Anda di halaman 1dari 15

WORKSHOP KEWIRAUSAHAAN

Teknik etsa kimia logam


TEORI PRAKTIS, FORMULA DAN
CARA PEMBUATAN

www.duraposita.com
duraposita@yahoo.co.id
duraposita@gmail.com
1.Etsa logam
z Adalah suatu teknik untuk melukai permukaan logam
dengan bahan kimia.
z Bahan kimia yang digunakan dapat bersifat asam atau
basa tergantung dari logam yang akan dietsa.
z Bahan kimia yang digunakan untuk melukai logam
tersebut dinamakan etchant
2.Komponen etsa kimia logam
z Substrat
z Resist
z Etchant
z Kontainer
z Safety equipmen
Substrat

z Merupakan bahan dari logam yang menjadi target etsa.


z Bahan logam tersebut adalah; besi, baja, kuningan,
tembaga, aluminium, seng.
z Bahan lain seperti gelas, kaca, plastik dapat menjadi
target etsa juga.
Resist

z Merupakan bahan yang digunakan untuk menutup


logam agar tidak menjadi target etsa.
z Terbuat dari bahan yang tahan terhadap serangan
asam atau basa.
z Bahan resist adalah, cat, tinta sablon, stiker, isolasi,
lakban, lilin, dan yang paling kuat adalah aspal powder.
Etchant

z Merupakan bahan kimia yang digunakan untuk melukai logam.


z Menggunakan bahan yang bersifat asam dan basa.
z Struktur etchant asam
z Oxidizing agent; CuCl, FeCL
z Corosive agent; HCl, H2O2, HNO3. H2SO4, H2CrO3
z Oxide remover agent; HF
z Levelling agent; H3PO4
z Modifier ( reduce ionization ); Etilen Glikol, Dietilen glikol
z Wetting Agent;; Surfaktan Acid stable.
Kontainer
z Tempat untuk pengerjaan proses etsa
z Menggunakan bahan yang tahan asam atau basa
z Bahan yang digunakan terbuat dari plastik Polipropilen,
fiberglas, PVC, Teflon, PET, acrylic.
Safety equipmen
z Pengerjaan etsa harus memenuhi prosedur keamanan
z Penggunaan sarung tangan, kaca mata, masker.
z Lemari asam ( agar proses pelepasan gas tidak
mengganggu kesehatan.
3.Prosedur etsa
z Pembuatan desain grafis
z Persiapan larutan
z Prosedur kerja
Pembuatan desain grafis
z Teknik sablon
z Pembuatan gambar pola, dapat dilakukan dengan menggunakan komputer
atau digambar secara manual
z Mencetak gambar pola dengan printer
z Membuat film dari gambar pola.
z Mencetak gambar pola pada screen.

z Gambar langsung pada logam ( cat, aspal )


z Stiker cutting
Persiapan larutan

z Penimbangan bahan kimia


z Pencampuran bahan dalam kontainer tahan asam
z Larutan siap digunakan
z Penggunaan larutan dalam jumlah pengerjaan tertentu
mengharuskan penggantian larutan yang baru.
Prosedur kerja

z Pakailah peralatan keamanan sebelum melakukan pengetsaan


( kaos tangan, kaca mata dan masker )
z Masukkan logam yang sudah didesain dalam kontainer
asam.Sebelumnya bersihkan logam dari lemak agar tidak
menghambat proses etsa.
z Goyangkan agar reaksi kimia berjalan sempurna.
z Jika sudah diperoleh kedalaman yang sesuai, keluarkan logam
dari kontainer
z Bilas dan bersihkan dengan air.
z Hilangkan resist dengan remover atau thinner.
4. Formulasi etchant
Operating Voltage current Etching
Metals Baths Remarks
temperature density rate

5 – 10% sodium hydroxide 40 – 80OC - Welded steel tank


Aluminium
75% vol nitric acid + 25% vol hydrofluoric acid Room - Plastic container

Feric chloride solution (33 Be) 15OC - 100 µm/h Plastic or ceramic tanks
+ 3 – 5% vol hydrochloric acid 45OC - 250 µm/h Plastic, ceramic, stainless
60% vol nitric acid Room - 5 µm/min steel tanks
10% vol sulphuric acide + 2 ½ - 20% chromic Room - 25 µm/min Plastic, ceramic, stainless
Brass or cooper acide Room - steel tanks
Ammonium persulphate 10 – 25% + 7 p.p.m Room 10 volts Plastic or ceramic tanks
mercurous chloride 3 – 5 amp / dm2 Plastic, rubber – lined or
30% ammonium chloride + 5% sodium ceramic tanks.
chloride Anodic

10% ammonium chloride or sodium chloride Room


60% vol nitric acid* Room Plastic tanks
100 amp/ dm2
* not for stainless steel Room Anodic
-
Steels incl,alloy Feric chloride solution – as for copper Room Plastic or ceramic tanks
-
steels 20% vol sulfuric acid Plastic or ceramic tanks
6 volts
Lead lined tank .Anodic.
20 – 30 amp/ dm2
Lead cathodes

600 Plastic, stinless steel or


Zinc 10% nitric acid Room - µm/ ceramic tanks
min

1. Acid concentrations given as percentage by volume of the commercial concentrated acid.


2. Rate of metals removal is depended upon solution temperature, degree of agitation and metal composition.
Etching resists – Transfer of design by the use of steel dies and gelatin pads, or by the silk screen process, and for very large production by the lithographic (offset)
method are usual procedures. Varnish-base inks are used. The resist may by adjusted over with resin and dragons blood then baked. Varnish and lacquers is
applied to protect the reverse side of the metal against etching. Generally a mixture of ordinary mineral and lacquer solvents is used to remover lacquers and
varnishes.
A wide range of resists is now available, including photosensitive materials. For engraved designs, wax or bitumen dissolved in turpentine or carbon tetra chloride
may be used or alternatively waxes or pitch mixtures melted on to the surface. In the production of printing plates, photosensitive resists based upon bichromated
albumen are employed
5.Aplikasi etsa untuk industri
z Hot print dan emboss
z Logo
z Mold ( cetakan )
z Film konduktor
z Spare part elektronik ( kapasitor )
Referensi
z www.uspto.com
z www.duraposita.com
z Electroplating engeenering handbook
z Teknik sablon
z Membuat cat besi
z Elektroplating handbook.