Selama ini kita menganalisis distribusi pembawa muatan (charge/carrier) dalam keadaan setimbang
thermodinamika. Dimana kesetimbangan melalui persamaan :
np = ni2
Ketika sistim terganggu (perturbed) dari kesetimbangan maka system berusaha menuju
kesetimbangan melalui proses Rekombinasi – Generasi.
Rate (R) ini akan proporsional terhadap deviasi dari kesetimbangan yaitu,
R = A (np – ni2 )
G Photo-eksitasi
= h (enerji photon)
Generasi
Rekombinasi
Rekombinasi Langsung Ban ke Ban (Direct Band – Band Recombination
n = lifetime elektron
p = lifetime hole
Transisi langsung ban – ke –ban
Semikonduktor ‘gap enerji langsung’ (direct bandgap)
R = r np
Ro = r nOpO = r ni
R’ = R - RO = r ( np – ni2 )
Injeksi level-rendah (Low level injection)
( )
= [ − ( ) ( )] (∴ ( ) ≪ )
( )
= − ( ) ( ℎ )
()
= − ( ) = (0)
(10.1)
(10.2)
(10.3)
(10.4)
Disini, is the medan listrik, medan magnetik , vektor displacement, dan kerapatan fluks
magnetik . J adalah rapat arus, rapat muatan, and / t adalah derivative parsial terhadap waktu.
Persamaan (10.1) mengekspresikan medan listrik terbangkitkan oleh perubahan medan magnetik (Hukum
Faraday untuk Induksi) , Persamaan (10.2) memperhitungkan ketiadaan kutub (pole) magnetic magnetic
monopoles (sumber magnetic ), Persamaan (10.3) merefleksikan bagaimana arus listrik dan perubahan medan
magnetic menghasilkan suatu Medan Magnetik (Hukum Ampere-Maxwell) dan persamaan (10.4) meng-
korelasikan Medan Listrik dengan adanya Muatan Listrik (elektron atau/dan hole) (Hukum Gauss) .
Kita menggunakan Hukum Maxwell untuk menurunkan persamaan –persamaan Material Teknik Elektro
(Semikonduktor), yang dikenal sebagai persamaan Poisson dan Persamaan Kontinyuitas.
Persamaan Poisson's menghubungkan potensial elektrostatik terhadap distribusi muatan . Persamaan ini
dapat diturunkan dari (10.4) menggunakan relasi terhadap vektor Displacement dan vektor medan listrik,
(10.5)
Dimana adalah tensor permitivitas. Relasi ini berlaku untuk material dengan permitivitas tidak tergantung
waktu. Dimana material yang digunakan dalam Devais Semikonduktor umumnya tidak memperlihatkan
anisotropi yang signifikan dalam permitivitas, , dapat dianggap sebagai kwantitas skalar.
Dengan x E , medan listrik E dapat diekspresikan sebagai medan gradient dari potensial
E =
Dengan mengganti (10.5) dan (10.6) ke dalam (10.4) , diperoleh
∇. = . = − → = − (10.7)
= ( − + ) (10.8)
Dimana q adalah muatan elektron, p dan n adalah masing-masing konsentrasi hole dan elektron, dan
adalah konsentrasi tambahan , muatan tetap. Muatan tetap (fixed charges) berasal dari dopant/
ketidakmurnian, donor (ND) dan akseptor (NA) yang terionisasi , dan trap untuk hole (p ) dan elektron (n)
= − + − (10.9)
Melibatkan trap pembawa muatan dalam suatu simulasi penting karena menunjukkan dampak degradasi
kinerja devais
Bersama persamaan (10.8) and (10.9) membawa ke persamaan Poisson's yang biasa digunakan dalam
simulasi devais semikonduktor ,
Persamaan Poisson’s :
(10.10)
10.2.3 Persamaan Kontinyuitas (Continuity Equations)
Persamaan kontinyuitas dapat diturunkan dari persamaan (10.3) dengan melakukan operasi divergence, ,
terhadap persamaan (10.3) tersebut dimana divergence curl suatu medan vektor adalah sama dengan 0
(10.11)
(10.12)
Net perubahan hole dalam diferensial volum semikonduktor tipe-p per satuan waktu adalah,
(10.13)
Komponen pertama di sebelah kanan menunjukan meningkatnya jumlah hole per satuan waktu akibat fluksi
hole, sedangkan komponen kedua menunjukan bertambahnya jumlah hole per satuan waktu oleh Generasi
hole dan komponen terakhir menunjukan berkurangnya hole per satuan waktu oleh proses Rekombinasi.
Rate rekombinasi hole termasuk rekombinasi dan
rekombinasi dari konsentrasi ekses dalam keadaan
setimbang (thermal equilibrium)
Memisahkan antara total Rapat Arus J kedalam arus hole dan elektron, = ̅ + ̅ , dan menggunakan
persamaan (10.4) dan (10.9) menghasilkan persamaan
(10.17)
Ketidakmurnian yang terionisasi (donor dan akseptor yang terionisasi) tidak berubah terhadap waktu dan
mengenalkan besaran R, memisahkan persamaan (10.13) ke persamaan yang terpisah untuk elektron dan
hole, diperoleh :
(10.18)
G–R
G – R2.1 (10.19)
G adalah Rate Generasi pasangan elektron dan hole, dan R adalah rate Rekombinasi elektron-hole .
Dengan persamaan arus J adalah total Arus Drift dan Difusi masing-masing untuk elektron,
= +
Dan untuk hole : = −
Dengan membagi arus J dengan q akan sama denga Fluksi pembawa muatan elektron dan hole sebagai
berikut:
+q -q
( )
=− + + −
( )
= + + −
( )
= +
( )
= +
=+ − + + −
=+ + + + −
Dalam keadaan setimbang thermodinamika konsentrasi : elektron no dan hole : po bukan fungsi
waktu serta untuk semikonduktor yang homogen, konsentrasi : elektron no dan hole : po konsentrasi
: elektron no dan hole : po , juga konstan bukan merupakan fungsi posisi . no hanya : no = ND
(konsentrasi donor) , dan po = NA (konsentrasi akseptor) ( pada T=temperature kamar = 300K )
Diketahui konsentrasi elektron dan hole sekarang juga termasuk ekses konsentrasi elektron n dan
n akibat proses Generasi , sehingga total konsentrasi elektron dan hole :
= +
= +
Sehingga persamaan Kontinyuitas dapat dituliskan sekarang dapat dituliskan sebagai berikut :
Dalam transport Ambipolar, ‘excess’ elektron dan excess hole meng-Generasi-kan dan Rekombinasi bersama :
E
Transport Ambipolar dalam injeksi rendah (Low injection, n = p << nO (tipe – n) atau << pO (tipe=p)
Solusi :
E=0
g’= 0
( ) ( ) ( )
− + − =
( ) ( )
− =
( )
− =
( )= (0)
( )= (0)
Contoh 10.2 :
( ) ( )
− = ⇒ + − =0
( ) = (1 − )
( ) ʹ
Pada keadaan steady-state : = 0 ⇒ ( = ∞) =
Contoh 10.3 :
Solusi :
E=0 ( )
Steady state , =0
( ) ( ) ( )
− + − =
( )
Pada x = 0, + − = 0
( )
Pada x 0 , − = 0
( )
− = 0
Solusi umum : ( )= +
( )= (0) , ≥0
( )= (0) , ≤0
Komsentrasi (skala log)
Tipe –p m
Contoh 10.4 :
Solusi :
0
( ) ( ) ( )
− + − =
−( − )
( , ) = ( , ) = exp
4 4
Pulsa ekses pembawa muatan minoritas (hole) diinjeksi di kontak A pada waktu t=0
Tegangan puncak pulsa akan muncul di kontak B pada t = tO . Selama perjalanan waktu dan
gerak (difusi dan drift) disepanjang semikonduktor mencapai kontak B pembawa muatan
minoritas (ekses) akan mengalami rekombinasi .
minoritas : =
−( − )
( , ) = ( , ) = exp
4 4
Waktu
Pada t= t1 atau t= t1 ,
−( − )
( , )= = −1
4
∴: ( − ) =4 , = = ∆ = − = 2( − ) = 2( − )
( ) ∆
ℎ ( ) ∶ ∴ =
16
= ( , 0)
( , 0)
( , 0) =
=
Luasan S dibawah kurva p adalah jumlah hole yang tidak rekombinasi dengan pembawa
muatan majoritas (elektron) :
−( − )
( , ) = ( , ) = exp
4 4
−
⎡ ⎤
⎢ ⎥ −
= = ⎢ ⎥ = exp
⎢ ⎥
⎣ ⎦
Plot ln (S) terhadap perubahan berupa kurva garis lurus dengan kemiringan (slope)
−
⎧ ⎡ ⎤⎫
⎪ ⎢ ⎥⎪ 1
ln( ) = ln( ) − ln = . ⎢ ⎥ = ( ) − .
⎨ ⎬
⎪ ⎢ ⎥⎪
⎩ ⎣ ⎦⎭
ln (G)
EO EO 0
Contoh Soal 10.5 :
Suatu batang Silikon tipe-p digunakan dalam eksperimen Haynes-Schockley. Panjang semikonduktor
Si tersebut 1 cm. Jarum (probe) untuk injeksi pulsa dikontak 1mm dari pangkal Si, sedangkan jarum
untuk mengukur tibanya pulsa dan dihubungkan ke osiloskop untuk mendeteksi pulsa terletak 1mm
dari ujung semikonduktor. Batere dipasang antara pangkal dengan ujung batang semikonduktor Si
dengan tegangan 2V. Pulsa yang dikoleksi dari jarum (probe) diamati di osiloskop tiba 0.8ms setelah
injeksi. Pulsa menyebar pada titik koleksi dengan 1/e harga amplituda puncak adalah 405s. Hitung
mobilitas elektron dan koefisien difusi serta verifikasi apakah relasi Einstein terpenuhi.
Solusi :
Mobilitas elektron :
12,8
= = 0,0256 ≃ ( ℎ)
500
10.5. Level Enerji Quasi-Fermi (Imref).
Selama ini level enerji Fermi semikonduktor dalam keadaan setimbang thermal (thermal
equilibrium). Level enerji Fermi (F) menunjukan konsentrasi pembawa muatan elektron dan hole,
dimana konsentrasi elektron (n) atau/dan hole (p) dengan konsentrasi > konsentrasi intrinsik : ni = pi,
yang diperoleh dengan men-dop dengan elemen ketidakmurnian (dopant, untuk Silikon dari
golongan III : B(oron), Al(uminum) atau Ga(lium) sebagai akseptor, dan golongan V : P(hosphor),
Arsenik (As) dan Antimoni (Sb) sebagai donor). Level enerji Fermi dalam keadaan setimbang thermal,
( )= =
( )= =
Terjadi ekses pembawa muatan baik elektron (n) maupun hole (p) , sehingga semikonduktor tidak
dalam keadaan setimbang thermal dan level enerji dalam keadaan setimbang thermal, F , tidak
berlaku lagi . Didefinisikan level enerji Fermi baru untuk keadaan tidak setimbang thermal (non-
thermal equilibrium) untuk masing-masing pembawa muatan (elektron dan hole). Dalam keadaan
tidak setimbang thermal, level enerji Fermi yang sekarang didefinisikan untuk masing-masing
pembawa muatan : dinamakan level enerji quai-Fermi (Imref ) : - untuk elektron : Fn dan untuk hole :
Fp , tidak konstan di dalam semikonduktor. Konsentrasi pembawa muatan dalam keadaan tidak
setimbang thermal, masing-masing untuk elektron dan hole sekarang :
Ekses elektron (n) dan hole (p) dibangkitkan oleh generasi oleh proses photo-generasi (eksitasi
photon, seperti terjadi di sel Photovoltaic = sel surya, photodetector) , oleh thermal , tekanan
(piezoelektrik), maupun elektronik seperti injeksi melalui barier junuction seperti dari emitter ke base
transistor Bipolar atau junction ntri.
Konsentrasi elektron dalam keadaan ‘non-thermal equilibrium’ dengan Imref (quasi Fermi : Fn ) :
( )= + = =
Konsentrasi hole dalam keadaan ‘non-thermal equilibrium’ dengan Imref (quasi Fermi : Fp ) :
( )= + = =
np ni2
Suatu semikonduktor tipe – n dengan konsentrasi merata pada temperature kamar, T=300K .
Konsentrasi elektron pada thermal equilibrium : nO = 1015 [cm-3] , konsentrasi ntrinsic : ni = 1,1.1010
[cm-3] dan pO = 1,2.105 [cm-3]. Dalam keadaan tidak setimbang thermal ,n=p= 1013 [cm-3]. Tentukan
level enerji Quasi-Fermi .
Solusi :
= ⟹ − = = 0,0256 ln =0,2923eV
, .
= + = ⟹ − = ⟹ − =
10 + 10
− = 0,0256 = 0,2926
1.1 10
= + = ⟹ − =
,
− = 0,0256 = 0,1744
.
0,2923eV
0,2923eV
0,2926eV
0,1744eV
Karena pembawa muatan mayoritas (elektron) tidak berubah secara signifikan dari keadaan
setimbang thermodinamika (thermal equilibrium), maka level enerji quasi-Fermi ε =
0,2923eV + tidak berbeda banyak terhadap level enerji Fermi dalam keadaan setimbang
thermodinamika, ε = 0,2923eV +
Untuk pembawa muatan minoritas (hole), level enerji quasi-Fermi sangat signifikan
menunjukan konsentrasi ekses hole memberikan banyak perubahan disbanding konsentrasi
dalam keadaan setimbang thermodinamika.
10.5. Rekombinasi Schockley Read Hall (SRH)
Dalam semikonduktor sempurna (ideal), di daerah terlarang (gap enerji) tidak terdapat states (level
enerji). Di semikonduktor riel :
Cacat (trap) terdapat dalam Kristal, menciptakan ‘states’ level enerji diskrit atau ban enerji
ketidakmurnian dalam daeraj terlarang (Gap Enerji)
‘States’ cacat ketidakmurnian ini menjadi efek dominan dalam menentukan waktu hidup
(lifetime) pembawa muatan dalam semikonduktor.
Rekombinasi SRH melalui trap do dalam gap enerji sebagai pusat rekombinasi (Recombination Center),
sebagai entitas yang menangkap (Capturing) elektron dan hole dengan probabilitas yang hampir sama.
Teori Schockley-Read-Hall :
Diasumsikan suatu pusat rekombinasi tunggal dengan enerji terdapat dalam enerji gap
Bila suatu trap adalah trap – menyerupai akseptor (acceptor like trap) maka akan bersifat
muatan negatip ketika mengandung suatu elektron dan bersifat netral ketika mengandung
suatu elektron.
g g
g
Proses 1 : Capture Electron
( ) =
g
Bagaimana relasi antara Rate ‘Capture’ elektron dengan Rate Emisi elektron
= ( ℎ )
. . 1− ( ) . = .[ . ( )]
1− ( ) . 1.
. = ⇒ . −1 . =
( ) ( )
− − −
. 1+ −1 . exp − = ⇒ = − .
− −
= ⇒ ∶ = − =
Relasi antara konstanta emisi dan konstanta ‘capture’ berlaku di semua kondisi termasuk ketika level
Fermi terletak pada level enerji trap, dimana trap menjadi proses yang dominan dalam memberikan
elektron konduksi. Emisi elektron meningkat secara eksponensial ketika enerji trap terletak dekat
Ban Konduksi.
Demikian juga bagaimana relasi antara ‘Capture’ hole dengan emisi hole :
Proses 3 : Rate ‘Capture’ hole : = . . ( ) .
1
( ) =
−
1 + exp
= . . ( ) . = = . . 1− ( )
1
. . ( ) . = . . 1− ( ) ⇒ . = . −1
( )
− − −
. − = . 1+ −1 = .
−
− −
= . = . ⇒ = . ′
−
Dimana : p’= =
o Konstanta Capture ditentukan oleh kecepatan thermal vth dan luas penampang capture trap (cross-
section) : n (untuk elektron) dan p (hole capture cross-section area).
Sehingga konstanta capture untuk elektron :
Cn = vth . n ,
Konstanta Emisi : En (untuk elektron) dan Ep (untuk hole) , ditentukan oleh konstanta ‘Capture’ dan
konsentrasi pembawa muatan dengan level Fermi, F= t (level enerji trap) :
− −
= . , = − =
− −
= . , = − =
Emisi elektron meningkat secara eksponensial dengan level enerji trap (Et , trap states) mendekati ban
Konduksi, sementara emisi hole meningkat secar eksponensial dengan level enerji trap (Et ) mendekati Ban
Valensi.
= . . 1 − ( ) . = . . ( ) .
= . [ . ( )] = . . 1− ( )
Dalam keadaan tidak setimbang thermodinamika (non-thermal equilibrium) :
Net rate ‘Capture’ elektro pada trap akseptor :
= −
= − = . . 1− ( ) . – .[ . ( )]
= . . 1− ( ) − ′. ( ) , dengan = − =
Net Rate ‘Capture’ hole pada trap akseptor (Proses 3 dan proses 4 ) :
− −
= . . ( )− 1− ( ) , ’= =
. . 1− ( ) − ′. ( ) = = . . ( )− 1− ( )
+
( ) =.
( + ′) + ( + ′)
Hukum Mass Action untuk emisi elektron dan emisi hole dari level trap berlaku seperti dalam keadaan
setimbang thermal :
− −
= =
−
= =. =
( + ′) + ( + ′)
Rn
Rp
Rekombinasi didominasi proses Rekombinasi SRH, rate Rekombinasi ekses pembawa muatan sebagai
berikut :
−
= =
( + ′) + ( + ′)
Rekombinasi SRH dalam keadaan injeksi rendah (low injection) :
Kasus I :
Semikonduktor tipe-n dengan trap enerji dalam (dekat i) pada injeksi rendah
≫ ( − )
≫ ( ℎ )
≫ , ≫ ( ) ⇢ ( − )>3 ℎ )
− ( )
= = ≈ =
( + ′) + ( + ′)
= =
Untuk semikonduktor tip-n dengan level enerji trap dalam (‘deep trap , ( − )>3 ,
ε lebih dekat ke ε , tengah gap enerji ) , net rate rekombinasi dibatasi oleh proses tangkap (capture) hole
(pembawa muatan minoritas) selama rekombinasi SRH. Rekombinasi ditentukan oleh waktu paruh (lifetime)
pembawa muatan minoritas (hole).
1
= = = ⇒ ∶ = ( ℎ − )
Rn
Rp
Bila konsentrasi ‘trap’ (Nt) meningkat probabilitas rekombinasi ekses pembawa muatan meningkat, maka
waktu paruh (lifetime, PO ) menjadi lebih singkat.
Kasus II :
Semikonduktor tipe-p dengan trap enerji dalam (dekat i) pada injeksi rendah
≫ ( − )
≫ ( ℎ )
≫ ′, ≫ ′, ( )
− ( )
= = ≈ =
( + ′) + ( + ′)
= =
Untuk semikonduktor tipe-p dengan level enerji trap dalam (‘deep trap , ( − )>3 ,
ε lebih dekat ke ε , tengah gap enerji ) , net rate rekombinasi dibatasi oleh proses tangkap (capture) elektron
(pembawa muatan minoritas) selama rekombinasi SRH. Rekombinasi ditentukan oleh waktu paruh (lifetime)
pembawa muatan minoritas (elektron).
1
= = = ⇒ ∶ = ( ℎ − )
Rn
t
Rp F
1
= = = ⇒ = ( − , ℎ)
Bila konsentrasi ‘trap’ (Nt) meningkat probabilitas rekombinasi ekses pembawa muatan meningkat, maka
waktu paruh (lifetime, nO ) menjadi lebih singkat
Kasus III :
Semikonduktor tipe-p/n dengan ‘deep trap’ (enerji dalam lebih dekat i)
−
= = ( )
( + ′) + ( + ′)
−
= = ( )
( + ′) + ( + ′)
Contoh Soal 10.6 :
= = , = + , = +
Asumsi ‘deep trap’ dengan level enerji trap dekat level enerji intrinsik
= = , ℎ = = ( ) ( )
Solusi :
( + )( + ) − (2 )( )
= =
( + + )+ ( + + ) + (2 + )
≪ = = ; = +
−
0= −
− −
( )= exp − +
= = ℎ
-XB XE
xB >> Lp
xE >> Ln
(B dan E mewakili dioda junction Base – Emitter di transistor Bipolar pnp)
ni2
Jn (x) = q Dn ( e qV/kT – 1 ) e (x-x ) / Ln
p
NA Ln
Arus total pembawa muatan minoritas di x = - xp dan x = xn (“Governing equation”):
Disamping Rekombinasi SRH (Schockley – Read – Hall), rekombinasi juga terjhadi di/disebabkan :
A p-type Si sample is used in the Haynes-Shockley experiment. The length of the sample is 2 cm and the two
measurement probes are separated by 1.9 cm. The voltage applied across the two ends of the sample is 5 V. A
pulse arrives at the collection point 0.608 msec after its injection at the injection point, and the spread of the
pulse t at the collection point is 180 sec. Calculate the electron mobility and diffusion coefficient, and verify
whether Einstein relation is satisfied.