BAB I Proses pada permukaan padat

BAB II Elektrokimia dinamika

Referensi :
P.W. Atkins, Physical Chemistry, 5th edition
Samuel H Maron, and Carl F. Prutton, Principles of
Physical Chemistry, third edition
BAB 29
KIMIA FISIKA II

I. PROSES PADA
PERMUKAAN
PADAT
TIM KIMIA FISIKA
JURUSAN KIMIA
FMIPA UNAND
Proses pada permukaan  menentukan
kebanyakan aspek kehidupan
Proses pada permukaan padat,
menentukan kelangsungan industri.
Positif  mis: katalis
Negatif  mis: korosi

diperlukan aspek dinamika dasar

dari permukaan dan peranannya
diperlukan
 Aspek Dinamika Dasar Dari
Permukaan
• Daerah tempat padat tumbuh
• Daerah tempat terjadi penguapan dan melarut
• Jika terkontaminasi oleh material/ air dapat memberika
n aspek sebagai katalis heterogen.

Pada permukaan suatu material dapat terjadi akumulasi

partikel yang disebut adsorpsi

Material/partikel yang teradsorpsi disebut dengan

adsorpat

Material permukaan yang menyerap disebut dengan

adsorben
1.Physisorption Absorptio
Adsorpti
n
2.Chemisorption
on
Akumulasi partikel
pada permukaan
Akumulasi partikel
sampai ke
seluruh bagian
permukaan
Desorpti
on
Adsorbat Adsorben
e terserap
Zat yang t yang
Material
ke permukaan menyerap
material

• Proses kebalikan dari adsorpsi

Desorpsi
• Gambaran peran suatu permukaan
Katalis
 Pertumbuhan Permukaan

1. Molekul gas bertumbukan 2. Kristal ion bersentuhan de-

dengan permukaan bagai- ngan larutan, ion-ion dalam
kan bola yang melambung larutan akan menyingkirkan
di atas permukaan, pd saat molekul-molekul pelarut
tersebut terjadi kehilangan dan menempel pada posisi
energi, hal ini berlangsung permukaan yang terbuka
berulang2 sampai molekul
kehilangan energi yang
banyak dan akhirnya
molekul terperangkap
Permukaan cacat terdapat tonjolan lapisan atom
atau ion yang tidak lengkap
Ada beberapa Jenis cacat permukaan :
1. Tangga dua lapisan yang tidak datar
2. Tekukan cacat tangga dalan bentuk
tekukan
teras

Tekukan Tonjolan
Adanya perluasan permukaan dan pertumbuhan kristal
yang akan dapat menggambarkan struktur permukaan
yg berperan pada katalisis.
Jika atom terletak pd teras, atom tsb melambung mele
wati karena pengaruh potensial antarmolekul dan dpt s
ampai padatangga atau sudut yg dibentuk oleh tekuka
n.
Selanjutnya atom tsb tdk berantaraksi dengan satu ato
m teras tetapi dgn beberapa beberapa atom. Antaraksi
ini dapat memerangkapnya.
Demikian juga, jika ion mengendap dari larutan, antarak
si pelarutan dilampaui oleh antaraksi coulomb antara io
n yg datang dan beberapa ion pada cacat permukaan.
Cacat Permukaan
terjadi di suatu daerah kristal terdorong keatas
sebesar satu/ lebih sel satuan kristal yang relatif
terhadap permukaan lain. Potongan memanjang
sampai sumbu skrup.

Jika terjadi pengendapan/pertumbuhan pada

daerah sekrup secara merambat, seperti tangga
berotasi mengelilingi sumbu sekrap memrambat
tepi spiral. Proses ini terjadi pada sisi kiri dan
kanan/berlawanan . Hasilnya menghasilkan
Bidang Datar
 Permukaan yang bertindak sebagai katalis suatu reaksi harus
merupakan permukaan adsorban yang bersih
 Pada kondisi normal permukaan secara konstan selalu ditutupi oleh
molekul-molekul gas
 Kecepatan penutupan sesuai dengan teori kinetik gas yaitu jumlah
tabrakan persatuan luas dan persatuan waktu pada tekanan P yaitu

p
Zw 
 2mkT  1 / 2
Z w   2.63 x 10 
24 2 1 p / Pa
m s x
 T / K  x M / gmol 
1 1/ 2

M = masa molar gas

Untuk udara (M=29,9 mol-1) pada 1 atm dan 25°C frekuensi tumbukan 3 x 1027m-2s-1.
karena 1m2 permukaan logam terdiri dari sekitar 1019 atom, maka setiap atom
diserang sekitar 108 kali perdetik

Jika saat tabrakan ada molekul teradsorpsi, berarti permukaan tidak bersih lagi.
Metoda Untuk Menentukan Komposisi Permukaan

1. TEKNIK VAKUM TINGGI

• Dalam prosesnya tekanan diperkecil sampai

1 torr akibatnya frekuensi tumbukan akan
turun sampai 4x1015 kali/detik m2 ( artinya
tumbukan yang dilakukan oleh 1 atom
terjadi dalam setiap 3 detik bila pd metoda
Vakum Ultra tinggi tekanan mencapai 1 n
torr (10-9 torr) tumbukan Zw= 1011 m-2S-1.
 2. TEKNIK
IONISASI Contoh
• Metoda untuk mendeteksi • Benzen teradsorpsi pada
komposisi permukaan oleh alat permukaan bidang, molekulnya
spektroskopi foto elektron / jajar dengan permukaan,
spektroskopi foto emisi dengan dengan antaraksi melalui
sinar x / ultra ungu dikenal orbital Π (pi) dari benzen
dengan x – PES mendeteksi dengan permukaan padat.
jenis material. UV-PES Piridin teradsorpsi pada
mempelajari e- yang keluar permukaan tegak lurus dengan
dari kulit valensi, sehingga permukaan melalui ikatan
dapat ditentukan sifat ikatan orbital  dengan pasangan e
yang terjadi antara adsorbsi bebas dari atom N piridin.
dengan substrat
Spektrum Emisi Fotoelektron Sinar-x Dari Sampel
Emas Yang Terkontaminasi Dengan Lapisan Raksa
Permukaan

Au

Hg

80 100 120
Binding energy (eV)
 3. SPEKTROSKOPI KEHILANGAN ENERGI
ELEKTRON (ELLS)
• Untuk mempelajari/ mengenali senyawa
adsorbat, serta pada proses dipermukaan
tersebut adsorbat mengalami disosiasi/atau
tidak. Resolusi/ kepekaan metodanya sangat
tinggi antara lain untuk ketebalan 0,1 %
monolayer dapat dideteksi dengan jumlah
atom pospor yang teradsorpsi 48 atom dapat
dideteksi
Spektrum kehilangan energi elektron dari Co yang teradsorpsi pada Pt(111).
Hasil untuk tiga tekanan yang berbeda dan pertumbuhan pucak tambahan pada
sekitar 200meV (1600 cm-1)
4. SPEKTROSKOPI ELEKTRON
AUGER (AES)

• Merupakan emisi e- kedua

(E yang dipancarkan oleh e-
kedua saat berpindah /
eksitasi ketempat
kedudukan e- pertama yang
punya orbital dengan E
yang rendah. E yang
dilepas ini disebut dengan
pendar flour sinar x
 5. DIFRAKSI ELEKTRON ENERGI RENDAH

• Dapat memberikan informasi tentang susunan

atom didekat permukaan seperti

- Posisi atom vertikal/ herizontal

- Susunan atom teratur / menyebar

- Atom adsorbat dipermukaan ada pengotor/
terkontaminasi
- Susunan atom dipermukaan mengalami
rekonstruksi.
 6. MIKROSKOPI EMISI DAN
IONISASI MEDAN (FEM)

Alat yang dapat mendeteksi dimana

daerah paling mungkin/ reaktif tempat
terjadinya proses adsorpsi atau melekat
pada suatu permukaan dan juga dapat
menentukan jenis atomnya secara
kualitatif
 7. Mikroskopi Penembus
Peninjau (STM)
• Mendeteksi pertumbuhan lapisan yang
menjolok adsorpat diatas suatu
permukaan ( pertumbuhan ada
tonjolan atau terjadi tumpukan atom-2
suatu daerah dipermukaan
Yaitu tingkat penutupan pada suatu permukaan dinyatakan sebagai :
Penutupan terfraksi Ө
jumlah tem pat adsorpsi yang terisi

jumlah tem pat adsorpsi yang tersedia

Teknik untuk mengukur d/dt :

a. Flows Methods/metoda aliran gas
b. Flash desorption/laju desorpsi
c. Gravimetry

26
• metoda aliran gas yaitu dengan memonitor
tekanan gas masuk melewati suatu
permukaan dan monitor tekanan gas yang
keluar  perubahan tekanan pada saat
waktu tertentu
laju gas yang diadsorbsi oleh
permukaan
• Laju adsorpsi dimonitor dari meningkatnya
laju aliran gas terhadap sampel yang telah
mengalami proses adsorpsi diberi sedikit
panas.