalah Silikon, germanium, timah dan timbal.
Karbon merupakan non logam; silikon dan germanium merupakan metalloid, sedangkan
timah dan timbal merupakan logam.
Karakteristik Umum Unsur-Unsur Golongan IVA
Beberapa sifat unsur-unsur golongan IVA diberikan dalam Tabel 8. Unsur memiliki konfigurasi
elektron kulit terluar ns2np2. Keelektronegatifan unsur golongan IV A umumnya rendah; karbida
yang secara formal mengandung ion C4- ditemukan hanya dalam beberapa senyawa karbon
dengan logam yang sangat aktif. Pembentukan ion +4 tidak terjadi pada setiap unsur, energi
ionisasinya terlalu tinggi. Keadaan oksidasi +2 ditemukan dalam kimiawi germanium, timah dan
timbal. Kebanyakan senyawaan unsur golongan IVA merupakan senyawa kovalen. Karbon
membentuk maksimum empat ikatan. Anggota yang lainnya mampu membentuk koordinasi
yang lebih besar melalui kulit valensi yang diperluas.

Keberadaan dan Preparasi Silikon

Silikon merupakan unsur kedua terbanyak di kerak bumi setelah oksigen. Silikon berada dalam
bentuk SiO2 dan sejumlah mineral silikat lainnya. Si diperoleh dari reduksi lelehan silikon dioksdia
dengan karbon pada suhu tinggi.
SiO2 (l) + 2C(s) → Si(l) + 2CO2(g)
Silikon memiliki struktur mirip intan. Kristal silikon berwarna abu-abu yang melelah pada 1410
oC. Si bersifat semikonduktor sehingga digunakan dalam pembuatan transistor dan sel surya.

Untuk dapat digunakan sebagai semikonduktor, silikon harus memiliki kemurnian yang sangat
tinggi, kadar pengotor kurang dari 10 -7 % (1ppb). Salah satu cara permurnian Si adalah dengan
mereaksikannya dengan Cl2 membentuk SiCl4. SiCl4 merupakan cairan volatil yang dimurnikan
dengan distilasi fraksionasi dan kemudian diubah kembali menjadi Si melalui reduksi dengan H2.
SiCl4 g) + 2H2(g) → Si(s) + 4HCl(g)
Silikat
Silikon dioksida dan senyawa lain yang mengandung silikon dan oksigen menyusun hampir 90%
kerak bumi. Silikat merupakan senyawa di mana atom silikon dikelilingi oleh empat atom O secara
tetrahedra, seperti yang terlihat pada Gambar 18.a. Dalam silikat, silikon berada dalam keadaan
oksidasi yang umum yaitu +4. Ion SiO44- , yang dikenal sebagai orthosilikat, dijumpai sangat sedikit
dalam mineral silikat. Tetrahedral silikat merupakan “building block” struktur mineral. Masing-
masing tetrahedral dihubungkan oleh atom oksigen.
Kita dapat menggabungkan dua tetrahedral silikat dengan pemakaian bersama satu atom
oksigen, seperti yang terlihat pada Gambar 7.18.b. Struktur yang dihasilkan disebut ion disilikat,
memiliki dua atom Si dan tujuh atom O. Bilangan oksidasi atom Si dan O berturut-turut adalah
+4 dan -2. Dalam kebanyakan struktur silikat, sejumlah besar tetrahedral berkombinasi
membentuk rantai, lembaran, atau struktur tiga dimensi, seperti yang terlihat pada Gambar 7.19.
10. BORON
Boron merupakan satu-satunya unsur golongan IIIA yang termasuk non logam. Unsur boron
memiliki suatu struktur jaringan (network) yang diperluas. Titik lelehnya 2300 oC, merupakan
intermediet antara karbon (3550 oC) dan silikon (1410 oC). Konfigurasi elektron boron adalah
[He]2s2 2p1.
Dalam suatu kelompok senyawa yang disebut borana, molekul hanya tersusun oleh boron dan
hidrogen. Borana paling sederhana adalah BH3. Molekul ini hanya memiliki enam elektron
valensi, sehingga merupakan suatu pengecualian aturan oktet. Akibatnya, BH3 bereaksi dengan
molekul BH3 lain membentuk diborana, B2H6, Gambar 7.20. Reaksi ini dapat ditinjau sebagai
reaksi asam basa Lewis, di mana satu pasangan elektron ikatan B-H pada masing-masing molekul
didonasikan ke molekul lainnya. Molekul diborana merupakan molekul yang tidak biasa karena
atom hidrogen membentuk dua ikatan.
Pemakaian bersama atom hidrogen antara dua atom boron mengganti kekurangan elektron
valensi pada setiap atom boron. Meskipun demikian, diborana merupakan molekul sangat
reaktif, terbakar secara spontan di udara. Reaksi B2H6 dengan O2 sangat eksotermik.
B2H6(g) + 3O2(g) → B2O3(s) + 3H2O(g) ΔHo = -2030 Kj

Borana yang lain seperti pentaborana, B5H9, juga sangat reaktif. Boron dan hidrogen juga
membentuk sederetan anion, disebut anio boran. Garam borohidrida (BH4-) digunakan secara
luas sebagai reduktor. Natrium borohidrida (NaBH4) digunakan sebagai reduktor untuk senyawa
organik tertentu.
Satu-satunya oksida boron yang penting adalah borat oksida (B2O3). Senyawa ini merupakan
anhidrida asam borat, yang dapat ditulis sebagai H3BO3 atau B(OH)3. Asam borat merupakan
asam sangat lemah (Ka = 5,8 x 10-10 ), larutan H3BO3 sering digunakan dalam obat mata. Pada
pemanasan, asam borat kehilangan molekul air melalui reaksi kondensasi yang mirip seperti yang
terjadi pada Posfor:
4H3BO3(s) → H2B4O7(s) + 5H2O(g)
Asam diprotik H2B4O7 disebut asam tetraborat. Garam natrium terhidrat hidrat, Na2B4O7.10H2O,
disebut boraks. Larutan boraks bersifat basa dan digunakan dalam produk pembersih dan
laundry.

Pertanyaan:
1. Gambarkan struktur Lewis atom Boron.
 2. Bagaimana caranya atom Boron mencapai struktur elektron valensi agar memenuhi
oktet?
3. Bagaimana terbentuknya molekul diborana yang “tidak biasa”?
4. Berapa bilangan oksidasi boron dalam BH4-?
5. Mengapa B(OH)3 bersifat asam padahal dalam rumus kimianya ada gugus OH?

Sumber:
https://bisakimia.com/2015/11/24/materi-lengkap-kimia-non-logam/
Daftar Pustaka
Brown, Lemay, Bursten, Murphy, “Chemistry The Central Science”, 11th eds, Pearson Educational
International, 2009, hal 930-979.