Anda di halaman 1dari 33

• Hal 1- 10 : bentuk korosi

• Hal 11 - 14 : Bentuk – bentuk korosi B


• Hal 15 – 31 : Inhibitor

BENTUK KOROSI
• KOROSI
• Skema sosok bentuk korosi
• 3.1. Uniform Korosi
(Paling umum bentuk korosi)
• Sebuah seragam, penghapusan reguler dari permukaan adalah biasanya diharapkan pa
da modus korosi.
• Lingkungan korosif harus memiliki akses yang sama ke semua bagian permukaan loga
m, dan logam itu sendiri harus metallurgically dan compositionally seragam.
• Interface potensial (postensial korosi) berada di daerah korosi aktif.
• Tingkat korosi mudah ditebak dan dengan demikian dapat diterima untuk desain.
Contoh:
• Korosi baja dalam larutan asam klorida
• Penipisan dan penetrasi baja penyimpanan karbon
tangki untuk asam (H 2 S yang mengandung) minyak mentah
• Atmosfer korosi
Kontrol
• Pilih bahan yang tepat
• Lapisan
• Penggunaan inhibitor
• Anodik perlindungan katodik /
• Relatif tahan korosi logam (R)
• 3.2. Korosi galvanik
• Korosi galvanik terjadi ketika bahan logam berbeda yang dibawa ke kontak di hada
pan elektrolit. Oleh karena itu korosi galvanik adalah tersangka utama ketika se
rangan di persimpangan antara dua logam berbeda / paduan
• kerusakan semacam itu juga dapat terjadi antara logam dan bahan melakukan lain s
eperti karbon dan grafit.
• Korosi adalah terbesar di aktif logam lebih dekat dengan persimpangan antara dua
logam.
• Catatan bahwa dalam kasus ekstrim logam mulia lebih lanjut dapat rusak oleh hidr
ogen.
• Faktor-faktor yang mempengaruhi korosi galvanik:
• Potensial elektroda
• Permukaan karakteristik
• Kinetika reaksi
• Massal sifat solusi, termasuk tingkat alirannya
sifat
• Geometri
• Jenis bersama
• Paduan komposisi
• Galvanic serangkaian beberapa logam komersial dan paduan dalam air laut
• Platinum
• Emas
• Grafit
• Titanium
• Perak
• Chlorimet 3 (62 Ni, 18 Cr, 18 Mo)
• Pelindung C (62 Ni, 17 Cr, 15 Mo)
• Mo 18-8 stainless steel (pasif)
18-8 Stainless steel (pasif)
Kromium stainless steel 11,30% Cr (pasif)
• Inconel (pasif) (80 Ni, 13 Cr, 7 Fe)
Nikel (pasif)
• Silver solder
• Monel (70 Ni, 30 Cu)
Cupronickels (60-90 Cu, Ni 40-10)
Perunggu (Cu-Sn)
Tembaga
Kuningan (Cu-Zn)
• Chlorimet 2 (66 Ni, 32 Mo, 1 Fe)
Pelindung B (60 Ni, 30 Mo, 6 Fe, 1 Mn)
• Inconel (aktif) Nikel (aktif)
• Timah
• Memimpin
• Tin-lead solder
• Mo 18-8 stainless steel (aktif)
18-8 stainless steel (aktif)
• Ni-Resist (tinggi Ni besi tuang)
• Kromium baja stainless, 13% Cr (aktif)
• Besi tuang
Atau besi baja
• Aluminium 2024 (4,5 Cu, 1,5 Mg, Mn 0,6)
• Kadmium
• Aluminium murni komersial (1100)
• Seng
• Magnesium dan paduan magnesium
• Korosi galvanik akan signifikan jika perbedaan potensi korosi antara dua logam /
paduan ≥ 250mV
• Jika dua jenis logam yang berbeda / paduan harus digunakan dalam kontak, disaran
kan untuk memilih paduan dengan potensi korosi mereka sedekat mungkin
• Lain yang penting dalam korosi galvanik adalah efek daerah, atau rasio katodik k
e daerah-daerah anodik. Sebuah rasio yang tidak menguntungkan daerah terdiri dar
i sebuah katoda anoda besar dan kecil, karena korosi logam akan mengambil istana
dengan rapat arus tinggi
• Sifat dan agresivitas lingkungan menentukan untuk sebagian besar tingkat dua log
am korosi.
• Jarak yang terkena tergantung pada konduktivitas larutan.
• Faktor kinetika
(Sejauh mana korosi Fe dapat dikurangi dan seberapa jauh tingkat korosi Al akan
meningkat)
• Kontrol
• Pilih kombinasi logam sedekat mungkin dalam seri galvanik
• Hindari efek luas yang tidak menguntungkan dari sebuah anoda katoda kecil dan be
sar. Bagian kecil seperti pengencang kadang-kadang bekerja dengan baik untuk mem
egang kurang bahan tahan
• Melindungi logam berbeda di mana pun dilaksanakan
• Terapan pelapisan dengan hati-hati. Hindari coating yang menghasilkan efek yang
tidak menguntungkan daerah.
• Tambahkan inhibitor untuk mengurangi agresivitas lingkungan
• Hindari berulir sendi untuk bahan jauh terpisah dalam seri galvanik
• Desain untuk penggunaan bagian anodik mudah diganti atau membuat mereka lebih te
bal untuk umur panjang
• Memasang logam ketiga yang anodik untuk kedua logam dalam kontak galvanik
• 3.3. Celah (Deposito atau Gasket) Korosi
Intensif korosi lokal yang terjadi di dalam celah-celah dan daerah terlindung la
innya pada permukaan logam terkena media korosif
• Mekanisme (yaitu bagian terpaku pelat baja dalam air laut aerasi)
1. Anodik dan reaksi katodik terjadi merata di seluruh permukaan logam term
asuk interior celah reaksi anodik.: Fe → Fe + + 2 e reaksi katodik: O 2 +2 H 2 O 4
e → 4OH -
2. Setelah interval pendek, oksigen dalam celah habis karena keterbatasan k
onveksi, sehingga pengurangan oksigen berhenti di daerah ini dan sel aerasi dife
rensial dibentuk dengan rasio yang tidak menguntungkan anodik ke daerah katodik.
3. Sebagai pembubaran logam di dalam celah terus, kelebihan muatan positif
diproduksi di dalam belahan itu. Ini hasil migrasi ion klorida ke dalam celah.
4. Karena ada beberapa ion besi untuk bermigrasi ke luar dari celah. Karena solu
si tepat di luar belahan itu adalah lebih basa, hidrolisis ion besi yang sedang
terjadi: Fe + 2Cl- + 2H 2 O = Fe (OH) 2 + 2H + Cl -
5. Ion-ion hidrogen cenderung menyebar ke dalam celah terkemuka untuk meningkatk
an keasaman larutan dalam celah (ph bisa turun ke 2-3). Ini ditemukan cepat memp
ercepat korosi baja di dalam celah.
Bentuk korosi dapat menyerang-pasif logam aktif / paduan seperti stainless steel
304, tetapi dengan inisiasi waktu lebih lama secara signifikan.
• Kontrol
1. sambungan las butt Gunakan bukan terpaku atau tebal sendi dalam peralata
n baru lasan. suara dan penetrasi lengkap diperlukan untuk menghindari porositas
dan celah ke dalam.
2. Tutup celah-celah di pangkuan sendi yang ada dengan las kontinu, gala, a
tau solder.
3. Desain untuk kapal drainase lengkap; menghindari sudut tajam dan daerah
stagnan serta pengendapan padatan di bagian bawah kapal.
4. Pemeriksaan peralatan dan menghapus deposit sering.
5. Hapus padatan dalam suspensi pada awal proses atau aliran lembar tanaman
, jika mungkin.
6. Hapus bahan kemasan basah selama shutdowns panjang.
7. Menyediakan lingkungan yang seragam, jika mungkin, seperti dalam kasus p
enimbunan suatu parit pipa.
8. Gunakan gasket nonabsorbent padat seperti teflon sedapat mungkin.
9. Weld bukannya bergulir dalam lembaran tabung.

3.4. Korosi pitting
Sumuran adalah suatu bentuk serangan lokal sangat dalam lingkungan yang mengandu
ng ion agresif yang mengakibatkan lubang di dalam logam.
• Lubang ini mungkin kecil atau besar dengan diameter tetapi dalam banyak kasus me
reka relatif kecil. Diameter permukaan lubang yang kurang lebih sama dengan atau
kurang dari kedalaman.
• Hal ini menyebabkan peralatan untuk gagal karena perforasi dengan berat badan ha
nya persen kecil dari keseluruhan struktur.
• Pitting tidak dapat diprediksi, terutama dalam kondisi membentuk lubang-lubang y
ang dalam. Menilai adalah variabel tergantung pada migrasi ion pasti masuk dan k
eluar dari lubang.
• Ini mungkin dimulai oleh sejumlah diskontinuitas permukaan termasuk inklusi sulf
ida, cakupan inhibitor tidak cukup, hari libur atau goresan di coating.
• Hal ini secara alami dapat terjadi pada logam pasif / paduan karena kerusakan la
pisan pasif pada potensi ≥ E ≥ Pitt atau di E Prot akibat tindakan mekanis yang dapa
t merusak lapisan pasif.
• baja stainless dan aluminium atau paduan aluminium sangat rentan terhadap korosi
pitting
• Korosi sumuran yang dimulai pada lokasi di mana lapisan pasif adalah nyata lebih
lemah dibandingkan dengan daerah lainnya (misalnya karena kadar krom kurang).
• Agresif anion yang dapat menyebabkan korosi sumuran beberapa logam / paduan
• Realisasi hasil pengukuran untuk jenis pit E 304 SS dan paduan C-276
Diukur dengan metode siklik potensiodinamik
• Perhatikan bahwa konsentrasi ion hidrogen di dalam lubang nyata meningkat dengan
meningkatnya kerapatan arus korosi di dalam lubang dan dengan waktu pemaparan.
Ini menghasilkan potensi perlindungan yang lebih rendah (E Prot) yang diperoleh
dari pengukuran saat rapat arus dicapai sebelum reverse scan meningkat.
• data potensi dibandingkan dengan potensi Korosi sumuran (volt vs SCE)
• Mekanisme korosi pitting
Localized adsorpsi ion agresif
Pasif film kerusakan
(Akibat kenaikan potensial korosi ≥ E pitt)
Pitt pertumbuhan
(Jika tidak dapat terjadi Repasifasi)
lubang di dalam laju korosi secara signifikan relatif tinggi, karena proses auto
catalytic
• Autocatalytic proses yang terjadi dalam lubang korosi
• Hanya ratus ppm Cl - ion dapat memulai korosi sumuran pada baja tahan karat aust
enit tipe 304, 316 dan 317
• Kebanyakan sumuran dikaitkan dengan klorida, bromida dan klorida ion hipo. Fluor
ida dan iodida relatif kurang agresif.
• Oksidasi kation dengan ion klorida pitters agresif. Cupric, dan merkuri halida b
esi sangat agresif. Halida oksidasi ion non logam (NaCl, CaCl 2, dll) menyebabka
n pitting tapi ke tingkat yang lebih rendah banyak agresivitas.
• Cupric dan besi klorida tidak memerlukan adanya oksigen terlarut untuk mempromos
ikan serangan.
• Pitting biasanya dikaitkan dengan kondisi stagnan seperti larutan air dalam tang
ki atau cairan terperangkap di bagian rendah dari sistem pipa atau tidak aktif.
Velocity meningkatkan kecepatan, sering berkurang serangan pitting.
• Pengaruh ketahanan pitting paduan pada paduan baja stainless
• Perlawanan pitting Setara
• Beberapa tahun yang lalu Lorenz dan Medawar menemukan hubungan antara Sebelum da
n komposisi:
PRA =% Cr 3,3 x% Mo 16 x N%
Hubungan ini relevan untuk austenitic stainless steel dan fase austenit dalam DS
S (duplex stainless steel), tetapi tidak seharusnya berlaku untuk DSS karena:
i. Nitrogen hampir sepenuhnya diperkaya dalam fase austenit dalam DSS
ii. Fase austenitic dalam DSS biasanya fase lemah sehubungan dengan perlawan
an pitting
iii. Selain itu Nitrogen mengubah koefisien partisi untuk krom dan molibdenum
• Untuk * DSS);
PRA =% Cr 3,3 x% Mo 30 x N%
• Peningkatan suhu dan Cl - konsentrasi nyata akan mengurangi potensi kerusakan pi
tting, sehingga meningkatkan kerentanan dari logam untuk serangan pitting.
• sumuran Kritis suhu (CPT)
• Menghitung faktor pitting
• Kontrol
• Bahan yang menunjukkan pitting, atau kecenderungan untuk lubang tidak boleh digu
nakan untuk membangun pembangkit listrik atau peralatan.
• Beberapa bahan yang lebih tahan sumuran daripada yang lain.
Jenis stainless steel 304
Jenis stainless steel 316
Sanicro 28, Jenis stainless steel 904 L
Pelindung F, Nionel, atau durimet 20
Pelindung C atau Chlorimet 3
Titanium
• Menambahkan inhibitor termasuk meningkatkan pH
• Perlindungan katodik
• 3.5. Selektif Pelucutan (Dealloying)
• pencucian Selektif terjadi ketika satu atau lebih komponen (yang / lebih aktif e
lektrokimia) dari paduan lebih rentan terhadap korosi sisa dari (lebih mulia kom
ponen / komponen) dan, sebagai hasilnya, adalah preferentially dibubarkan.
• Contoh leaching selektif adalah penghapusan selektif seng dari kuningan (dezinci
fication)
• Menyebabkan beberapa lingkungan dan paduan dealloying yang rentan terhadap pencu
cian selektif yang ditampilkan pada tabel berikut.
• 3.5.1. DEZINCIFICATION
• pembubaran selektif seng terjadi pada kuningan (paduan Cu-Zn)> 15% Zn dalam memp
erpanjang
 eksposur terhadap air soda tinggi CO 2 atau klorida. Dua tahap, α + β, p d
u n le ih rent n, terut m jik f se β tinggi  seng kontinu.
• Berger k t u st gn n solusi L m t mendukung ser ng n itu.  
• Pengh pus n seng d un el k ng keropos, lem h l pis n tem g oksid d n tem g
-produk korosi.
• dezincific tion Uniform d l h nikm t oleh-klorid l rut n s m t u murni ir
s m sedikit p d suhu k m r. 
• Peningk t n suhu klorid s mendukung solusi lok l "plug" dezincific tion y ng
sering terj di di tingk t penetr si y ng cep t
• Met logr fi pen mp ng d ri dezincific
 tion plug in kuning n kuning (DA Jones)
• Uniform dezincific tion pip tem g
(Font n )
• Dezincific tion mek nisme di kuning n
• Terg ntung p d potensi nt rmuk , dezincific tion  kuning n proses d p t terj di
oleh pel rut n selektifseng t u oleh co-pel rut n tem g d n seng diikuti de
ng n re-deposisi
  ion tem g .
• pem u r n Selektif zinc d l m l rut n klorid 0.1M terjdi ketik interf ce> po
tensi-0.900V (vs SHE) d n di w h 0.0V. Tingk t d ri proses l m t d n dikontro
l oleh l ju difusi tom seng lu r d ri p du n.   
• Di t s 0,0 V d n di w h 0,2 V vs SHE pem u r n tem g untuk ion ny (CuCl 2
- d n Cu 2 +) h sil d n k n kem li disimp n di situs k todik oleh proses seme
nt si setel h kumul si (d l m lrut  n st gn n) .
• P d potensi di t s pem u r n simult n 0.2V Zn d n Cu terj di deng n l ju diso
lusi y ng tinggi tet pi tidk dezincific tion
Perhitung n potensi kesetim ng n re ksi seteng h sel di ngg p
• Zn + + + 2 e = Zn
• CuCl 2 - + e = Cu + 2 Cl -
• Cu Cl 2 + 2 - + e = 2 CuCl -
• Cu 2 + + 2 e = Cu
• Cu Cl 2 + + - + e = CuCl
• CuCl + e = Cu + Cl-  
• Dezincific tion dise k n oleh pol ris si d ri seny w oksid tor kimi d n dite
r pk n rus g lv nik
Kontrol dezincific tion
• Mengur ngi gresivit ssolusi y itu deng n menghil ngk n oksigen terl rut
• Perlindung n k todik ( i s ny tid k efisien)
• Gun k n h n kur ng rent n untuk pencuci n selektif seperti  kuning n mer h (15%
Zn), Admir lty Log m (30% Zn 1% Sn t u 29% 1% Sn Zn 0,04% Se g i / t u t m
h n kecil + P t u S ), d n cupronikel-nikel (70-90% 30-10% Cu d n Ni) untuk lin
gkung n korosif p r h
3.5.2. GRAPHITIC KOROSI (Gr fitis si)
• Contoh
 umum l in-p du n de d l h proses pencuci n selektif d l h korosi
 gr phi
tic d ri esi cor sering selm j ngk p nj ng pengu ur n did l m t n h d n es
i Cor. Fitting pip y ng mem w ir jug d p t dipeng ruhi ers m deng n rum h
pomp d n impeler, di m n erosi d ri lu r l pis n gr fit mempercep t keg g l n
.
  
•  H l ini terj di sec r eksklusif d l m esi cor kel u, p d j ring n y ng erke
sin m ung n d l m mikrostruktur
  gr
 fit, The. Gr fit ertind k se g i k tod no
dik mempercep
 t pem u r n dek t esi meningg lk n j ring n gr fit, y ng mempert
h nk n entuk struktur l tet pi keku t n mek nik kerugi n.
Kontrol korosi gr phitic     
•  Gun k n ulet (nodul r) c st esi uk n d ri esi cor kel u t u. Ulet esi cor
m lle le tid k memiliki j ring n gr phitic kontinu. Meskipun merek menim ulk n
korosi oleh penetr si ser g m, korosi gr phitic tid k h dir. 
• d n perlindung n k todik Pel pis n k n men ngk p ser ng n di permuk n terku ur
• L in p du n sistem
• Pengh pus n selektif perunggu luminium  luminium di d l m s m klorid d n s m
l inny . Se u h du fse struktur dupleks le ih rent n.
• Pengh pus n ko lt d ri-W p du n Co-Cr

Bentuk korosi y ng le ih p r h;
o Uniform korosi
o Loc lized korosi
• Skecth kurv polriz tion siklik untuk ustenitic st inless steel, menunjukk n ni
l i y ng tep t d ri pitting d n potensi perlindung  n. 
• Meng p potensi perlindung n y ng j uh le ih rend h di ndingk n potensi l p sif
primer? Berik n penjel s n singk t. 
• Korosi sumur n k n dimul i jik potensi korosi d p t menc p i t u le ih tinggi
d ri potensi pitting. Y ng oksid tor y ng d p t meningk tk n potensi korosi log
m? 
• Mem ed k n mek nisme cel h pitting d n korosi p d AISI 304 SS. 
• Meng p l ju korosi d l m sec r signifik n le ih tinggi d rip d di lu r el h
n itu?
• D l m rent ng potensi l y ng mek nisme dezincific  tion di kuning n dimul i deng
n mel rutk n Cu d n Zn d n diikuti oleh redeposition tem g ?
• Y ng elemen p du n d p t meningk tk n ket h n n terh d p korosi sumur n AISI 304
SS.
• Mendiskusik n f ktor y ng mempeng ruhi l ju korosi g lv nis.
• 3.6. Korosi Erosi
3.6.1. Korosi Erosi
Solusi cep t meng lir sering d p t mengg nggu permuk n film kep tuh n d n depos
ito y ng diny t k n k n men w rk n perlindung n terh d p korosi.
Menipis t u pengh pus n film permuk n t u l pis n produk korosikep tuh n ole
h erosi d ri h sil sung i y ng meng lir di dipercep t korosi, dise ut erosi-ser 
ng n korosi
 t u pergeser n. Ser ng n itu merup k n dipercep t di siku,  tur in,
pomp , t ung constrictions,  d n fitur struktur l l inny y ng mengu h r h li
r n t u kecep t n d n tur ulensi meningk t.

Erosikorosi sering terj di ketik h n perus k d l m f se c ir. Suspended soli
ds le ih l njut memper uruk erosi film permuk n d n meningk tk n erosi-korosi.
Ser ng n d p t s ng t serius d l m du lir n f se, di m n u p d n u p ir tete
s n kondens t h dir ers m -s m   
Keku t n-rend h, p du n resistensi kur ng, seperti j k r on, tem g d n lum
inium s ngt rent n terh d p erosi-korosi. The st inless steel, p du n nikel d n
tit nium i s ny t h n,  k ren merek ulet  d n t h n l m p sif  film.
• Korosi-erosi
  er entuk lur, gelom ng, selok n, lu ng- entuk titik ir m t d
n depresi er entuk t p l kud di permuk n.
    
•  Te r drop deng
 n lu ng-lu ng er entuk di w h memotong d l m r h down stre
m, ter entuk p d t ung  kondensor
 kuning n 
• Air M t erosi  er entuk lu ng-lu ng korosi p d permuk n ir pendingin erl
pis luminium elemen
 k r nuklir 
• Eddy tur ulen mek  nisme untuk undercutting hilir lu ng korosi erosi 
• U p-u p-f
 se mem w tetes n ir kondens t, d p t s ng t merus k j norm l. St
eel pip mengem ngk n sk l oksid protektif, t pi momentum menimp tetes n ir
y ng mengikis d n menipisk n oksid d n mempercep t reoxid tion d n korosi perm
uk n y ng mend s ri
• Sulf t sk l permuk n d p t terkikis oleh  s m sulf t p d suhu ru ng n jik ke
cep t n lir n mel mp ui 0.9m/sec  t u jik tur ulensi h dir. 
• Gelem
  ung Hidrogen ter it di t s permuk n pip j k r on d n penyimp n n k p
lmenye k n efek y ng s m d l m s m sulf t. P d kondisi di m, hidrogen gel
em ung d ri korosi mengikuti jej k y ng s m t s permuk  n, deposit sulf t meng
ikis permuk n, d n mengh silk n ser ng n diken l se g i grooving hidrogen.

F ktor-f ktor y ng mempeng ruhi korosi erosi
• Sif t log m t u p du n
• G lv nic efek
• Suhu
• pH
• Kecep t n
D n Sif t log m p du n
ket h n n Korosi d n J ks keker s n D n P ling met lurgi log m p du n komposisi
Kimi d p t, mempeng ruhi kerent n n terh d p erosi-B h n Korosi.
 
Artikel B ru erl ngg n n My log m le ih B ik ket h n n terh
 d p kinerj Korosi
Yngmelek t k n ke n er g m n dih r pk n menunjukk
 n le ih K t Y ng B ik. Dgn
er ring erl ngg n n Myp du n 80% Ni-20% Cr le ih d rip d p du n Unggul-20%
80% Fe Cr KARENA nikel le ih B ik d l h ket h n n terh d p Korosi Y ng Y ng me
lek t USING Fe untuk Artikel. l s n S m p du n Ni-Cu d l h le ih B ik d rip d
p du n Cu-Zn.
 
le ih rent n terh d p erosi-Korosi KARENA merek le ih terg ntung lun k Log m PA
DA Mek nik d l h pem k i n. kriteri Keker s n: P Y ng B ik untuk Artikel ket h
n n terh d p erosi mek nis D nijel r si tet pi tid k sel lu er rti kriteri
B ik untuk Artikel memprediksi ket h n n terh d p erosi-Korosi S tu. S l h metod
e untuk Artikel P sti mengh silk n resistensi erosi-Korosi Y ng B ik d l h peng
er s n l rut n p d t y ng. H l meli tk n Su miD nijel Pengur ng n S tu elemen
untuk Artikel mengh silk n su tu l rut n p d t er ring Y ng t h n Korosi D n s
ec r inheren sulit.
Tinggi p du n Besi Silikon (Si 14,5%) sec r inheren ker s D n B h n t h n Koros
i terut m d l m s m (kecu li HF) d n netr l d l h Solusi. INI h ny d p t dig
un k n p du n Y ng Di ny k Korosi-erosi p r h kondisi
Al m d n sif t film pelindung 
A, ker s p d t, kep tuh n, film terus d n mud h untuk p siv si-ul ng mem erik n
perlindung n y ng le ih ik. 
 j St inless terg ntung p d p sif untuk ket h n n terh d p korosi, ki tny
B
h n ini rentn terh d p erosi-korosi. B h n ini tid k menunjukk n penurun n e
r t d n d n en r- en r p sif d l m kondisi st gn n, tet pi ser ng n y ng cep
t d ri m teri l oleh-ferrous sulf t u ur s m sulf t terj di di kecep t n tingg
i.
 
Korosi resistensi
 tim l d l m l rut n s m sulf t terg ntung p d pem entuk n o
ksid -tim l sulf t memimpin l pis n pelindung
 p d permuk nny . P d kecep t n
tinggi l pis n pelindung ini tid k ter entuk d n h sil sec r signifik n ser ng
n cep t oleh s m sulf t.  
• Pen m h n unsur ketig y ng d p t mengh silk n l pis n pelindung
 le ih st il m
eningk tk n ket h n n h n terh d p erosi-korosi. Pen m h n moli denumuntuk
ustenitic
 st inless steel 18% Cr-8% Ni untuk memproduksi jenis 316SS mem u tny
le ih t h n terh d p korosi d n erosi
 korosi.  
• Perl w n n d ri j d n esi-kromium p du n ke per ir n s m t m ng w h kond
isi korosi-erosi menunjukk n peningk t n ket h n n g ris lurus  deng n peningk t
n kromium s mp i 13% (tid k menyer ng setel h 13% Cr t u le ih tinggi).  
• Durimet 20 (30% Ni, 20% Cr, Cu 3,5% d n 2% Mo) menunjukk n kinerj y ng le ih
ik d rip d 18-8 SS di m r h s m nitr t,  ir l ut, d n lingkung n l inny
 uk n
h ny k ren perl w n n y ng melek t le ih ik tet pi jug k ren le ih film p
rotektif ter entuk.   
• D lm l rut n N Cl jenuh oksigen
 tem g diser ng le ihd ri kuning n. H m t n
y ng le ih  ik d ri kuning
  n ini dise k n st ilit s y ng le ih es r d ri me
lindungi se u h film u- u gel p CuO. Di sisi l in film  kuning cokl t d n hit
m CuCl 2 y ng kur ng pelindung, k n ter entuk pd tem g . 
• Tit nium t h n terh d p korosi-erosi di ny k lingkung
 n k ren st ilit s film
2 TiO ter entuk menunjukk n. Ini resistensi y ng s ng t ik untuk ir l ut d n
solusi klorid dn jug untuk m r h s m nitr t.
• j d n j p du n rend h t ung peril ku pen ng n n miny k p d suhu tinggi d
l m kil ng miny k umi g k terg ntung p d permuk n film ter entuk. Ketik fi
lm mengikis, ser ng n cep t terj di.
• G lv nic efek
Efek g lv nik mungkin nihil d l m kondisi st tis t pi mungkin s ng t meningk t k
etik ger k n h dir
• Suhu  
Peningk t n suhu k n menye k n ser ng n meningk t.
• pH 
Terg ntung p d sift d n komposisi produk korosi p d t ter entuk p d permuk n
log m, pH l rut n erv ri si-korosi l ju erosi.
• Kecep t n
Kecep t n lingkung n mem ink n per n penting d l m erosi korosi-korosi p mern.
Ini efek penggun n mek nis p d nil i tertinggi d n terut m ketik solusi eri
si p d t d l m suspensi. Ini sering mempeng ruhi mek nisme re ksi korosi.
Meningk tk n kecep t n umumny h sil  d l m ser ng n meningk t, terut m jik tin
gk t lir n lir n es r y ng terli t. Efek ini mungkin nihil t u meningk t pe
rl h n s mp i kecep t n kritis terc p i, d n kemudi n d p t meningk tk n ser ng
n deng n kecep t n tinggi.   
• Korosi log m (MDD) deng n ir l ut erger k deng n kecep t n y ng er ed
• Peningk t n kecep t n d p tmeningk tk n t u mengur ngi ser ng n, terg ntung ef
ek
 p d mek nisme korosi y ng terli t. Ini dp t meningk tk n ser ng n terh d p
j deng n meningk tk n supl i oksigen, k r on dioksid , hidrogen sulfid t u
kont k deng n permuk n log m. 
• Kecept n d p t menurunk n ser ng n d n meningk tk n efektivit
 s inhi itor deng
n penyedi n h n kimi ke permuk n log m p d tingk t y ng le ih tinggi.  
• kecep t n y ng le ih tinggi jug d p t menurunk n ser  ng n di e er p k sus den
g n menceg h pengend p n lumpur t u kotor n y ng k n menim ulk n korosi cel h.
• B ny k st inless steel memiliki kecenderung  n ku t untukpit dn menderit koros
i cel h d lm ir l ut d n klorid l inny . N mun e er p d ri h n- h n y ng
digun k n erh sil d l m ir l ut, menyedi k n ir y ng terus erger k deng n k
ecep t n y ng cukup es r. Mosi ini menceg h dsorpsi Cl - y ng d p t memul i ko
rosi pitting.
• Kontrol
• Des in t u pemilih n m teri l. 
Redes in per l t n untuk mengur ngi kecep t n permuk n d n tur ulensi d ri lir
n proses menimp . 
G nti deng n p du n t h n korosi le ih
• Mengur ngi pH l rut n
Y itu deng n penyesu i n pH, k ndung n oksigen terl rut menghil ngk n, d n penur
un n suhu.  
• Pen m h n inhi itor t u p ssiv tor   
• Menggun k n kete l n gi n y ng le ih es r t u pengg nti n gi n- gi n y n
g mud h rent n
• Co tings
• Perlindung n k todik
• 3.6.2.
  Kerus k n kvit si 
Ap k h dise k n oleh pem entuk n d n runtuhny gelem ung u p d l m c ir n dek
t permuk n log m 
• Adv nced k vit si pomp d ri esi cor inlet
• Mek
 nisme k vit si kerus k n
1. Se u h entuk gelem ung k vit si p d film pelindung.
2. Gelem ung runtuh d n mengh ncurk
 n film

3. Corrodes
 permuk n log m ter uk y ng ru d n film direform si
4. B lon entuk k vit si ru di temp t y ng s m .
5. Gelem ung runtuh d n mengh ncurk n film 
6. Corrodes permuk n log m y ng ter uk d n ru reform si l pis n p sif.
Pengul ng n proses ini h sil di ked l m n lu ng
• Kontrol  
Proteksi
 k todik k d ng-k d ng menguntungk n k ren efek nt l n hidrogen erke
m ng di permuk n. 
Le ih p du n t h n korosi k vit si menol k t pi tid k ke l.
H ti-h ti des in diperluk n untuk penurun n tek n n diminim lk n di permuk n di
ken k n tinggi kecep t n lir n c ir n.
pomp oper si y ng tep t d n per l t nl inny y ng diperluk n.
Smooth seles i p d impeler pomp d n ling- ling
mengur ngi kerus  k n k ren permuk n y ng h lus tid k menyedi k n situs untuk n
ukle si gelem ung. 
Menyedi k n Co tings ulet seperti  k ret d n pl stik (ing t hw ik t n keg g l
n nt r l pis n log m dihu ungk n sering terj di sel m oper si).
• 3.7. Intergr nul rKorosi   
Loc lized ser ng n di d n erse el h n deng n t s utir, deng n sedikit korosi
rel tif p d utir 
• 3.7.1 korosi. Intergr nul r (IGC) dri j st inless ustenitic 
•  D l m rent ng temper tur nt r k r id M 23 C 6 d l h end p n di sep nj ng t
s utir) ini. Krom mengkonsumsi huj n tom  (M: ke ny k n Cr d n sis ny Fe d n
Mo
 d n deng n demiki n mengh silk n Cr h is zon sekit r end p nk r id . The-
h is zon krom j uh kur ng t h n korosi d ri utir sekit  rny . Se u h per
 ndin
g n lu s re l y ng tid k menguntungk n terdiri d ri se u h k tod y ng es r d
n entuk nod kecil d n h sil d l m ser ng n g lv nik lok l mikroskopis y ng me
ng r h ke IGC. 
•  Aki tny , pem n s n j t h n k r t ustenitic di wil y h ini suhu h sil k n
di j st inless pek (sensitif terh d p IGC).
•  Nikel meningk tk n ktivit s k r on d l m l rut n p d t, mempromosik n presipit
si k r id dn dengn demiki n meningk tk n kepek n terse ut.  
•  Moli denum erperil  ku g kmirip krom, mel ink n se g i presipit t kr id p d
ts utir d n deplesi erkontri usi terhd p sensitis si. H l ini sedikit
ny k erpeng ruh, kren konsentr  si y ng le ih rend hd l m p du n.
• Perh
  tik n hw  k r id tid k menyer ng, IGC j st inless ustenitic d l h k
ren pem u r n zon h is.
Peluruh n Weld  
Sensitis si d ri j t h n k r t ustenit sel m pengel s n l s diken l se g i
peluruh n.     
• Kh s korosi t s utir d ri pek AISI 304 SS di w h pem e n n st tis konst n
3.7.2. PISAU LINE SERANGAN
 (KLA)   
• KLA dl h entuk lok l y ng s ng t dri IGC y ng  terj di h ny untuk e er p
utir di meter er t s n l ngsung deng n l s e d d l m j t h n k r t usteni
t st il (tipe 321  d n 347)
   
•  D l m st il k r on st inlesssteel tel h ereksi deng n N / Ti untuk mem entu
k k r id st il. Deng n demiki n pem entuk n krom k r id tid k terj di ketik
m teri l dip n sk n p d rent ng suhu kritis.
• Ketik m teri l dip n sk n> 1230 0 C (sel  m pengel s n) diikuti oleh pendingin
n y ng cep t, k r on tom di lok  si di se el h e d pengel s n k n tet p d l m
l rut n p d t. Jik h n terse  ut dip n sk n s  mp i suhu kritis, kepek n lok l
sed ng terj di di temp t. Aki tny keg g l n is terj di oleh IGC konvension
l di wil y h pek sempit.
Menceg h IGC
• Peru h n lingkung n. 
kur ng d n oksid si kondisi ke s m n rend h i s ny k n mengur ngi kerent n n
IGC
• Solusi nil.  
Mem n sk n p du n di t s 815 0 C untuk kem li l rut k r id krom d n diikuti d
eng n pendingin n cep t (sering  deng n ir rend m n)
•  Mengur ngi k d rk r on untuk ≤ 0,03%
k r id kromium k n mem entuk tet pi m teri l tid k sensitif terh d p IGC
• Gun k n st inless steel st il
Menceg h KLA    
• Pem n s n di t s 815 0 C untuk mem u rk n k r id kromium d n untuk mem entuk
N / k r id Ti p d w ktu y ng s m .
 
3.7.3. IGC d ri feritik krom esi- j st inless
• j t h n k r t feritik pek h ny setel h pem n sn di t s 925 0 C, dim n ke
l rut n k r on d n nitrogen menj di signifik n d l m ferit j . K ren rend h k
 
el rutn interstisi di ferit, j st inless feritik y ng pek j uh le ih cep t
d n le ih rend h p d suhu st inless. feritik d ri IGC tid  k d p t diceg h oleh
nil solusi d n memu sk n ir t u dengn mengur ngi k r on di w h 0,03% h rus
. Merek dirend m p d 8000 C t u l m t didingink n di wil y h 700  0 900 0 C
untuk mengisi
 h is t s utir-krom deng n difusi untuk sekit rny utir. 
• j
 t h n k r t Duplex y ng s ng t resisten terh d p IGC. Chromium
 ditol k ( er
difusi) le ih cep  t d ri ferit d ri ustenit d ri  p d suhu sensitis si i s , d
n mem entuk k r id preferenti  lly di- ustenit t s ferit. Sensit si untukIGC
diceg
 h k ren d l m k r on y ng cukup tet p untuk mengend pk n k r id di t
s utir ustenites.
3.7.4. Intergr nul r korosi p du n l inny
•  keku t n Tinggi luminium lloys diend pk n terg ntung f se rent n terh d p koros
i t s utir. Ie the-jenis  p du n durluminum (Al-Cu) y ng ku t k ren  seny
 w
presipit si CuAl 2 h n. potensi l Su st nsi l per ed n nt r tem g h is d
er h sekit rny d n tel  h didemonstr sik n. S t ini p du n d l h solusi-dip   d
mk n untuk menj g tem g d l m l rut n, kepek nny terh d p korosi t s ut
ir s ng t kecil tet pi merek memiliki keku t n y ng rend h 3. presipit  tl in,
seperti FeAl, Mg 5 Al 8, Mg 2 Si, MgZn2 d n MnAl 6 sep nj ng g ris t s utir d
n slip d l m sistem p du n luminium l inny menunjukk  n k r kteristik g k mir
ip, t pi mungkin kur ng dr stis. Intermet lics ini le  ih ktif dengn luminium
m triks d n menimulk n korosi le ih cenderung p d t s utir. Be er p m gnes
ium-d n-d s r tem g p du n d l h k tegori y ng s m .  
• Die p du n seng luminium cor y ng meng ndung menunjukk n korosi t s utir den
g n u p d n su s n l ut
• Korosi d l m t ngki penyimp n n dimonitor oleh  penyelidik n t h n n listrik y ng
terdiri d ri k w t deng  n di meter 0,2 inci d n ter u t d ri h n y ng s m de
ng n t ngki. Setel h 8 ul n penggun n, resist nsi diukurmeningk t d ri 20,40
ke 22.80Ω, kedu ny diukur p d suhu y ng s m . Setel h di ersihk n pemeriks nmi
kroskopis d ri permuk n interior t ngki mengungk pk n sumur n j r ng deng n e
er p lu ng sed l m 0,012 inci.
o Ap l ju korosi ser g m di mpy?
o Hitung f ktor pitting.

Bentuk – entuk korosi B
3.8. Pengelup s n Korosi
 
Pengelup s n d l h wh permuk n korosi y ng di w li p d permuk n y ng ers
ih,tet pi menye r di w hny . H sil Ser ng n di pen mpil n dil min si. Ser ng
n i s ny diken li oleh permuk n k d ng-k d ng melepuh keripik.
Pengelup
 s n korosi, tertentu d ri IGC di luminium, h sil d ri pem p r n ke tm
osfer er g i industri d n kel ut n. P r h p r h Pengelup s n s ng t korosi  tel
h terj di kur ng d ri 24 ul n di tmosfer p nt i l ut tercem r d n ≤ 48 ul n di
ped l m n tmosfer industri.
  
Ser ng n terj di p d t s utir utir mem nj ng ke r h rolling  produk. Korosi
memiliki volume y ng le ih es r d rip d log m induk, d n lok utir d p t ter
ngk t d ri permuk n log m.   
The-keku t n 2xxx tinggi
 d n p du n 7xxx y ng p ling rent n, ers m deng n e e
r p p du n dingin ekerj 5xxx.
Kontrol
• Pengh pus n polut n ud r tertentu  seperti H 2 S d n SO 2.
• Menggun k n p du n keku t n le ih rend h seperti seri 6xxx.
• Tempering melew ti usi penger s n m ksimum ini k n meningk tk n ket h n n terh
d p pengelup s n. 
3,9. Lingkung n Terim s Cr cKing 
EIC d l h istil h umum untuk keg g l n mek nik get s hw h sil d ri sinergi
nt r teg ng n t rik d n lingkung n korosif.  
usssu
 lly l ju korosi y ng rend h, d n des in menek nk n menye k n EIC sering
di w h teg ng n luluh. N mun, il teg ng n t rik d n lingkung n korosif dig
ungk n, EIC d p t h sil.
Lingkung n Terim s Cr cKing 
(Keg g l n r puh mek nik h sil hw d ri sinergi nt r teg ng n t rik d n ling
kung n korosif) 
D l m situ si tertentu, le ih d ri s tu d ri tig mungkin oper si, n lisis rumi
t le ih l njut keg g l n d n penentu n penceg h n oppropri te 
des in d n teknologi ru terus permint n p du n kinerj y ng le ih tinggi y ng
h rus mengh d pi kondisi y ng le ih p r h m sih stres, suhu dn korosi. Modern
p du n keku t n d n ket h n n korosi y ng tinggi seringk li le ih rent nterh  d
p EIC. Aki tny , kej di n EIC (SCC, CFC d n HIC) meningk t pes t d l m e er p
t hun ter khir k ren ellusiveness mek nisme merek d n ketid kp sti n result n
d ri kej di n merek .
K r kteristik d ri lingkung n ret k diinduksi
3.9.1. Stress corrosion cr cking (SCC) 
Korosi ret k teg ng (SCC) didefinisik
 n se g i nukle si ret k d n prop g si p d
log m / p du n y ngdise k n oleh tind k n sinergis d ri teg ng n t rik, i
k tet p t u sedikit eru hdeng  n w ktu, ers m deng n re ksi kimi ujung ret
k t u lingkung n y ng dise k n efek ujung ret k.
keg g l n SCC d l h keg g l n get s p d rel tif rend h teg ng n t rik konst n
d ri p du n terp p r d l m lingkung  nkorosif
  tertentu. 
N mun fr ktur khir k ren kele ih n e n- gi n nt l n sis tid k l gi SCC.
Tig kondisi y ng h rus d sec r ers m n untuk mengh silk n SCC:
- Lingkung
 n y ng kritis
- Seu h p du n rent n
- Be er p komponen teg ng n t rik 
Meskipun ketig f ktor ini tid k ussu lly h dir ers  m -s m , w ktu d n kondisi
selul r mungkin ersekongkol  untuk mengh silk n kom in si y ng diperluk n y ng m
eng ki tk n keg g l n ki t SCC
Met lurgi EFEK
log m murni le ih t h n SCC d ri p du n d ri log m d s r y ng s m tet pi tid k
ke l.
SCC ik d p t tr nsgr nul r t u intergr nul r, t pi ret k m kroskopik mengikut
i j lur umum y ng sel lu norm l komponen t rik stres.   
D l mkeg g l n tr nsgr nul r, ret k-ret k mer m t di utir i s ny d l m spes
ifik id ng [krist l (100), (110) d n (210)]
keg g l n tr nsgr nul r kur ng umum d rip d SCC intergr nul r, tet pi kedu ny
mungkin d d l m sistem y ng s m terg ntung p d kondisi.  
Cr cking terut m oleh fr ktur mek nis, deng  n sedikit t u pem u r n elektroki
mi korosi sel m proses fr ktur. N mun pem u r n nodik tid k mem ink n per n
penting.    
Modus keg g l n intergr nul r menunjukk  n inhomogeneity
  e er p di t s utir.
Mis lny , pemis h n S d n P p d t s utir menye k n SCC intergr  nul r  j
pdu n rend h.B hk n, SCC intergr nul r mungkin h sil stres-di  ntu korosi t
s utir k ren p du n y ng p ling menunjukk n keg g l n terse ut jug menunjukk
n sedikitny ukti y ng  lem h korosi intergr nul r t np stres.
Kh s ret k n mikro ter entuk sel m SCC AISI 304 SS sensitif
Efek elektrokimi
  
C t t n hw non-rent n-lingkung n p du n kom in si, tid k k n ret k p du n
hk n jik di d k n di s l h s tu zon potensi l.
Suhu d n komposisi l rut n (term suk  pH, oksid si terl rut, ion gresif d n inhi
itor t u p ssiv tors) d p t mengu h peril ku pol ris si nodik untuk memungki
nk n SCC.
Kerent n n terh d p SCC tid k d p t diprediksi h ny d ri kurv pol ris si nodi
k. 
Su s n -Pdu n Kom insi Diken l Mengh silk n SCC
Cr ck tum uh H rg se nding deng n rus pem u r n teg ng nodik di permuk n e
lektrod . Perj nji n ntr ret k tum uh t rif d n kep d t n nodik s t ini umu
mny sud h ik,. N mun e er p sistem terut m merek deng n cep t tr nsgr nul
r ret k ( usteniticst inless steel d n lph mis lny kuning n) tel  h ret k tu
m
  uh tingk t y ng le ih tinggi d rip d y ng is dipert nggungj w k n oleh pem
u rn elektrokimi sederh n .
pem u r n nodik mungkin inniti tes proses elektrokimi fr ktur mek nis.
Ad ukti hw solusi d l m microvolume ret k menj di di s mk n, mungkin oleh r
e ksi hidrolisis  mirip deng n y ng terj di di pit.  
tingk t pertum uh n Cr ck se nding deng n rus pem u r n teg ng nodik di perm
uk n elektrod
SCC terj di ketik intensit s ret k> K ISCC
Model stres korosi  ret k
Slip l ngk h pem  u r n model
Terputus pertum uh nintergr nul r ret k
Cr ck nukle si oleh  ris n korosi mikro-terowong n
Penyer
 p n menye k n perpec
 h n
mo ilit s Permuk
 n ( tom ermigr si d ri ujung ret k)
Hidrogen em rittlement
  → HIC 
Slip l ngk h pem u r n model, TGSCC y kni j t h n k r t ustenit homogen d l
m l rut n N Cl 
Terputus-putus intergr nul r y itu pertum uh n ret k di kuning n lph polikrist
lin d l m l rut n s moni
nukle si Cr ck oleh ris n korosi mikro-terowong n di l ngk h slip diikuti oleh

ulet mero ek lig men y ng tersis .
SCC ini
 terj di p d potensi tertutup deng n potensi sumur n. H l ini d p t terj
di se g i TGSCC   j st inless
Penyer p n menye k n perpec  h n.
B melem hk n penyer p n o lig si ujung ret k
METODE PENGUJIAN
SCC d n HIC meli tk n teg ng n konst n d n metode penguji n umumny umum untuk
kedu ny .
Kh s Metode penguji n SCC d n HIC;
Konst n deform  si tes
Diterim
 tes e n
L m t l ju reg ng n penguji n
KONSTAN DEFORMASI TEST
P r meter y ng digun k n untuk mengukur ket h n n terh d p SCC tel h w ktu untuk
keg g l n. inform si y ng ergun Tel h ny k er s l d ri w ktu ke Teknologi
Inform si konst n-deform si v ruious (reg ng n konst n) spesimen.;
U-Spesimen lengkung → ASTM G 30
C-cincin spesimen
 → ASTM G 38
Bent spesimen lok → ASTM G 9
T rik spesimen → ASTM G 49  
Konfigur si uji SCC menggun k n spesimen t rik mem erik n kend li ter es r d ri
tes diter pk n.  
spesimen deform si konst n dirend m d l m l rut n ung , dih pus sec r erk l ,
d n diperiks untuk ukti visu  l ret k korosi teg ng n sewen ng-wen ng itu. w k
tu untuk keg g l n w l upun, i s ny dinil i pen mpil n pert m d ri cel h di p
ermuk n t rik.  
-Perpind h n spesimen konst n port el, ringk s mud  h dif rik si, d n d p t den
g n mud h untuk ditemp tk n d l m proses lirn p rik-p rik untuk penguji  ndi

Tes ini menderit kerugi n titik tertentu. Se g i ret k memul i d n tum uh, e
n t u ten g pengger k SCC untuk menurun. Deng ndemiki n, spesimen   h rus g k
terl
 lu di m
 il untuk mengh silk n visu l det ct
 le ret k se elum e n tel h
mem usuk ke hw SCC k n ret k tid k l gi tum  uh.
Spesimen persi p n, penemp t n, d n inspeksi erikutny d l h p d t k ry .
Berkel njut n LOAD UJI  
cincin Mem uktik
 n digun k n untuk mener pk n e n y ng diperluk n 
Inform si le ih l njut d p t diperoleh deng n perek m n perp nj ng n se g i fun
gsi d ri w ktu ke w ktu
t ss: w ktu tr nsisi
t f: w ktu untuk keg gl n
L ss: perp nj ng n st il neg r
Nishimur proksim si;
t f =-log log L ss + C 1  
Deng n penentu n TSS L ss se elum ti w ktu untuk keg g l n d p t kemudi n dipr
ediksi.
Mek nisme keg g l n spesimen terg ntung p d teg ng n w l diter pk n p d spesi
men.
 D l mk sus tegng  n w l d l h le ih tinggi d rip d ku t luluh keg g l n
se gi n es r dise k n oleh f ktor mek nik, sed ngk n p d k sus teg ng n w
l d l h keg g l n rend h mungkin k n didomin si oleh proses korosi. SCC k n
terj di jik teg ng n wl er d di d er h 2.
W ktu untuk keg g l n se g i fungsi d ri pH lingkung n
PERLAHAN
 STRAIN RATE PENGUJIAN
Be er p p r meterd p t digun k n untuk menil i keg g l n SCC d l m tes reg ng
n-tingk t y ng l m t term suk w ktu untuk keg g l n, perp nj ng n t u reg ng n
pd keg g l n, d n pengur ng n re persen.
Be er p perco n diperluk n untuk menentukn l ju reg ng n kritis untuk penguj
i nSCC i s ny dek t -1 10 -6 detik untuk esi, luminium d n p du n tem g .
Di w h l ju reg ng  n kritis, kinetik pem entuk n film cukup cep t y ng pec h
disem uhk n film se elum peristiw korosif d p t terj di, d n ulet keg g l n di
m ti
Untuk HIC, tom hidrogen mud h d p t mem sukk n kisi di semu tingk t reg ng n y

ng le ih rend h, d n tid k d minim  l d ktilit s y ng dih r pk n. 
Di t s tingk t reg ng n kritis,  pem entuk n film tid k d p t mengim ngi deng n
str in mek nik pl stik, d n end uji g g l deng n c ngkir i s d n pec h ulet
kerucut.
Pengend li n / penceg h n
Mengur ngi tingk t stres diter pk n
H pus sis teg ng n t rik (stress intern l)
Menurunk
 n gen oksid si d n / t u spesies y ng kritis d ri lingkung n
T m hk n inhi itor 
Gun k n p du n le ih t h n
Perlindung n k todik
3.9.2. Korosi kelel h n Cr cking 
kelel
 h n Korosi ret k (CFC) d l h keg g l n get s d ri su tu p du n y ng dise
k n oleh fluktu si stres di lingkung n korosif.
Ret k permuk n d ri CFC terk d ng menunjukk n t nd p nt i m kroskopik m n pro
duk korosi ter kumul si di front muk ret k kontinu.   
Frekuensi
 teg ng n siklik penting dN. Hilir frekuensi menye k n ret k y ng le
ih es r untuk prop g si per siklus (d /) menghil ngk n s ng t tinggi. Frekuens
i d mp k lingkung n korosif
Stres r isers seperti t kik t u meningk tk n kerent n n kek s r n permuk n kel
el h n korosi.
Kedu p du n d n log m murni y ng rent n d n tid k d lingkung n tertentu diper
luk n.
Meningk tk n r sio R (r sio minimum untuk teg ng n m ksimum d l m siklus) umumny
menurunk n ket hn n terh d p korosi ftik.
Peng ruh R j uh le ih rend h t u tid k erpeng ruh p d kelel h n di lingkung n
non korosif p d suhu lingkung n.
R = min S / S m x
siklik mengur ngi stres K Ic ke K eng n
Korosi k n mengur ngi eng n K ke K Icfc (sulit untuk mengukur)
CFCmirip deng n SCC k ren solusi korosif mendorong p t h get s d l m p du n y
ng i s ny ulet d l mlingkung
 n non korosif. D l m CFC, stres  d l h siklik te
t pi h rus setid kny e er p komponen t rik. CFC ret k mer m t teg k lurus te
rh d p teg ng n t rik ut m , seperti di SCC. 
Tingk  t korosi minimumtent ng 1mpy tel h di m ti untuk j .
CFC i s ny le ih l m t, tips tumpul, d n produk korosi le ih mungkin untuk h
dir di ret k.
Pengend li n / penceg h n
Mengur ngi t u menghil ngk n stres siklik
Menurunk
 n oksid
 tor t u meningk tk n pH l rut n
T m hk n inhi itor 
Gun k n p du n le ih t h n
Gun k n l pis n pengh l ng
Perlindung n k todik 
3.9.3. Hidrogen Terim s Cr cking  
HIC d l h p t h get s mek nis y ng dise k n oleh penetr si d n difusi hidroge
n tom d l m struktur krist l p du n.
H 2 O + e → H ds + OH -
H ++ e → H ds 
ds H d p t menye r ke d l m log  m / p du n
Seti p z t y ng d p t menund pem entuk n hidrogen g s seperti S 2 - d n As 3 +
mendorong difusi tom hidrogen ke d l m log m.
er ir hidrogen sulfid , H 2 S, sec r dr m tis mempercep t entrihidrogen d n h
idrogen kerus k np d p du n p ling k ren S2 -r cun nion pementuk n g s hi
drogen d ri H ds d n mem erik n ktivit s le ih es r d ri H ds di permuk n
log m. H silny d l h k d ng-k d ng dise ut stres sulfid korosi  ret k.
HIC i s ny l zim d l m p du n esi k ren kem mpu n slip di t si BCC struktur
merek .  
HIC umumny ter t s p d j memiliki keker s n ≥ 22 sk l Rockwell C.
FCC st inless steel, tem g , luminium d n nikel p du n t h n le ih k ren d kt
ilit s melek t difusivit
 s tinggi d n rend h untuk hidrogen tet pi  menj di rent
n jik keku t n ekerj s ng t dingin.  The FCC BCC st inless
 d n j jug t h n
k ren rend h, t pi sek li l gi mem u t rent n deng n ekerj dingin.
pdu n re ktif d ri tit nium, zirconium, v n dium, nio ium d n t nt lum, d p t e
m rittled oleh l rut / form sihydrytes l rut. 
efek HIC sering proses reversi el. B king d p t mengur ngi em rittlement k ren
penetr
 si hidrogen.
Per nding n deng n stress corrosion cr cking 
HIC mirip deng n SCC k ren p t h get s terj di p d lingkung n korosif di w h
teg ng n t rik konst n.
Pol ris si k todik y ng d p t mengh silk n ikl n H memul i t u meningk tk n HIC
t pi menek n t u menghentik
 n SCC.  
HIC ret k i s ny tid k erc ng ( t u h ny sedikit erc ng), s ng t r puh
d n cep t tum uh.
HIC i s ny dim ksim lk n p d t u dek t suhu k m r sement r meningk tk n ker
ent n n SCC deng n suhu. 
ret k HIC le ih sering tr
 nsgr nul r (kecu li d l m dingin- ekerj nikel p du n)
d ri intergr nul r, er ed deng n SCC, di m n intergr nul r cr cking domin n. 
Seti
 p solusi korosif d p t mengh silk n HIC di p du n rent n, jik hidrogen
  di
e sk n di permuk n. Di sisi l in, SCC memerluk n terl rut i s ny er ed spe
sies d n spesifik untuk seti p p du n. HIC tel h di m ti d l m log m murni le ih
sering d rip d SCC.
HIC ditek n oleh pol ris si nodik.
Kontrol 
Mengh pus sum er hidrogen
L pis
 n 
T m hk n inhi itor d n / t u pH increse.
Menghentik n t u mengur ngi perlindung n k todik.
Anil t u dukung n
T rik mengurngi stres
Pengg nti n h n 
Tr nsgr nul r HIC memperlih tkn el h nd d ret k p t h get s s ng t d n ciri
deng n pori-pori mikro menye k n gelem ung hidrogen d n h irlines ulet mungkin
k ren mek nisme micropl stic.


Peng nt r inhi itorkorosi 
• Se u h inhi itor korosi d l h z t kimi y ng, jik dit m hk n d l m konsentr s
i kecil untuk lingkung n, efektif
 menurunk n l ju korosi log m d n p du n
• Ap itu efisiensi inhi isi?
• Dim n 
• Li r CR = l ju korosi log m d l m sistem t np inhi itor 
• CR = mengh m t l ju korosi log m d l m sistem deng n inhi itor
• Efisiensi Inhi itor 
•  Sec r umum, efisiensi d ri inhi itor meningk t deng n peningk t n konsentr si i
nhi itor.     
• Seor ng y ng ik inhi itor i s ny k n mem erik n inhi isi 95% p d konsentr
si 0,008% (80 ppm) d n90% p d konsentr si 0,004% (40 ppm).
• Efisiensi Inhi itor 
• Efek sinergis, sering h dir nt r inhi itor y ng digun k n d l m su tu lingkung
n tertentu 
• C mpur n y ng i s pilih n d l m formul si komersi l.
• Komersi
 l Inhi itor     
• inhi itor komersi l tersedi di w h er g i n m d g ng d n l el y ng i s n
y menyedi
 k n t u d inform  si sedikit tent ng komposisi kimi ny produk d ri
sum er y ng er ed mungkin erisi nticorrosion gen ds r y ng  s m
• formul si komersi l umumny terdiri d ri t u le ih inhi itor seny w s tu deng
n ditif l in seperti surf kt n, film enh ncer, de-emulsifier, ker k, pemulung o
ksigen, dll 
• Mek nisme Inhi isi  Korosi
• Kl sifik
 si Inhi itor    
• Inhi itor tel h dikl sifiksik n er ed oleh er g i penulis. Berd s rk n kimi
merek
 p d fungsion lit s, inhi itor dikl sifik sik n:
inhiitor norg nik. Bi s ny g r m krist l seperti sodium  krom t, fosf t, t u
moli d t. H ny nion neg tif d ri seny w y ng terli t d l m mengur ngi korosi
log m.Ketik
 seng digun k n se g i pengg nti n trium, seng k tion d p t men m
hk
 n e er p efek y ng menguntungk n. Ini t m h seny w seng dise ut- i y i
nhi itor c mpur n.

• Kl sifik si Inhi itor (l njut n) 
• Org nik nionik. N trium sulfon tes, fosfon t, tu merc pto enzotri zole (MBT)
digun k n d l m pendingin n per ir n umum d n solusi nti eku. 
• k tionik Org nik. D l m entuk terkonsentr si merek , ini d l h ik c ir n t
u m k n np d t seperti lilin. porsi ktif   merek umumny seny w lif tik t u
rom tik es r deng n kelompok min di e nk n positif.
• Kl sifik si Inhi itor   
• Berd s rk n  g im n inhi itor ekerj , merek d p t dikl sifik sik n se g i:
o Anodik
 (inhi itor p siv tor)
o Inhi itor k todik 
o Pengend
 p n inhi itor
o Inhi itor f s u p
• Anodik (inhi itor p siv tor)
• Shift potensi korosi permuk n met lik ke p siv si rent ng
• Ad du jenis p siv tor inhi itor: nion oksid si d n non-oksid siion
o nion Oksid tor: krom t, nitrit, d n nitr t, y ng d p t p ssiv te j t
np d ny oksigen 
o ion nonoxidizing: fosf t, Tungst t, d n moli d t, y ng memerluk n d ny
oksigen ke p ssiv te  j .
• Anodik
 (inhi itor p sivtor)
 
• Se g i contoh, krom  t er sis inhi itor:
o p ling-m h l inhi itor:
o n trium
 krom t (N 2 Cr 2 O 7 0,04% menj di 0,1%) digun k n s mp i s t
ini d l m er g i plik si (mis lny sistem pendingin resirkul si-mesin pem k
r n intern l, rectifier, unit pendingin, dn men r pendingin).  
• Sec r umum, inhi itor p siv si  se en
 rny d p t menye k n pitting d n memperc
ep t korosi il konsentr si turun di w h  t s minimum. Untuk l s n ini s ng
t penting hw pem nt u n konsentr si inhi itor dil kuk n.
• Inhiitor k todik  
• Inhi itor k todik ik memperl m t re ksi k todik sendiri  t u selektif
 end p n
di d er h k todik untuk meningk tk n imped nsi permuk n d n mem t si penye r
n spesies direduksi
 menj di d er h-d
 er h terse ut.  
•  Inhi itor k todik d p tmem erik n inhi isi oleh tig mek nisme  y ng er ed : (1
) se g i r cun k todik, (2) se g i presipit t k todik, d n (3) se g i pemulun
g oksigen 
• Inhi
 itor k todik
 
•  Be er p inhi itor k todik, seperti  seny w rsenik d n ntimony, ekerj deng n
mem u t rekom  in si hidrogen d n de it le ih sulit.
•  Inhi itor k todik l in, ion seperti k lsium, seng, t u m gnesium, d p t diend p
k n se g i oksid untuk mementuk l pis n pelindung p d log m.
•  pemulung Oksigen mem ntu mengh m t korosi deng n menceg h depol ris si k todik
dise k n oleh oksigen. Pemulung oksigen y ng digun k n umumny p d suhu ling
kung n y ng p ling mungkin  d l h n trium sulfit (N 2 SO 3).
• Pengend p n Inhiitor   
• Pengend p n inhi itor d l h seny w y ng menye k n pem entuk n presipit t p d
permuk n log m, sehingg mem  erik n film pelindung.
• Y ng p ling umum inhi itor  d ri k tegori ini d l h silik t d n fosf t. N trium
silik t, mis lny , digun k n di ny k pelun k ir domestik untuk menceg h terj
diny ir k r t.  
• Tingk t perlindung
 n y ng di erik n oleh silik t d n fosf t umumny
 le ih rend h
d rip d y ng di erik n oleh chrom tes d n nitrit, n mun merek s ng t ergun
d l m situ si di m n t m h n diperluk n er cun.
• F seU p Inhi itor
• inhi itor f s u p d l h seny w di ngkut d l m lingkung n tertutup ke situs ko
rosi oleh pengu  p n d ri sum er.
• D l m oiler, seny w d s r vol tile, seperti morpholine t u hidr zin, di ngkut
deng n up untuk menceg h korosi p d t ung kondensor deng n c r menetr lisir
s m k r on dioksid t u deng n menggeser permuk n pH s m d n korosif terh d
p nil i y ng kur ng.
• D l m ru ng tertutup u p, p d t n vol til seperti g r m d ri dicyclohexyl mine,
cyclohexyl mine, d n hex methylene-
 min digun k n. P d kont k deng  n permuk n
log m,up terse ut mengem un d n g r m terhidrolisis oleh kelem n p pun un
tuk mem e sk n ion pelindung. 
• P r meter d l m memilih inhi itor
• Inhi itor efisiensi
• Komp ti ilit s deng n lingkung n
• Toksisit s
• R m h lingkung n
• Tersedi ny
• Bi y 
• Pemilih n Sistem Inhi itor  
• pilih n y ng tep t pengh m t h rus di u t deng n pencocok n kimi pengh m t se
su i deng n kondisi korosi.
• Pemilih n sif t fisik y ng sesu i untuk kondisi plik si  jug diperluk n.
• Metode pliksi d n k r kteristik sistem h rus dipertim ngk n ketik memilih si
f t fisik su tu inhi itor. 
• Pemilih n Sistem Inhi itor
• H rus inhi itor menj dip d t t u c ir?
• Ap k h leleh d n titik eku penting?
• Ap k h degr d si deng n w ktu d n suhu kritis?
• H rus itu k n komp ti el deng n sistem ditif l in?
• Ap k h k r kteristik kel rut n khusus y ng diperluk n?
• Pemilih n Sistem Inhi itor 
• D l m memilih nt r inhi itor mungkin, tes sederh n korosi h rus dil kuk n per
t m untuk meny ring k ndid t y ng tid k cocok. 
• Filosofi d ri tes skrining w l seh rusny y ng mel kuk n c lon uruk tid k dil
kuk n ke dep n. 
•  Penggun inhi itor h rus menggunk n prosedur  penguji n y ng ket t mengecu lik n
inhi itor rend h meskipun e er p inhi itor y ng ik jug mungkin dikecu lik
n. 
• Pemilih n Sistem Inhi itor  
• T nt ng n d l m ev lu si inhi itor d l h untuk mer nc ng perco n y ng mensimu
l sik n kondisi  d ri sistem duni ny t .
• V ri el y ng h rus diperh tik n d l h suhu, tek n n, d n kecep t n sert sif t
kimi log m d n lingkung n korosif.
• penguji n y ng mem d i h rus menc kup kondisi y ng p ling p r h y ng d p t terj
di d l m sistem d n tid k ter t s p d t u r t -r t kondisi m kro. Contoh mic
roenvironments d l h titik p n s di penuk r p n s d n lir n tur ulen s ng t di
m nik-m nik l s. 
• Pemilih n Sistem
 Inhi itor
• Spesies inhi itif h rus memiliki kses mud  h ke permuk
 n log m. 
• H l ini jug diperluk n untuk mem stik n hw inhi itor menc p i semu gi n p
ermuk n log m  
• H rus diperh tik n, terut m ketik pert m k li mengisi se u h sistem,  hw se
mu j l n untu, k ntong, d n d er h cel h y ng dihu ungi oleh fluid terh m t
• Ke utuh
 n untuk
 mendirik n se u h rezim lir n p d interv l untuk menyedi k n p
sok n diper rui inhi itor hrus dipertim ngk n.
• Pemilih n Sistem Inhi itor
 
• Inhi itor konsentr si h rus diperiks sec r ter tur, kerugi n h rus di erik n k
ompens si   
• Bil memungkink n, eer p entuk pem nt u n kontinyu h rus digun  k n

 N mun, h rus diing t hw
 h sil d ri pem nt u n per ngk
 t, pro e, kupon, d n se
g iny , meng cu p d peril ku hw komponen tertentu p d gi n tertentu d r
i sistem
• Proses Korosi
di As m Solusi 
• D l m l rut n s m nodik proses korosi d l h gi n d ri ion log m d ri permuk
n log m ke d l m l rut n, d n proses k todik ut m d l h de it ion hidrogen u
ntuk mengh silk n g s hidrogen
• D l m ud r jenuh l rut n s m, reduksi k todik oksigen terl rut jug terj di, t
pi untuk tingk
 t esi tid k menj di signifik n di ndingk n deng n tingk t ion
hidrogen de it s mp i pH mele ihi nil i 3.
• Efek d ri inhi itor p d
proses korosi 
• Su tu inhi  itor d p t mengur ngi l ju proses  nodik,
 proses k todik, t u kedu n
y proses
 peru h n potensi korosi
 p d pen m h n inhi itor sering merup k n ind
ik si y ng ergun proses y ng ter el k ng
• Perpind h n d ri potensi korosi p d r h y ng positif menunjukk n terut m kete
r el k ng n d ri proses nodik (kontrol nodik), sed ngk n perpind h n ke r h n
eg tif menunjukk n keter el k ng n terut m d ri proses k todik (kontrol k todik
).   
• Sedikit peru h n d l m potensi l korosi menunjukk n hw ik nodik d n k tod
ik proses y ng ter el k ng.
• Korosi inhi isi
di As m Solusi
Contoh:  
o Digun k n d l m s m mem ersihk n per l t n industri (penuk r p n s, oi
ler, ste m gener tor) untuk menghind ri fouling
o  Digun k n picklings (sk l d n pengh pus n k r t) sel m persi p n permu
k n j se elum dip co ting hop   
o Korosi log  m d l m l rut n s m d p t dih m t oleh er g i z t, sepert
i ion h lid , k r on monoksid , d n seny w org nik ny k, terut m y ng meng n
dung unsur-unsur Kelompok V d n VI d ri T el Periodik (y itu, nitrogen, fosfor,
rsenik, oksigen, sulfur, d n selenium). 
• L ngk h ut m d l m ksi inhi itor d l m l rut n s m umumny disep  k ti dsorps
i ke permuk n log m,  y ng i s ny oksid - e s d l m l rut n s m. Inhi itor t
er dsorpsi kemudi n ertind k untuk menund k todik d n / t u elektrokimi nod
ik proses korosi.
 
• Inhi itor korosi d l m l rut n s m d p t erinter ksi deng n log m d n mempeng
ruhi re ksi korosi d l m e er p c r , e er p di nt r ny d p t terj di sec
r simult n.
• H l ini  sering tid k mungkin untukmenet  pk n mek nisme umum tungg l su tu tind
k n untuk inhi itor k ren mek nisme is  eru h deng n kondisi
  eksperiment l.
• Mek nisme domin n tind k n inhi itor y ng mungkin er ed deng n f ktor-f ktor s
eperti:
• ny konsentr si, pH s m,
• sif t d ri nion d ri s m,
• keh dir n spesies l in d l ml rut n, 
• sej uh m n re ksi untuk mem entuk inhi itor sekunder, d n t
• di sif t log m. 
•   Mek nisme kerj inhi itor deng n kelompok fungsion l y ng s m sel in itu mungki
n er ed deng n f ktor-f ktor seperti peng ruh struktur molekulp d ker p t n
elektron d ri kelompok fungsion l d n ukur n d ri porsi hidrok r on d ri molekul
. 
• Adsorpsi inhi itor korosi
ke log m.   
•  Efisiensi inhi itif i s ny se nding deng n fr ksi permuk n ditutupi deng n i
nhi itor ter dsorpsi.

• N mun, p d permuk n c kup n rend h, efektivit
 s spesies inhi itor ter dsorpsi
d l m memperl m t re ksi korosi mungkin le ih  es r d ri p d c kup n permuk n
y ng tinggi. D l m k sus l in, dsorpsi inhi itor, seperti tioure d n min , d
ri solusi diencerk n, d p t mer ngsng korosi.

• Inform si p d  dsorpsi inhi itor, ers l d ri pengukur n l ngsung d n d ri pen
gukur n efisiensi inhi itif, di ngg p d l m hu ung nny deng n penget hu n umum
dsorpsi d ri
 l rut n.  
• Inhi itor dsorpsi p d log m dipeng ruhi oleh fitur ut m se g i erikut.
o Mu t n p d permuk n log m 
o Kelompok fungsion
 l d n struktur inhi itor.
o Inter ksi inhi
 itor deng n molekul ir.
o Re ksi inhi itor ter dsorpsi.
• Mu t n p d permuk n log m 
• Adsorpsi mungkin k ren g y men rik elektrost tik nt r i y ionik t u dipol
p d spesies ter dsorpsi d n mu t n listrik p d log m di-solusi nt rmuk log
m.  
• D l m l rut n, mu t n log m d p t diny t k n deng n potensi sehu ung n deng n i
y -potensi l nol.   
• Inirel tif potensil untuk- i y potensi l nol, sering dise ut se g i potensi
(), y ng le ih penting sehu ung n deng n dsorpsi d ri potensi  p d sk l hidrog
en, d n sesungguhny
 t nd -t nd d ri kedu potensi
 mungkin er ed . 
• Se g i potensi permuk n logm menj di le ih positif, dsorpsi  nion le ih disu
k i, d n se g i potensi menj di le ih neg tif, dsorpsi k tion le ih disuk i.
• Kelompok
 fungsion l d n
struktur inhi  itor 
• Inhi itor  jug d p t o lig si untuk permuk n log m deng n tr nsfer elektron ke
l met untuk mem entuk koordin t jenis link. 
• Proses ini disuk i oleh keh dir n d l m log m kosong or it l elektron energi ren
d h, seperti terj di d l m log m tr nsisi. 
• Tr nsfer elektron d ri spesies y ng terser p le ih disuk i oleh keh dir n elektr
on y ng terik t longg r y ng rel tif, seperti d p t ditemuk   n d l m nion, d n m
olekul org nik netr l y ng meng ndung p s ng n elektron e s.
• Inter ksi inhi itor
deng n molekul ir  
• Adsorpsi molekul inhi itor sering merup k n re ksi perpind h n meli tk n pengh
pus n molekul ir ter dsorpsi d ri permuk  n.
• Sel m dsorpsi molekul, peru h n energi inter  ksi deng n molekul-molekul
 ir d
i lulus d ri terl rut terser p ke neg r merup k n gi n penting d ri peru h n
energi e s p d dsorpsi. 
• Inter ksi spesies inhi itor ter dsorpsi 
•  inter ksi l ter l nt r spesies inhi itor ter dsorpsi d p t menj di signifik n
se g i c kup n permuk n, d n k ren kedek t n itu, d ri ken ik n spesies ter d
sorpsi. 
• Inter ksi ini d p t erup l ter l men rik t u menjijikk n. 
•  inter ksi y ng men rik terj di nt r molekul y ng meng ndung komponen hidrok r
on es r (mis lny , n- lkil r nt i). Seiring deng n peningkt n r nt i p njng, 
peningk t n V n Der W ls g y men rik nt r molekul y ng erdek t n menye k
n dsorpsi ku t di c kup n tinggi.
• menjijikk
  n terj di inter ksi nt r ion-ion t u molekul y ng meng ndung dipol
d n menye k n dsorpsi lem h p d c kup n y ng  tinggi.
• D l mk sus ion, inter ksi menjijikk n is diu h ke inter ksi men rik jik ion
mu t n y ng erl w n n sec r simult n ter dsorpsi. 
• D l m l rut n y ng meng ndung nion d n k tion inhi itif  dsorpsi d ri kedu ion
d p t ditingk tk n d n efisiensi inhi itif s ng t meningk t di ndingk n deng n
solusi ion individu. 
• Deng n demikin, efek inhi itif sinergis terj di d l m c mpur n seperti itu d n
k tionik nionik inhi  itor.
• Re ksiinhi
 itor ter dsorpsi.
  
• D l m e er p k sus, inhi itor korosi d p t terser p ere ksi, i s ny deng n
 
reduksi elektrokimi
 , untuk mem entuk su  tu produk y ng mungkin jug inhi itif. 
• H m t n k ren su st nsi dit m hk n tel h dise ut inhi isi primer d n hw k
ren produk re ksi, h m t n sekunder. 
• D l m k sus terse ut,efisiensi inhi itif d p t meningk t t u menurundeng n w
ktu sesu i deng
 n p k h inhi isi sekunder d l h le ih t u kur ng efektif di
ndingk n h m t n ut m .  
• Sulfoxides, mis lny , d p t direduksi menj di sulfid , y ng le ih efisien inhi i
tor. 
• Peng ruh inhi itor p d proses korosi   
• D l m l rut n s m nodik proses korosi d l h gi n d ri ion log m e s d ri
permuk n-oksid log m ke d l m l rut n, d n proses k todik ut m d l h de it i
on hidrogen untuk mengh silk n g s hidrogen.
• D l m ud r jenuh l rut n s m, reduksi k todik oksigen terl rut jug terj di, t
pi untuk tingk
 t esi tid k menj di signifik n di ndingk n deng n tingk t ion
hidrogen de it s mp  i pH mele ihi nil i 3.
• Su tu inhi itor d p t mengur ngi l ju proses nodik, proses k todik, t u kedu
proses.   
•  Peru h n potensikorosi p d pen m h n inhi itor sering merup k n indik si y n
g ergun proses y ng ter el k ng.
• Perpind h n d ri potensi korosi p d r h y ng positif menunjukk n terut m kete
r el k ng n d ri proses nodik (kontrol nodik), sed ngk n perpind h n ke r h n
eg tifmenunjukk n keter  el k ng n terut m d ri proses k todik.  
• Sedikit peru h n d l m potensi l korosi menunjukk n hw ik nodik d n k tod
ik proses y ng ter el k ng. 
• Tind k n g ung n pertum uh n film d n pengend p n d ri h sil solusi  d l m fouli
ng y ng h rus dikelu rk n untuk mengem lik n efisiensi penuk r p n s, oiler, d
n gener tor u p.     
• E-pH di gr m menunjukk n hw erd s rk  n fouling d ri oiler t ung esi, oleh
Fe 3 O 4 d n Fe 2 O 3, d p t dil rutk n d l m s korosi ik d er h t u s m
.    
• D l m pr ktekny , mengh m t s m klorid tel h erul ng k li ter ukti se g i m
etode y ng p ling efisien untuk mengh  pus fouling.
• Emp t pers m n y ng terli t d l m pemind h n fouling. 
• Tig d ri pers m nmerup k n proses k todik.Pers  m n ini menunjukk n hw fu
ngsi d s r se g i pered m esi untuk mempercep t pem u r n oksid esi. 
• E-log i di gr m y ng menunjukk n efek inhi itor nodik terh d p l ju disolusi e
si d n oksid esi  
• E-log idi gr m y ng menunjukk n efek inhi itor k todik terh d p l ju disolusi
esi d n oksid esi   
• The E-pH di gr m menunjukk n hw pem u r n oksid fouling jug mungkin d l m
l rut n s . 
• T pi kinetik d n re ksi k todik nodik  d l m lingkung n pH tinggi j uh le ih l
m t, d n k ren itu re ksi-re ksi ini kur ng ergun  .
• elektrokimi studi menunjukk n hw inhiitor d l m l rut n s m d p t mempeng
ruhi re ksikorosi log m d l m c r -c r ut m se g i erikut:
o Pementuk n pengh l ng difusi
o Pem lokir n situs re ksi
o P rtisip
 si d l m elektrod re ksi
o Pem entuk n pengh l ng difusi   
• Inhi itor diser p d p t mem entuk l pis n permuk n y ng ertind k se g i pengh
l ng fisik untukmem t si difusi ion t u molekul ke t u d ri permuk n log m
sehingg mengh m t l ju re ksi korosi.  
• Efek ini terj di terut m ketik spesies inhi itor d l h molekul es r (mis lny
, protein, seperti gel tin t u g r gr, polis k rid , seperti dekstrin, t u
seny w y ng meng ndung r nt i hidrok  r on y ng p nj ng).
• Permuk n film jenis inhi  itor menim ulk n resistensi d n jug pol ris si pol ri
s si konsentr si mempeng ruhi ik nodik d n re ksi k todik.
• Pem lokir n situs re ksi 
• Berkur ng sederh n mem lokir juml h tom log m permuk n di m n re ksi korosi
d p t terj di.
• Mek nisme  re ksi y ng tid k terpeng ruh, d n lereng T fel d ri kurv pol ris si
tet p tid k eru h.  
•  Perlu dic t t hw proses d n k todik d p t mengh m t nodik untuk lu s n y ng
er ed .  
• Proses pem u r n nodik ion log m di ngg p terj di p d l ngk h-l ngk h t u di
slok si muncul di permuk n log m, di m n tom log m kur ng teg s di d k n untu
k tet ngg merek d rip d di permuk n d t r.
• Situs-situs f vorit menemp ti proporsi y ng rel tif kecil p d permuk  n log m.
• Proses evolusi
 hidrogen k todik didug terj di p d pes w t krist l entuk w j h
y ng se gi n es r lu s permuk n log m.
• Adsorpsi inhi itor  p d c kup  n permuk n rend h cenderung terj di preferenti ll
y di situs nodik, menye k n keter  el k ng n re ksi nodik.
• P d c kup n permuk n le ih tinggi,  dsorpsi terj di p d kedu nodik d n k to
dik situs, d n kedu re ksi y ng terh m t.
• P rtisip si d l m elektrod  re ksi 
• Re ksi Korosi sering meli tk n pem entuk n spesies nt r tom log m ter dsorps
i deng n permuk n [mis lny , terser  p tom hidrogen  d l m re ksi evolusi hidrog
en d n terdsorpsi (FeOH)  d l m pem u r n nodik] esi. 
• Ke er d n inhi itor ter dsorpsi k n mengg nggu pem entuk n intermediet ini ter
dsorpsi, tet pi proses elektrod kemudi n d p t melnjutk n mel lui j l n-j l n
ltern tif mel lui intermediet y ng meng ndung  inhi itor.
•   D l m proses ini spesies inhi itor ertind k deng n c r k t litik d n tet p tid
k eru h  
• P rtisip
  si terse ut oleh inhi itor umumny dit nd i deng n peningk t n di leren
g T fel pem u r n nodik log m. 
• Inhi itor jug d p t mengh m t l ju evolusi hidrogen p d log m deng n mempeng
ruhi mek nisme re ksi, seperti ditunjukk n oleh peningk t n di lereng T fel kurv
pol ris si k todik.  
•  Efek ini tel h di m ti p d esi di h d p n inhi itor seperti fenil-tioure , hid
rok r on cetylenic,
 turun n nilin , deriv tif pyrilium enz ldehid d n g r m.
• Peru h n l pis n listrik g nd 
•  Adsorpsi ion t u spesies y ng d p t mem entuk ion p d permuk n log m k n men
gu h l pis n g nd listrik p d nt rmuk solusi-log m, d n ini p d gilir nny
k n mempeng ruhi l ju re ksi elektrokimi . 
• Adsorpsi k tion, seperti ion surf kt n d n min terproton si, mem u t potensi l
e ih positif d l m id ng pendek t n y ng p ling dek t deng n ion log m d ri sol
usi.  
• Perpind h n ini potensi positif memperl m t kelu rny ion hidrogen ermu t n po
sitif.
• Mengukur efisiensi
pengh m t s m   
• Contoh erikut mengg m rk n g im n efisiensi su tu inhi itor korosi d p t di
ev lu si deng n uji korosi y ng rel tif sederh n . 
• Tr ns-cinn
 m ldehyde (TCA) efisiensi dinil i mengh m t korosi deng n teknik ele
ktrokimi dise ut resistensi pol ris si linier (LPR). 
• TCA d p t digun k n untuk mengur ngi korosi j sel m peng wet n t u l d ng m
iny k peng s m n per w t n. 
• Pol ris si LPR resistensi (Rp) i s ny dihitung d ri kemiring n kurv pol ris s
i m n   
• Kurv pol ris si dis jik n p d G m r 3 s mp i 5 diperoleh deng n j k r on t
erken l rut n y ng meng ndung, m sing-m sing 250,, 1000, d n 5000 ppm TCA d l m
M l rut n HCl 6. 
• Deng n sumsi, untukcontoh   ini, hw d n c kedu ny s m deng n 0,1 V / dek
de d n hw R p d ri lep s e s j k r on d l m 6 M HCl  d l h se es r 14 cm
2, d l h mungkin untuk mend p tk n nil i efisiensi inhi itor dis jik n d l m T
el I.   
• G m r 4. Korosi p d j k r on AISI 1018 d l m 6 M HCl y ng meng ndung 500 pp
m tr ns-cinn  m ldehyde.  
• G m r 4. Korosi p d j k r on AISI 1018 d l m 6 M HCl y ng meng ndung 1000 p
pm tr ns-cinn m ldehyde.
  
• T el 1. Efisiensi Inhi itor Tr ns-Cinn m ldehyde (TCA) ke Korosi B j K r on te
rken ke
6 M HCl Solusi 
• KOROSI inhi itor
IN-NETRAL SOLUSI DEKAT
• Korosi log m d l m l rut n netr l  
• Korosi log m d l m l rut n netr l er ed d ri y ng d l m l rut n s m d l m du
h l penting:
o D l m ud r jenuh solusi, re ksi k todik ut m d l m solusi netr l d l
h penurun n oksigen terl rut, sed ngk n d l m l rut n s m itu evolusi   hidrogen
o Korosi permuk n log m d l m l rut n s m d l h oksid - e s, sed ngk n
di permuk n log m solusi  netr l y ng tertutup deng n film oksid , hidroksid ,
t u g r m deng n st ilit s tertentu
• Inhi itor Korosi D l m netr l Solusi Dek t 
• K ren per ed n di t s, sust  nsi y ng mengh m t korosi  d l m l rut n s m de
ng n dsorpsi p d permuk n oksid - e s umumny tid k mengh m t korosi d l m
l rut n netrl  
• inhi itor Kh s untuk-netr l solusi dek t d l h nion s m lem h, e er p y ng
p ling penting d l m pr ktek d l h:
o krom t,
o nitrit,
o enzo t,
o silik t,
o fosf t, d n
o or t.
• Inhi itor Korosi D l m netr  l Solusi
 Dek t 
• Anion di t s sering dise ut se g i inhi itor nodik, d n merek le ih umum dig
un k n d ri inhi itor k todik untuk mengh m t korosi esi, seng, luminium, tem
g , d n p du n merek di-netr l solusi dek t. 
• P siv tor film oksid p d log m mengh  m t men w rkn resist nsi tinggi terh d
p difusi ion log m, d n re ksi nodik pem u r n log m dih m t. 
• Tind k n nion inhi  itif p d korosi log m d l m l rut n netr l dek t meli tk n
fungsi penting se g i erikut:  
o Penurun
 n tingk t pem u r n film oksid p siv tor
o Per ik n oksid oleh film promosi d ri reform si oksid
o Per ik n film pori-pori oksid deng n c r menghu ungk nny deng n seny
w l rut
o Penceg h n dsorpsi nion gresif 
o  Pengend p n seny w , p d permuk n met lik, y ng d p t mem entuk t u m
enst ilk n film pelindung 
• inhi
 itor d p t mem entuk l pis n permuk n d ri g r m l rut oleh cur h t u re
ksi. Inhi itor jenis ini term suk
• G r m d ri log m seperti seng, m gnesium, m ng n, dn nikel, y ng merup k n hidr
oksid tid k l rut, terut m di d er h k todik, y ng le ih s k ren ion hidro
ksil y ng dih silk n oleh reduksi oksigen 
• K lsium l rut g r m, y ng d p t mempercep t se g i C CO 3 di per ir n y ng meng
ndung CO 2, di d er h k todik dim n pH tinggi memungkink n konsentr si cukup t
inggi ion k r on t
• Polyphosph tes di h d p n seng t u k lsium, y ng mengh silk n g r m film tipis
morf   
• Film g r m di t s, y ng seringk li cukup te l d n hk n d p t terlih t, mem
t si difusi, khususny oksigen terl rut ke permuk n log m.
• Merek konduktor  elektronik miskin,
 d n pengur
 ng n oksigen tid k terj di p d p
ermuk n film inhi itor ini dise ut se g i inhi itor k todik
• Pengh m t n Korosi Be er p Log m
di-netr l Solusi Dek t
• Besi (Steel)

• Pengh m t n Besi  (Steel)
• Konsentr
 si inhi
 itor  
• Inhi isi d ri esi ( j ) korosi d l m ir terj di il konsentr si minimum inhi

itor disedi k n  
• P d konsentr si di w h nil i kritis, nion inhi itif k n d efek neg tif d
n mer ngs ng kerus k n p d film p sif. 
•  Sejuml h nion tel h dikl sifik sik n d l m urut n keku t n inhi itif merek ter
h d p j , dinil i d ri inhi itif kritis  konsentr si merek .
• Urut n penurun n efisiensi inhi itif d l h zid ,ferricy nide, nitrit, krom t,
enzo t, ferrocynide, fosf t, tellur te, hidroksid , k r on t, chlor te, o-chl
or enzo te, Bik r on t fluoride, nitr t, d n form te.
• pH    
• nion inhi itif efektif d l m menceg h korosi esi h ny p d pH s nil i le i
h d ri nil i kritis
• PH kritis ini terg ntung p d jenis d n konsentr si nion
• Konsentr si nion Agresif 
• Ketik nion gresif y ng h dir d l m l rut n, konsentr si nion inhi itif kriti
s y ng diperluk
 n untuk perlindung n d ri esi y ng meningk t
• Hu ung n nt r konsentr si m ksimum C nion gresif Ag memungkink  n perlindung
n penuh deng n konsentr si tertentu INH C nion inhi itif d l h d l m entuk
• Sif t permuk n log m.   
• Konsentr si nion kritis y ng di utuhk n untuk mengh m t korosi esi k n menin
gk t deng n meningk  tny kek s r n permuk n.
• Pengh m t n seng   
• Pengh m t n korosi  seng g k le ih sulit d rip d esi (mis lny , nitrit, d n
enzo t tid k efisien inhi  itor untuk seng) 
• N mun, pengh m t n korosi seng  di m ti di h d p n nion
 seperti chrom tes, or
t, d n nitrocinn m te, y ng jug inhi itor ik untuk korosi esi
• Seperti nion sulf t, klorid  , d n nitr t y ng gresif terh d p seng d n menceg
h perlindung n deng n nion inhi itif
• Pengh m t n seng 
• Kehdir n oksigen terl rut d lm l rut n s ng t penting  gi perlindung n deng n
nion inhi itif. Seperti d l m k sus esi, tek n n oksigen le ih es r d ri tm
osfer t u ken ik n p sok n oksigen oleh peng duk n cep t d p t meng r h p d pe
rlindung n sengd l m ir suling.
• Pengh m t n korosi seng p ling mud h terj di p d rent ng pH 9-12, y ng sesu i
kir -kir ke d er h minimum kel rut n hidroksid seng.
• nion inhi itif jug mempromosik  n p siv
 si d ri seng (mis lny , p siv si j uh l
e ih mud  h d l m solusi
 d ri nion
 inhi itif, or t, d rip d solusi d ri nion
noninhi itive, k r on t d n ik r on t).
• Pengh m t n luminium 
• Ketik luminium dirend m dl m ir, y ng ter entuk oksid film-ud r - lumin m
orf w lny mengent  l (p d l ju le ih cep t d rip d di ud r ) d n kemudi n l p
is n lu r entuk- entuk krist l lumin terhidr si 
• D l m netr  l ud r didek t jenuh solusi, korosi  luminium umumny terh m t ole
h nion y ng inhi itif untuk esi (mis lny , krom t, enzo t, fosf t, d n set t
). 
• Inhi isi jug  terj di d l m l rut n y ng meng ndung ion sulf t t u nitr t, y ng
gresif terh d p esi.  nion gresif untuk luminium term sukion h lid , F, Cl
, Br, I, y ng menye k n ser ng n pitting, d n nion y ng mem entuk  kompleks l
rut deng n luminium (mis lny , sitr t d n t rtr t), y ng menye k n ser ng n u
mum. 
• Pengh m t n luminium 
• Seperti esi, terd p t peng ruh inhi itif competititon nt r nion d n ion chlr
ide p d luminium
  
•  Ber ed d ri esi t u seng di hw keh dir n oksigen  terl rutd l m l rut n te
rse ut tid k diperluk n untuk menst ilk n film oksid . Inhi isi d p t ekerj d
l m solusi de er ted.
• D l m inhi isi  korosi oleh ion krom t, merek inter ksi deng n film luminium ok
sid h sil d l m pem entuk n l pis n lu r film y ng le ih protektif k ren resis
t nsi tinggi elektronik d n l ju disolusi rend h.
• Ion Krom t jug ditemuk n untuk menceg h penyer p n d n penetr si Cl - menj di f
ilm luminium oksid .
 
• Pengh m t n tem g 
• Inhi
 isi terj di d l m solusi y ng meng ndung krom  t, enzo t, t u ion nitrit.
• Tem g korosi jug d p t sec r efektif  mengh m t d l m l rut n netr l oleh se
ny w org nik er t molekul rend h, seperti enzotri zole d n 2 merc pto enzothi
zole.   
• Benzotri zole terut m efektif dlm menceg h pem u rn tem g d l m l rut n k
lorid . Deng n d ny enzotri zole, pem u r n nodik, pertum uh n l pis n oksi
d , d n re ksi pengurng n oksigen terl rut semu terh m t, menunjukk n dsorps
i y ng ku t d ri inhi itor p d permuk n oksid cuprous.
• 
KOROSI inhi itor
MINYAK DAN GAS BUMI UNTUK SISTEM
• Korosi intern l di Wells d n Pip
• Korosi Intern l p d Pip Wells d n dipeng ruhi oleh:
o Suhu
o Keh dir n d n isi d ri CO 2 d n H 2 S
o Kimi ir
o Arus kecep t n 
o Miny k d n ir mem s hi
o Kondisi permuk n log m
• Korosi intern l di Wells d n Pip
• Korosi Intern l p d Pip Wells d n dipeng ruhi oleh:
o Suhu
o Keh dir n d n isi d ri CO 2 d n H 2 S
o Kimi ir
o Arus kecep t n 
o Miny k d n ir mem s hi
o Kondisi permuk n log m
• Korosi intern l di Wells d n Pip 
• Ketik produk korosi tid k disetork n p d permuk n j , korosi tingk t y ng s
ng t tinggi e er p milimeter per t hun d p t terj di 

 Tingk t korosi d p t dikur ngi sec r su  st nsi l dl m kondisi di m n esi k r
on t (FeCO 3) d p t presipit t p d permuk n j d n mem entuk pelindung koro
si produk film d n p d t  
• Ketik H 2 S h dir di s mping CO  2, esi sulfid (FeS) film ter entuk d rip d F
eCO 3, d n film pelindung
 y ng d p t di entuk p d temper tur rend h, k ren FeS
presipit t j uh le ih mud h d rip d FeCO 3
• Korosi intern l di Wells d n Pip
• Loc lised korosi
 korosi deng n h rg tinggi s ng t d p t terj di jik l pis n h
sil korosi tid k mem erik n perlindung n y ng mem d i, d n ini d l h jenis y ng
p ling dit kuti ser ng n korosi di j ring n pip miny k d n g s
• Pengend li n Korosi Intern l p d Pip
• D l m r ngk untuk mengend lik n korosi p d pip , penting untuk mem h mi
o mek nisme y ng mend s ri korosi 
o m mpu memprediksi p k h korosi lok l k n memul i d n g im n h l itu
d p t diceg
 h
o St ilis si pH Teknik 
• Tingk t korosi di j ring n pip g s kondens t d p t dikur ngi sec r er rti den
g n meningk tk n pH  f s ir  
• teknik st ilis si pH tel h digun k n deng n sukses d l m e er p g s j ring n
pip kondens t.
• Penurun n l ju korosi did s rk n p d peningk t n pH d l m f se ir, y ng mening
k tk n presipit sifilm pelindung produk korosi p d permuk n j 
• Teknik st ilissi pH cocok untuk digun  k n d l m kom in si deng n glikol se g
i penceg h hidr t st ilizer pH k n tet p er d di glikol ul ng.
• St ilis
 si pH Teknik  
• Keter t s n ut m teknik st ilis  si pH d l h hw h l itu tid k d p t digun
k n untuk j ring n pip terc t t juml h es r d l m juml h ir pem entuk n H 2 S
d n CO 2 ki t pem entuk n k ron t dek t sk l ke pip inlet p d pH tinggi
• Loc lised korosi d l m entuk sumur n d l h f ktor penting d l m sistem y ng me
ng ndung H 2 S
• M nis d n s m Korosi  
• Sweet korosi dise k n oleh CO 2
• As m korosi diinduksiolehH 2 S
• Sumur miny k d n g s umi ik m nis t u s m
• Sweet
 sumur tid k meng ndung hidrogen
 sulfid , sed ngk n sumur s m l kuk n
• Sum er CO 2 d p t miner l pem u
  r n t u produk s mping n d ri proses pem entuk
n miny k umi. Sum er H 2 S d p t pem u r n deposit minerl di tu n, produk
s mping n d ri proses pem entuk miny  k umi, t u tind k n kteri p d su tu w
ktu d l m sej r h deposit miny k umi.
• Sweet korosi
• As m korosi
• As m korosi
• As mkorosi
• Inhiitor d l m produksi miny k umum  
• Inhi itor d l m produksi miny k umi umumny d p t dikl sifik sik n se g i eri
kut:
o Amid / imid zolines 
o G r m d ri molekul nitrogen deng n s m k r oksil t
o Nitrogen qu tern ries
o Polyoxy lkyl ted min , mid , d n imid zolines
o Heterocyclics  Nitrogen d n seny w y ng meng ndung P, S, O
• Korosi inhiitor untuk As m Wells
• Korosi inhi itor y ng tel h digun k n untuk mel w n korosi d l m sumur s m meli
puti ldehid , tioure si n mid , d n turun  nny ure
• Y ng ny k digun k n se gi n es r inhi itor org nik  min
•  Meskipun min org nik diket hui kur ng efektif inhi itor d l m l rut n s m, in
hi isi oleh min di h d p n hidrogen sulfid s ng t ditingk tk n
• Miny k med n-inhi itor fungsi deng n mem sukk n ke d l m l pis n tipis  d ri prod
uk korosi p d permuk  n log m. Film ini mungkin permuk n sulfid t u k r on t
d n d p t n ero ik t u se  gi n teroksid  si  
• Be er p jenis inhi itor mengg ungk  n molekul y ng le ih ik d l m s tu jenis
film d ri y ng l in. Se g i contoh, inhi itor min tid k efektif il oksigen
h dir
• Oksigen-dipeng ruhi korosi 
• -Memproduksi form si Miny k w lny tid k meng ndung oksigen. Sel m proses mem
w miny k ke permuk n, oksigen d ri pencem r n ud r d p t l rut ke d l m c ir
n y ng dih silk n. oksigen ini memiliki tig konsekuensi:
1. Oksigen mud h d p t menerim elektron, sehingg meningk tk n l ju korosi
2. Sif t permuk
 n peru h n produk  korosi, sehingg sif t kimi y ng diper
luk n untuk mengu h pendiri n inhi itor efektif  
3. Oksid si ion tertentu d l m l rut n menye k n meningk tny presipit si
f se p d t
Oksigen y ng dipeng ruhi korosi 
Oksigen pr ktis sel lu h dir d l m lumpur pem or n
Kontrol y ng p ling efektif oksigen  korosi k n terus kelu r d ri  sistem
, tet pi h l ini  sulit k ren fluid penge or n terken tmosfer k ren ersirku
l si mel lui lu ng 
 Ser ng n itu h mpir sel lu d lm entuk pitting, y ngd l m w ktu singk
t is mengh silk n kerus k n ireversi el untuk per l t n pem or n
Aplik si metode 
Pemilih
 n inhi itor y ng s ng t penting, t pi plik si y ng tep t d ri s
u tu inhi itor hk n le  ih penting 
Jik su tu inhi itor tid k menc p i d er h korosif, tid k is efektif 
Perlindung
 n korosi m ksimum  d p t dic p i deng n injeksi terus inhi ito
rmel lui tu ing  string du l (mem unuh  string), su tu t ung k piler, k tup sisi
t ng, t u hk n diperfor si t ung  
The Metode y ng p ling umum  digunk n d l h tch tch t u pendek per
w t n di m n volume l rut  n inhi itor ( i s ny 2 s mp i 10%) disuntikk n ke d
l m sumur-ditutup d n di i rk n j tuh ke w h. H rg F ll d l h fungsi d ri s
olusi viskosit s
Metode
 Seleksi  
Inhi itor korosi untuk industri
 miny k d n g s umi umumny dipilih  erd
s rk n kel rut n t u redispersi ilit sny d l m c ir n y ng h rus terh m t.
Inhi itor korosi y ng dipilih
 d p t erup miny k l rut, miny k l rut i
r t u l rut d l m ir Dispersi le. 
Keputus
 n p k h k n menggun k n miny k t u ir inhi itor l rut d n ju
ml h inhi itor d p t di u tsec r efektif jik pol lir n d n distri usi f se
d l m kondisi lur y ng er ed diket hui. 
Pol lir n kl sifik si untuk off- ir meng lir (Ogles y, 1979)
Metode Seleksi  
Pemilih n l rut inhi itor korosi miny k seringk li di u t h ny kren m
iny k ment h d l m pip . W l upun ini merup k n premis logis, mungkin mem uktik
n menj di prosedur m h l k ren volume miny  k y ng tinggi. 
Ke ny k n pip d n flowlines mem w volume ir kecil d n juml h es r
miny k. P d seti p titik yng rend h d l m pip t u flowline, ir kumul si, m
enciptk n lingkung  n y ng erpotensi korosif.  Korosi cenderung dil kuk n p d
gi n w h pip uk np d punc k y ng dih m t
Air-l rut inhi itor 
inhi itor korosi l rut ir  jug ny k digun k n di l d ng miny k, terut
m di w terfloods d n sistem pem u ng n ir g r m. 
Untuk sumur miny k, seperti usi sumur,  tek n n reservoir erkur ng. Unt
uk meningk tk n pemulih n miny k, injeksi ir i s ny digun k n untuk menj g t
ek n n reservoir.Oleh k ren itu, kemungkin n korosi d l m miny k- ir meng lir s
ng t tinggi. 
K ren film hidup rel tif pendek d n ketekun n inhi itor korosi ir l ru
t, merek terus disuntikk n.
Metode Seleksi  
Or ng mungkin
 meng ngg p l rut ir inhi itor d lh j w  n untuk mer w
t pip y ng mem w miny k ment h d n ir, k ren ir di gi n w h pip d l
h sum er ut m d ri m s l h korosi  
M s l h l in y ng h rus dipertim ngk n d l h gi n d ri pip y ng did
uduki oleh emulsi miny k d n ir jug merup k nlingkung n korosif. D l m kondis
i seperti itu, ir y ng l rut mungkin  tidk mem erik n perlindung n y ng mem d i
Miny k l rut ir Dispersi le inhi  itor  
Penggun n miny k l rut ir inhi itor korosi Dispersi le terse r lu s d
l m sistem pen ngn n miny k d n ir. 
Jenis inhi itor d p t mel kuk n pekerj n deng n ik melindungi sumur m
iny
 k, t u flowlines di meter kecil k ren kecep t n tinggi d n t u lir n tur
ulen y ng mempromosik n inhi itor c mpur n d n c ir n y ng dih silk n.
 N mun, tid k d p t mem  erik n perlindung n y ng dikehend ki d l m flowli
nes le ih es r t u pip mem w c ir n y ng s m ini k ren pengur ng n kecep
t n d n t u tur ulensi.
Metode Seleksi
Sec r umum, flowlines di meter pip y ng kecil d n tr nsport si c ir n
p d kecep t n tinggi
 d p t di t sidengn miny k t u miny k l rut ir l rut-in
hi itor Dispersi le,  k ren sering erhu ung n miny k deng n dinding pip
KOROSI inhi itor
UNTUK DAN g s KOROSI Atmosfer
Inhiitor Korosi untuk Atmosfer d n G s Korosi  
inhi itor korosi Vol tile (VCIs) jug dise ut inhi itor f s u p (VPIs)
mew kili ekonomi d n l t y ng s ng t ku t d l m memer ngi kerus k n t u korosi
g s tmosfer  dil kuk n untuk log m d n p du n.
inhi itor korosi Vol tile (VCIs), d l h seny  w di ngkut d l m lingkung
n tertutup
 ke situs korosi oleh pengu p n d ri sum er. VCIs d l h inhi itor or
g nik ke nyk n.
Inhi itor
 Korosi untuk Atmosfer d n G s Korosi
D l m oiler, seny w d s r vol tile, seperti  morpholine t u hidr zin,
di ngkut deng n up untuk menceg h korosi p d t ung kondensor deng n c r mene
tr lisir s m k r on dioksid t u deng n menggeser permuk n pH s m d n korosi
f terh d p nil i y ng kur ng.
D l m ru ng u p tertutup, seperti kont iner pengirim n, p d t n vol til
seperti g r m d ri dicyclohexyl mine, cyclohexyl mine, d n hex methylene- min d
igun k n.  
P d kont k deng  n permuk n log m,up terse ut mengem un d n g r m ter
hidrolisis oleh kelem n p pun untuk mem e sk n ion pelindung.
Efektivit s VCIs  
Kondisi pert m untuk efisiensi ik d ri inhi itor f s u p d l h kem
mpu n untuk menc p i permuk  n log m h rus dilindungi 
 Y ng kedu d l h hw tingk t tr nsfer molekul tid k oleh terl lu l m
t untuk menceg
 h ser ng  n w l d ri permuk n log m deng n lingkung n gresif
se elum inhi itor d p t ertind k
Efektivit s VCIs  
S ng t dih r pk n, untuk VCI efisien, untuk mem erik n inhi  isi cep t d
n ter khir untuk w ktu y ng l m . tingk t vol tilit s tertentu di utuhk n untuk
menyedi k n perlindung
 ninhi isi cep t d n t h n l m .
Se u h inhi itor vol tile  y ng tep
 t seh rusny tid k terl lu u p tek n
n tinggi, k ren k n hil ng se g i ki t d ri f kt hw k nd ng p d umumny
tid k ked p ud r , perlindung n kemudi n k n turun
Seny w vol tile menc p i konsentr si u p pelindung
 cep t, tet pi d l m
k sus k nd ng y ng tid k ked p ud r , konsumsi inhi itor d l h erle ih n d n j
ngk w ktu perlindung n efektif d l h pendek.
Inhiitor Korosi untuk Atmosfer d n G s Korosi  
Sehu ung n deng n kondisi di t s, efisiensi y ng ik d ri inhi itor f
s u p dipeng ruhi oleh:
o tek n n u p inhiitor, 
o j r k nt r sum er (s) inhi itor d n permuk n log m,
o ksesi ilit s d ri  permuk n.
Mek nisme Pengh
 m t n VCIs 
Proses inhi
 isi dimul i ketik u p menc p i permuk nlog m d n mengem u
n p d merek mem entuk l pis n tipis krist l. Sif t film ter entuk ter dsorpsi
p d nt rmuk ir log m merup k n f ktor penting mengend lik n efisiensi  VCIs.

Permuk n log m terken u p d ri  VCIs d l m w d h tertutup mem erik n u
kti tel h ditutupi  oleh l pis n hidrofo ik-ter dsorpsi. 
The VCIs ere ksi  deng n permuk n log m, sehingg mem erik n perlindung
n korosi.
 Peng ruh inhi  itor vol tile p d proses elektrokimi di permuk n log
m di uktik n oleh peru h n di neg r -st il elektrod potensi l d l m r h y n
g positif (mempromosik n p siv si).
Mek nisme Pengh m t n VCIs  
 Pergeser n positif umumny di m ti deng n se gi n es r VCIs  p d log m
esi merup k n indik si d ri efek nodik preferenti
 lly d ri inhi itor.
Efek ini mungkin erhu ung n nodik ik
 untuk mengh l ngi  efek sederh n
d ri situs nodik oleh min gi n d ri inhi itor t u kontri usi komponen n
ionik (y itu, komponen sm lem h). 
D l m k sus nitro enzo tes, mis lny , tel h mengkl im hw  percep t n p
roses p rsi l k todik oleh penurun n kelompok nitro d p t menye k n, di smpin
g peng  ruhoksigen p d l pis n elektrolit tipis, ke p siv si lengk p d ri esi
t u j is .
Inhiitor KOROSI UNTUK PIPA AIR PANAS DAN PERTUKARAN TETAP
Inhi itor Korosi Untuk Pip Air D n Burs Tetp P n s
Untuk pip ir tr nsport si pengend p n k r on t film ke permuk n log m
diingink n untuk perlindung n korosi 
Untuk per l t n penuk r p n s, pengend p n k r on t film h rus dikontrol
, sehingg konduktivit s p n s per l t n tid k erkur ng
Corrosivity Air
The corrosivity ir ditentuk n oleh:
o Klorid konten
o Sulf t konten
o Keker s n
H rd ir:

o Tinggi k r on t konten, indeks s tur si positif
o Non korosif, tet pi memf silit si deposisi sisik p d pip d n per l t n
pertuk r n p n s
Corrosivity Air
Soft ir:
o Ap k h tid k cenderung deposit sk l 
o H l ini digun k n d l m teknik listrik untuk-ump n oiler u p, ir pendi
ngin sistem penuk r p n s, industri m k n n
o Soft ir d l h korosif
Al m per ir n: 
o Klorid d n sulf t d p t erfluktu si 5-50 mg / l (ppm)
<50 mg / l = sedikit gresif
50-150 mg / l = cukup gresif
150 mg / l = s ng t gresif
• Corrosivity Air 
•   Efek korosif ir p d log m d p t s ng t dikur ngi t u hk n dihil ngk n, deng
n er g i c r :
1. Deng n mendepositok
 n d ri per ir n l mi film pelindung ke permuk n lo
g m deng n tuju n inhi itor
2. Deng n pengh pus n gen korosif d ri ir 
3. Deng n memperl kuk n ir deng n pengh m t
4. Pengend p n film ke permuk n per l t n pelindung d p t digun k n jik p
er l t n tid k digun k n untuk perpind h n p n s d n jik film didepositk n tid
k mengur ngi tr nsfer p n s. 
• Deposisi
 L pis n pelindung
  K r on t
•  Ke er d n k lsium ik r on t di per ir n ker s l m mempromosik n pengend p n k
r on t film pelindung ke permuk n log m.
• Tot l keker s n (H tot) di mg-equiv lent/liter:
 
di m n 20,04 d n 12,16 erturut-turut d l h er t set r deng n C d n Mg.

• Deposisi L pis n pelindung K r on t  
• Kekers n k r on t = H c, k ren keh dir n k lsium d n m gnesium ik r on t difo
rmul sik n se g i: 
• Deposisi
 L pis n pelindung
 K r on t
• Pem entuk n film k r on t terg ntung p d :
o Kes d h n ir d n
o CO 2 (k r on dioksid ) konsentr si
• Ap k h t u tid k film k r on t k lsium k n disimp n di permuk n log m terg nt
ung p d konsentr si CO 2 e s d l m ir.    
•  D l m l rut n ir y ng meng ndung seny w k r on t, ekuili rium d nt r er
g i entuk k r ondioksid :
H 2 CO 3 = H + + HCO 3 - (1)
2HCO 3 - = CO 3 2 - CO + 2 + H 2 O (2)
• Deposisi L pis n pelindung K r on t
• R sio nt r CO 2, HCO 3 - d n CO 3 2 - terg ntung p d :
o suhu ir d n
o pH 
• Untuk pH 3,7-4 (T = o C 25) 2 COst il
• Deng n ken ik n pH, fr ksi CO 2 erkurng, sed ngk n fr ksi HCO 3 - meningk  t
•  Untuk
 pH DI ATAS 8,4 pr ktis semu k r on dioksid h dir d l m ir d l h entuk
ion ik r on t (HCO 3 -). 
• Deposisi L pis n pelindung K r on  t   
•   Jik konsentrsi CO 2 d l m ir e s le ih es r d ri nil i ekuili rium, m k p
em u r n k lsium k r on t terj di:
C CO 3 + CO 2 + H 2 O C (HCO 3) 2
ir terse
 ut mencegh pengend p nC CO 3 film p d permuk n log m d n memf sili
t si pem u r n ter entuk film se elumny .
Oleh k ren itu sejenis ir diken k n C sc ding untuk mengh pus CO 2 gresif.
• Deposisi L pis n pelindung K r on t
• C sc ding dil kuk n deng n jenuh ir deng noksigen, y ng mengoksid si Fe 2 + me
nj di Fe 3 + y ng memf silit si pem entuk n oksid esi pelindung (hidroksid ) f
ilm 
• Air y ng meng ndung CO 2 gresif jug d p t dio ti deng n lk li, d l m juml h
y ng diperluk n untuk pengend p n k lsium  k r on t (C CO 3).
• C CO 3 d l h disimp n d l m entuk l pis n tipis kpur. Soft ir s m, meng ndu
ng sejuml h kecil c lciums d p t dio ti deng n k lsium k r on t, dolomit (MgO.C
CO 3) t u k pur. 
• Peng ruh pH Terh d p Deposisi K r on t     
• Ketik juml  h CO e s 2 d l h tid k cukup, e er p ion ik r on t mem usuk, d
n konsentr si k r on t (CO 3 2 -) ion n ik  
• ion
 k r on t kemudi n ere ksi deng n ion k lsium d n menye k n pengend p n k
lsium k r on t d ri ir C 2 + + CO 3 2- C CO 3 
• pH sesu i deng n kejenuh n ekuili rium ir oleh k lsium k r on t (pH SAT) dirumu
sk n oleh pers m n erikut: 
• Peng ruh pH p d Deposisi K r on t
• Jik pH <pH duduk:  
o CO 2 konsentr
 si d l m ir le ih tinggi d ri konsentr si kesetim ng n
o ir terse ut di ngg p korosif 
o Tid k d kesemp t n pengend p n k r on t film pelindung p d dinding pi
p ir
• Jik pH> pH duduk:  
o CO 2 konsentr si d l m ir le ih rend h d rip d konsentr si kesetim ng
n 
o ir terse ut dingg p tid k korosif
o Pengend p n k r on t film pelindung p d dinding pip ir d p t terj di.
• Indeks S tur si (J) 
• IndeksS tur si (J) didefinisik n se g i:
J = pH - pH S
• Untuk pH> pH duduk indeks POSITIF jenuh d n ir tid k gresif. 
• Untuk pH <pH duduk, indeks  NEGATIF jenuh d n pengend
 p n k lsium k r on t tid k
mungkin d n cenderung untuk mem u rk n deposito sud h ter entuk p d permuk n
log m.  
• Untuk pH = pH duduk, J = 0 er rti ir st il, tid k mengh silk n deposito t u
mel rutk n k r on t.
• Pengh pus n Korosif
 Agen d ri Air
• Tel h diket hui hw pengur ng n O 2 terl rut d l h proses k todik ut m untuk
korosi log m d l m elektrolit netr l. 
• J di jik re ksi reduksi ini dihil ngk n t u s ng t ter el k ng, proses korosi
k n h mpir sepenuhny ditek n.
• D l m pr ktekny metode ini diter pk n sec  r lu s, khususny
 d l m penyusun n
ir untuk pem ngkit listrik ten g nuklir d n pem ngkit listrik i s .
• Deng n metode ini k d r oksigen ir dikur ngi menj di 0,05 mg / l untuk 0,01 mg
/ l (ppm).
• Pengh pus n Korosif Agen d ri Air
• Oksigen d p t dihil ngk n d ri ir deng n menggun k n s l h s tu d ri tig metod
e:
o Deng n memperken lk n ke d l m seny w kimi ir y ng mengik t oksigen i
reversi el 
o Deng n meny ring ir mel lui resin pertuk r n elektron t u h n l inny
y ng m mpu mengoksid si oksigen
o Deng n de er tion term l
• Pengh
 pus n Oksigen d ri Air
• Be er p seny w kimi y ng tel h digun k n untuk menghil ngk n O 2 (pengik t ok
sigen) d l h:
o N trium sulfid (N 2 SO 3 + O 2 2N 2 SO 4)
o Hidrosulfide N trium (N 2 S 2 O 4)
o N trium tiosulf t (N 2 S 2 O 3)
o Sulfur dioksid (SO2)
o Hidr zin (N 2 H 4 + O 2 2H 2 O + N 2)
• Pengh pus n Oksigen d ri Air oleh Resin
• Oksigen pengh pus n jug d p t dil kuk n oleh resin pertuk r n elektron.
• resin pertuk r n elektron d l h produk d ri pendingin n pirog lol, hydroqionone
, hidr zin deng n fenol t u form ldehid .
• Elektron-ion-exch nge resin (resin EI) d l h k tion exch nger t u penuk r nio
n. 
• S t ir melew  ti resin terse ut, oksigen menj di terik t mel lui oksid si ion d
eng n v lensi y ng le ih rend h untuk ion deng n v lensi y ng le ih tinggi.
• Pengh
 pus n Oksigen d ri Air oleh Resin  
• Se u h contoh kh s d ri resin penuk r k tion EI, y ng meng ndung tem g d n es
i d l h EI-12.
• EI-12 d p t menyer
 p 45 g oksigen per m 3 resin.
• Resin d p t di u t ul ng setel h merek kehil ng n kem mpu n penyer p n merek
• Pengh pus n Oksigen d ri Air oleh De er tion Term l 
• Sel in metode kimi remov l oksigen, metode de er tion fisik jug ny k digun k
n.
• Aer si mem nf tk n efek penurun n kel rut n oksigen deng n ken ik n suhu.
• The-proses pengh pus n oksigen d p t ditingk tk n jik dil kuk n d l m ru ng h m
p .  
• Kel rut n oksigen di d l m ir p d temper tur y ng er ed (tot l tek n n ud r
d n u p ir = 0,1 Mp )
• Pengh pus n Korosif Agen d ri Air
• Sel in oksigen, gen korosif y ng d p t dih  pus d ri ir klorid d n sulf t.
• K ndung n g r m ir d p t dikurngi untuk e er p mg / l oleh distil si, pertuk
r n ion, t u Elektrodi lisis t u kom in si d ri teknik ini.
• Des lin si oleh pertuk r n ion d l h cocok untuk ir deng n k d r g r m kur ng
d ri 800 s mp i 1000 mg / l.    
• Untuk menc p i tingk t y ng le ih es r d ri des lin si, e er p t h p (2-3) d
ri pertuk r n ion h rus diter pk n. S linit s d p t dikur ngi 100-400 mg / l unt
uk 0,1-0,2 mg / l deng n du t h p penuk r ion. 
• Pengol h n Air deng n Sk l -Form si d n Inhi itor Korosi
• The-di ngg pteknik di t s untuk mengur ngi corrosivity ir l mi y ng efektif
tet pi tid k sel lu erl  ku.
• Pen m h n inhi  itor untuk ir tidk memint p r t rumit
• Aplik si inhi itor korosi h rus di ed k n nt r sistem ir minum d n sistem pen
yedi n ir industri.
• Inhi itor Korosi d l m Air Al m  
• Untuk ir minum kemungkin n menggun k n inhi itor s ng t ter t s k ren s nit s
i st nd r y ng ket t 
• Minum ir d p t dio ti h ny deng n dosis kecil d ri n trium silik t (30-40 mg
/ l, disk l untuk SiO 2) d n / t u met hex phosph te n trium (4 hingg mg / l
disk l untuk
 P 2 O5).  
• Se u h kemungkin n y ng le ih es r y ng tersedi untuk sistem p sokn ir-indus
tri: fosf t, polyphosph
 tes, silik t, chromtes, tungst tes, v n d tes, moly d t
es, nitrit, n trium enzo t, or t d n inhi itor org nik.
• Inhi itor Korosi d l m Air Al m  
• Ketik memperl kuk n ir deng n pengh m t, tig k sus y ng h rus di ed k n:
1. Pengol h n ir untuk mengur ngi corrosivity
 y ng
2. Pengol h n ir untuk mengur ngi pem entuk n sk l
3. Pengol
 h n ir untuk mengur ngi sk l us h d n corrosivity
Te l form si sk l h rus dihind ri k ren d p t mengur ngi konduktivit
s p n s p d per l t n pertuk r n p n s
Perlindung n Terh d p Sk l Form si
on-pertuk r n pip p n s 
Sk l pem entuk
 n di-tuk r pip p n s sec r umum menc kup k r on t k ls
ium, m gnesium d n esi.   
Untuk menghind ri proses pem entuk n-sk l , dekomposisi ion ik r on t m
el lui re ksi erikut ini h rus dihentik n.
2HCO 3 - = CO 3 2 - CO + 2 + H 2 O  
• Untuk menc p i ini, kesetim ng n re ksi h rus ergeser ke kiri oleh peng s m n.

• Air itu kemudi n mend p tk n indeks s tur si neg tif, n mun tid k is terl lu t
inggi (tet p nt r -0,3 d n -0,5) t u semu ny k n menj di korosif.
• Perlindung n Terh d p Sk l Form si
on-pertuk r n pip p n s 
• S l h s tu inhi itor y ng direkomend sik n untuk mengend lik n pem entuk n sk l
hex met phosph te (HMP). 
• N trium hex
 met phosph te tel h dil pork n untuk menceg h overgrowing k r on t k
lsium p d pip hk n d l m k sus-k sus di m n indeks s tur si positif
• H l ini cukup untuk menj g -HMP konsentr si n trium p d tingk t 1 s mp i 2 mg /
l, disk l untuk P2O5.
• Perlindung n Terh d p Sk l Form si
on-pertuk r n pip p n s 
• Trisodiumphosph te jug d p t digun k n, ukn HMP.    
• Kem mpu n fosf t untuk menceg h pertum  uh n erle ih "" k lsium k r on t dise
k n oleh dsorpsi ion fosf t p d k lsium k r on t mikro-krist l, y ng menghenti
k n pertum uh n d n deposisi krist l.
• Perlindung n Terh d p Korosi 
• Seperti tel h dise utk n, sif t gresif  ir d pt ditek n deng
 n ntu n n trium
silik t, n trium nitrit, krom t k lium t u ikrom t, enzo t, moly d tes, tung
st tes, min , dll  
• Silik t d p t digun k n ik d l m entuk p d t t u c ir. Untuk ir dingin, pen
ggun n silik t p d t di njurk n sej k tingk t pem u r n silik t p d t d l m i
r dingin rend h.   
• Pengend p n silik morf ke permuk n menceg h d ny pem u r n le ih l njut si
lik t.
N 2 O.nSiO 2 + H 2 O = 2N OH.nSiO 2 
• Skem konstruksi pen m h n sistem silik t p d t untuk melindungi t ngki erisi
ir p n s  
• T el: Minimum konsentr si silik t mem stik n perlindung n d ri pip ir j te
rh d p korosi
• Silik t 
• Silik t jug efektif d l m sistem sirkul si. Pen m h n 25 mg / l-modul silik t
y ng tinggi d l m ir y ng disirkul sik n ke men r pendingin cukup untuk menghe
ntik n korosi j sepenuhny  . L ju perpind h n p n s tid k terpeng ruh.
• Kep l gulung n ered r sistem jug d p t dilindungi  terh d p silik t menggun k
n korosi, p d konsentr si 250 hingg 500 mg / l k ren pem entuk n film-silik t
memimpin.
• Aluminium p du n d p t dilindungi terh d p korosi d l m sistem lir n deng n kon
sentr si silik t d l m ir 150-200 mg / l.
• Nitrit
 
• pip j jug d p t dilindungi terhd p korosi d l m ir deng n ntu n n trium
nitrit (NANO 2) y ng erfungsi se g i inhi itor p ssiv tor.
• Konsentr si nitrit n trium terg ntung p d isi d ri klorid , ion sulf t d n pH
ir.
• Deng n ken ik n suhu, ken ik n konsentr si n trium nitrit. 
• Deng n ken ik n pH ir, konsentr si n trium nitrit le ih tinggi diperluk n untuk
melindungi sistem terh d p korosi. PH optimum 8-9.
• Nitrit
• Sif t pelindung d ri ion nitrit ditek n p ling ku t oleh ion sulf t d n kur ng k
u t oleh ion nitr t. 
• Untuk
 konsentr si y ng s m deng n ion gresif, h rus d se u h NANO 2 konsentr
si y ng le ih tinggi
 di h d p n sulf t d ri klorid d n ion nitr t  
• Untuk inhi itor nitrit, gresivit s elektrolit d l h d l m urut n se g i erik
ut: sulf t> klorid > nitr t 
• Untuk nitrit, perlindung n tid k di m ti untuk inhi itor r sio / konsentr si klo
rid n trium <0,4. P d r sio> 0,7, perlindung n penuh dic p i.
• Nitrit 
• D l m k sus-k sus dim n j intensif
 di pend hulu n terken l rut n n trium kl
orid , perlindung n y ng sulit dic p i hk n p d r sio setinggi 0,7-2,0.
• Menj g j pend hulu n p d elektrolit y ng gresif t np inhi itor y ng mempu
 
ny i efek uruk p d perlindung n, k ren dsorpsi ion klorid mengh m t p siv
tor dsorpsi ion. 
• Deng n k t l in, itu jel s sulit gi ion nitrit untuk mengusir ion klorid sud
h tertutup d ri permuk n log m d rip d tid k mengizink nny untuk ter dsorpsi
.  
• T el: Perlindung n sif t n trium nitrit (NANO 2) se g i fungsi d ri konsentr s
i n trium klorid
• Nitrit 
• Korosi terj di jik r sio konsentr si inhi itor terh d p tot l konsentr si ion
gresif kur ng d ri s tu (<1).  
• I jug telh menc t t hw n trium nitrit le ih efektif d l m menek n klorid
sif t gresif d ri enzo t d n krom t.
• Dengn d ny sulf t, nitrit d l h s m efektifny deng n krom t.  
• Sehu ung n deng n ion nitr t, meningk tk n efektivit s inhi itor y ng er ed d
l m urut n se g i erikut:> krom t enzo t> nitrit.
• Nitrit   
• Sif t p siv tor ion nitrit i s ny tel h erk it n deng n f kt hw Fe 2 O 3
oksid entuk film p d permuk n nitrit j mempromosik n pem entuk n l pis n
p sif.
• Mek nisme psiv si diy kini mel lui oksid si Fe (OH) 2 oleh ion nitrit
 re ksi. G
-Fe 2 O 3 d l h le ih j uh ter entuk p d permuk n log m sesu i deng n erikut
:
NO 2 - + 8H + + 6e = NH 4 + + 2H 2 O
6Fe (OH) 2 = 2Fe 3 O 4 + 4H 2 O + 4H + + 4e
2Fe 3 O 4 + H 2 O = 3 2 O 3) + 2H + + 2e
2H 2 O = 2H + + 2OH -
• Nitrit   
• Menurut re ksi di t s, entuk l pis n p sif se g i ki t oksid si oksid v le
nt v lent y ng le ih rend h ke le ih tinggi deng n oksigen deng n c t lyz tion i
on nitrit.
• Ion monium (NH4 +) dioksid si oleh oksigen terl rut d n h sil d l m regener si
nitrit menurut re ksi erikut:
NH 4 + + 4H 2 O + 1/2O 2 = NO 2 - + 3H 2 O + 2H +
• Chrom
 tes 
• Se g i nitrit, krom t d l h inhi  itor nodik. 
• Chrom tes d p t digun
 k n untuk esi d n log m non-ferrous ik terh d p korosi.
• Krom t jenis inhi itor: N 2 Cro 4, K 2 Cr 2 O 7, N 2 Cr 2 O 7, Li 2 Cro 4, (NH
4) 2 Cro 4. 
• The krom t t u konsentr
 si ikrom t k n terg ntung p d komposisi ir d n suhu
• Untuk ir ledeng i s , pen m h n 0,2-0,5% krom t h rus mem d i untuk menceg h
terj diny korosi j p d suhu k m r.
• Chrom tes
• Untuk k d r klorid tinggi ir (1-100 mg / l), konsentr si krom t h rus ditingk
tk n menj di 2-5%.    
• Chrom tes memiliki sif t s y ng le ih d n memiliki keuntung n le ih d ri ikr
om t. 
• Jik ikrom t digun k n, dis r nk n untuk lk lize ir untuk pH 8 hingg 9 deng
n men m hk n sod k ustik.  
• Jik ir memiliki pHtinggi, ikrom t d p t digun k n t np lk lis si t m h n.
• Penggun n krom t di t si oleh peng ruh lingkung n inhi itor ini.
• Chrom tes 
•  Deng n ken ik n suhu elektrolit, sif t protektif terh d p krom t d n ikrom t j
uh erkur ng.  
• P d suhu p d 80-90 o C, krom t t u konsentr si ikrom t d l m ir ker n i s
h rus ditingk tk n menj di 1 - 2%.
•  Jik ikrom t digun k n, dis r nk n untuk lk lize ir untuk pH 8 hingg 9 deng
n men m hk n sod k ustik.  
• Jik ir memiliki pH tinggi, ikrom t d p t digun k n t np lk lis si t m h n.
• Simult n Perlindung n terh d p Korosi d n Sk l Form si
• Untuk mem eli per l t n perlindung n simult n terh d p korosi, umumny digun k n
polyphosph tes
• Y ng p ling sering digun k n d l h:
o N trium hex met phosph te (NAPO 3) 6
o N trium Tripolyphosph te N 5 P 3 O 10
o N trium trifosf t N 3 PO 4 H 2 O 0,10, d n
o N trium N 2 HPO difosf t 0,12 4 H 2 O
• Simult n Perlindung n terh d p Korosi d n Sk l Form si
• Ordin t d ri gr fik d l h y ng dise ut "sehingg st ilit s indeks" (2pHs t - p
H), y ng d p t digun k n untuk menentuk n p k h ir d l h korosif t u memilik
i kecenderung
 n untuk mem entuk sk l . 
• sis d l h juml h polifosf t yng h rus dit m hk n ke ir.
• Menurut gr fik, untuk indeks st ilit s s m deng n en m, ir tid k cenderung un
tuk mem entuk  sk l t upun terkorosi, d n h ny d l m juml h sedikit polifosf t
h rus dit m hk n.
• Simult n Perlindung
 n terh d p Korosi d n Sk l Form si 
• Untuk indeks le ih tinggi d rien m, ir penye korosi, k ren indeks le ih re
nd h d ri en m, i cenderung untuk mem entuk deposito.
• D l m kedu k sus, konsentr si polifosf t d l m ir h rus ditingk tk n.
• Konsentr si tertinggi polifosf t umum digun k n d l m pr ktik
 d l h 6-10 mg / l
. Di t s tingk t ini tid k di njurk n k ren sering cenderung mem entuk deposit
k r on t.

Anda mungkin juga menyukai